佳能的半导体设备，包括家喻户晓的OLED蒸镀设备外，还有半导体溅射、光刻机等等核心设备。其中，Canon Tokki几乎垄断了OLED蒸镀设备，其光刻机的市占率约为5%左右，溅射设备市占率很小。

　　一. Canon Tokki有机EL Display制造设备 - OLED蒸镀设备

　　1. 公司介绍

　　佳能特机株式会社成立于1967年，主要经营真空技术应用设备的开发、设计、制造和销售。其在中国大陆、中国台湾和韩国均设有销售支援和售后服务。

　　2. 有机EL制造设备

　　OLED工艺流程分两种：

　　1）玻璃；

　　2）柔性，柔性多了Varnish形成步骤。

　　首先，在基板上形成Varnish和TFT薄膜，然后形成有机和金属层薄膜，最后进行封装。封装之后进行Varnish层的剥离。从前处理到金属膜形成是佳能特机蒸镀工艺部分，除蒸镀外还包括印刷部分，但还未实现量产。

Cluster型有机EL量产设备：

　　主要应用于生产手机的面板；

　　设备中间有机械手，周围有各种处理室，机械手搬运机板到处理室，按照指定的顺序进行蒸镀；

　　对应基板尺寸：G2~G6H;

　　生产节拍：<120sec。

　　Inline型有机EL量产设备:

　　主要应用于生产电视面板；

　　特点：移动性成膜；

　　对应基板尺寸：G2~G8H;

　　生产节拍：<120sec.

　　3. 设备的Line up

　　4. 核心技术

　　最大的优势为RGB Mask对位，其在真空状态下进行对位。

　　二. 高品质大型面板曝光设备 - FPD设备

　　1. Display发展趋势：

　　1）以智能机为代表的高精化；

　　2）TV面板的大型化。

　　2. 为了应对智能机和TV面板的快速发展，佳能推出了强有力的解决方案 - FPD用MPA系列的曝光机。

　　MPA搭载了独立的镜面系统，可兼顾解像力、Overlay和生产性三大指标。

　　3. 性能特性。

　　1）在G8之前的设备（H803）最多只能曝光55“的面板，在进行65”曝光时不得不应用拼接式曝光。由于现在曝光面积拓展，所以还能兼顾2.0um的解像力。目前，只有佳能一家能做！！

　　2）Overlay精度提高。

　　之前设备只能进行线性补正，现在搭载了新倍率补正机构后，可应对各式各样的非线性补正。精度提高10%。

　　3）大型Panel MMG对应。

　　采用MPA Dual Line构成，在两台机器上分别曝光三个65“和两个55”面板，减少换MASK时间来提高产能。

　　三. Canon半导体曝光设备 - 半导体设备

　　1. 半导体设备的销售市场在快速增长，其中以AI、自动驾驶系统和5G通讯为发展基础。

　　2. 佳能的半导体设备主要分为三大类：i-Line, KrF和NIL。其中，i-Line 系列覆盖最广。

　　四. Canon Anelva溅镀设备&真空部件 - 半导体设备

　　佳能安内化以真空技术为基础开发的半导体设备广泛应用于半导体的前道镀膜和后道封装工艺等。

　　1. 设备

　　1）FC7100

　　采用特殊斜角建设，解决了平板建设技术不能解决的超薄膜工艺及对基板表面的损伤课题。

　　可同时搭载两种不同材料的靶材。

　　广泛应用于CMOS、ReRAM和Metal Gate的工艺中.

　　2) IC1060I1060是200mm时代的主要机型，为应对半导体时代对200mm一下的需求，再次推出IC1060设备。该设备可应对多种产品的前道镀膜和后道封装工艺。

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　　3）EL35系列 此系列是佳能安内化首次向中国客户推出的液晶面板生产中所需的MASK和MASK Blanks的设备。此系列可为中国面板厂商提供关键的建设技术，可对应最大的10.5面板。

4）NC7900,NC8000

　　MRAM以磁场的方向来记忆信息，维持记忆不需要持续的电力支持，因此MRAM是解决手机等便携式设备所必须的新型Memory。所以，佳能安内化率先开发和推出了MRAM中MTJ构造的成膜和刻蚀设备。

　　以下是MTJ的一般构造，特点是由多种材料的超薄膜组成。各种材料薄厚的稍微变化会影响成品的最终性能。各生产厂家仍在摸索最佳生产工艺。佳能安内化已有20多年开发经营，其开发的NC7900拥有对各种材料所必须的纳米级薄厚控制技术。NC8000采用RIE和IBE方式，可避免刻蚀工艺对侧壁的损伤。