韩媒表示，韩政府放任尖端技术人才非法跳槽海外，若政府与企业不积极联手阻止，那么已被超越的尖端技术将难以守住。

　　《东亚日报》报导，在尖端产业领域人才严重不足的情况下，韩国大企业员工以虚假理由辞职，跳槽到开出更好条件的海外竞争对手公司，以及泄漏核心技术的案例正在增加。甚至很多企业连员工跳槽到竞争对手都不知道，即使知道后提起诉讼，也因审理程序等原因，不会产生阻止人才流失的效果。

　　报导举例，曾担任LG Display OLED相关事业战略组组长的B某，去年5月辞职时谎称「将跳槽到合作企业」，实际是跳槽到TCL华星。LG Display在4个月后提出诉讼，并在B某辞职7个月后才做出了禁止跳槽的决定。

　　报导指出，即使企业对员工提起诉讼，法院处理时间最长需要1年多的时间。就算公司胜诉，法院下达的限制跳槽期限也只有1-2年，等于没有效力。

　　由于类似事件层出不穷，韩产业通商资源部去年8月表示，将根据《国家尖端战略产业法》引入指定和管理专业人才的制度，若政府将尖端战略产业的核心员工指定为专门人才，企业就可以与他们签订防止秘密泄漏、限制跳槽到海外工作的契约。但是，政府只是嘴上说说，到目前为止，根本没有采取任何追加措施。

　　实际上，韩国政府正在积极采取措施阻止韩国人才跳槽。为了保护韩国半导体机密，韩国法院近日批准SK海力士（SK Hynix ）1项竞业条款禁令，禁止曾在SK海力士从事DRAM和高频宽存储器（HBM）业务的研发高层员工，跳槽至竞争对手美光（Micron Technology）。

　　消息人士透露，上个月首尔1家法院批准了SK海力士提交的1项禁令，禁止该名前员工在7月 26日之前加入美光并为其工作。由于该名前员工违反竞业条款，每日得支付1000万韩元的罚款。

　　自2015年起，该名前员工每年都会签署竞业禁止协议，包括禁止与竞争对手僱用的条款，并承诺在离开公司前，不泄露商业机密。

　　首尔法院表示，该名员工拥有足够的信息和技术能力，可帮助美光在HBM行业的竞争力。为了保护SK海力士在HBM行业中的利益，因此判决禁止该员工跳槽至美光。