东友精密化学再次提高半导体光刻胶价格！涨幅高达20%
摘要：东友精密化学（Dongwoo Finechem）准备提高半导体曝光工艺核心材料—光刻胶(PR)的价格。主要原因是原材料、人力成本等上升。韩国半导体企业表示，很难接受东友精密化学价格上涨。由于半导体市况恶化，韩国大部分半导体企业要么亏损，要么勉强盈利。
阅读：6322023年12月13日 14:26:59
摘要：东友精密化学（Dongwoo Finechem）准备提高半导体曝光工艺核心材料—光刻胶(PR)的价格。主要原因是原材料、人力成本等上升。韩国半导体企业表示，很难接受东友精密化学价格上涨。由于半导体市况恶化，韩国大部分半导体企业要么亏损，要么勉强盈利。
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