主持人

今天下午的会议到此结束，谢谢大家！

深圳大学 李俊锋

薄膜晶体管是显示器中的核心元件，目前的主流技术是SI基TFT，不论是什么都有一定的缺点，此外可见光驱不透明难以实现全透明的显示，而新一代的TFT技术以OLED为代表的非精半导体TFT，有着迁移力高等特点，目前处在高速发展的阶段。in资源苦法，Zn影响成膜质量，因此有必要开发其他的新型的IGZO体系。无论是氧化硅还是双绝缘层都不是我们比较理想的材料，因此我们考虑到另外一种就是铝酸镁，透过率高、漏电流小，绝缘性好，适合做AOS-TFT的栅绝缘层。为了更好地指导铝酸镁薄膜的优化工作，半导体器件的性质绝大部分取决于材料中的杂质和缺陷种类、浓度分布等性质的控制，因此我们将会研究含缺陷的铝酸镁的电学性能，而使用的研究方法是基于密度范围理论原理。
    首先我来介绍一下电性原理，只需要利用基本的物理常量进行计算，即可获得固体的许多基本物理性质。将多离子问题转化为单离子问题，由于该分层是电子之间的交换和相关效率。
    我们的研究方法是铝酸镁等轴晶系的尖晶石结构，O原子以立方秘排堆积排列，同时产生64个四面体间隙和32个八面体间隙。mg原子和A1原子按一定的规律分别占8个四面体。我们首先计算的是缺陷形成能，表现的是缺陷在体系中形成的难易程度，如果越小的话就说明缺陷在体系中更容易存在，我们不考虑缺陷影响的情况下分别计算了负氧条件下和缺氧情况下，结果表明在负氧情况下铝的形成最小。本征态铝酸镁禁带宽度为5.109eV。缺陷Vo的能带结构图中，带隙略有增加，导带能级数有所增加，禁带中出现一条新的杂质能级。缺陷Oi4的能带结构中，带隙减小，价带的能级数增加，导带底电子局域性变强。可以得出这样的结论，存在本正缺陷的铝酸镁仍然保持很好的绝缘性。从电荷布局分析可以看出不同轨道上的电路数情况，从变化分析我们可以分析出缺陷会对附近的原子产生的影响。
    本文利用利用基于密度泛含理论的第一性原理的方法对本征缺陷进行了研究，在不考虑缺陷电荷影响时，缺陷Oi4形成能最小，O-poor条件下，缺陷vo形成能最小。二是带缺陷vo的铝酸镁中，带隙略有增加，带隙中出现深能级，成为电子空穴对复合中心，总体保持良好的绝缘性。三是带缺陷铝酸镁中，带隙有所见效，价带能级数增加，导带底电子绝缘性增强，总体保持良好的绝缘性。四是原子的mulliken电荷布局表明，带缺陷vo的铝酸镁中，ve附近原子的共价作用增强；带缺陷oi4的铝酸镁中，附近原子的共价作用减弱。最后在本文基础上，可进一步对铝酸镁进行研究，也可进一步影响出它的影响力。谢谢！

主持人

下面有请深圳大学的李俊锋，他的题目是“MgA1204中本征缺陷的第一性原理研究”。

北京大学 卢慧玲

在340纳米左右，小于这个波长的都可以吸收。

现场提问

光探测器中，如果用这种材料做的话，它的主要细胞分支在哪里，中心波长是哪一块？

北京大学 卢慧玲

大家下午好，我的题目是“非晶氧化铟镁薄膜晶体管的光电特性研究”。我的研究背景，宽禁带氧化物薄膜晶体管用于大面积AMOLED和LCD显示中。二是在紫外线探测也有潜在的应用。最早研究的是紫外探测TFT，由于氧化锌它的浓度比较高，所以它对可见光的响应也是很大的，它对紫外光有很大的争议，但是像绿光和蓝光也有很大的响应，这样的话紫外可见光的抑制比就比较低，在探测的过程中就会受到可见光的干扰，所以紫外探测有源层的选取选取对可见光没有响应，其次对紫外光小于四百的有较大的响应。一般都是选取氧化铟或氧化镁，这些因素和氧的结合率比较强，右边这个图就是氧化锌掺加的薄膜透过率的曲线。通过加盘量不断的增加，对可见光的吸收也越来越少。镁有一个很低的标准，有负的2.37电子伏，这样和氧的结合能力比较强，也会使薄膜在氧中的能力降低。右边的这个图是随着镁含量的增加，透过率也是在发生蓝移，这个小图是最大宽度的提取，我们这篇文章选取的是镁含量掺杂量比较多的，大概在3.9的有源材料。
    下面是器件示意图及工艺流程，器件是采用栅电极的材料、栅电极图形化、栅介质、有源层、有源层图形化、源漏电极、源漏电极图形化、开栅孔、退火。在黑暗状况下和不同波长转移特性曲线的对比，可以看出在450纳米和400纳米的时候，响应是非常小的，尤其在观看的时候基本上没有响应，也就是说我们做出来的TFT，可以做到可见光盲。第二个随波长减少，光电流增加。第三和积累区相比，在耗尽区具有较高的噪音比。
    对于高灵敏度进行的分析，在氧空位俘获空穴电子具有较长的载流子寿命；空穴在源端积累使源端势垒降低，源端电子注入沟道。在原路电压和光生电流，随着源流电压是有良好的线性度，器件具有高的可探测度。较短的沟长更宜用做高灵敏度的紫外探测。TFT对可见光无响应，对紫外光具有较高的灵敏度，并且光电流随着电压具有良好的紫外度测。谢谢大家。

主持人

下面有请北京大学的卢慧玲

福州大学 黄航

大家下午好，我是来自福州大学的黄航，我的题目是“喷墨打印IGZOTFT中“咖啡环”效应的调控”。我分为以下四个方面进行说明。
    首先，TFT半导体材料对于非金桂、有机物来说具有较高的迁移率、可见光透明、柔性特点，所以在这些形式上都有广泛的应用。OLED薄膜的制备工艺主要有溶液法和真空法，真空法有磁控溅射、脉冲激光沉积、旋涂，另外喷墨打印法是目前研究比较热泪的薄膜制备技术，我们现在的印刷显示，也是印刷电子正在发展的技术。我们诗雅是应用的是压电式的，它是通过脉冲电压作用在压电陶瓷上，使得墨水能够从喷头中稳定的喷出，这种方法可以进行沉积。不需要进行光刻的复杂工作，另外也不适合大面积的沉默。另外材料的利用率更高，几乎没有浪费，但是在我们的喷墨打印中有一个咖啡环的效应。
    什么是咖啡环？首先产生的主要原因有两个，一个是墨可以打印在芯片上，它的接触线不会挥发。另外一个方面是液溶剂在墨的四周，它会从中心往边缘流，这就从中间向边上输送。等到这个液滴干燥的时候，就会在边上呈现出一圈咖啡环的效应，这是印刷显示中不希望出现的现象。
    在解决这些问题中，操作上比较复杂，有些还会带来杂质。通过改变基板的温度和墨水的浓度来改良，也不会引入到新的杂质，工艺也比较简单。我们实验的过程是首先进行芯片的处理，这个芯片是含有一百纳米氧化硅的硅片，进行墨水配制，这边是采用三种金属的硝酸盐或者是粗酸盐，形成透明稳定的墨水体系。然后对它进行喷墨打印，这是我们实验室的喷墨打印设备，这是它的操作界面，可以通过调节脉冲电压的参数使得墨水能够喷出来。最后再进行实验结果的分析和测试。
    现象我们看到的是通过改变基板温度打印出来的墨滴显微镜的图片，基本的温度是25摄氏度的温度，我们可以看到它的边上几乎没有咖啡环，但是这个薄膜的面积比较大，而且在测试的曲线中几乎看不到膜厚。随着温度的增加，都是在三十五摄氏度的时候出现了一些咖啡环，基本上再往上升的时候，咖啡环会更加的明显。而且薄膜四周的厚度和中间的厚度差也会越来越大，产生这种现象的一原因是当基本上温度降低的时候，它液滴边缘蒸发速率下降程度高于液滴中心。在我们的实验中三十五到四十五摄氏度的区间是比较合适的。
    然后我们采用四十摄氏度的温度进行墨水浓度的改变，从中可以看出当墨水温度比较小，0.37度每升的时候，它有一个非常明显的咖啡环，当墨水的温度增大到1.5的时候，我们可以看出基本没有咖啡环，从画面中可以看出这个薄膜还是比较均匀的。
    另外墨水及当墨水浓度增大的时候，表面张力增大得比较小，其中增大的是黏度的墨水特性。黏度的增大主要影响的是液滴中毛细流，会向边缘的毛细边缘减少，液滴中的溶质就不会运送到边缘，所以最后得到的薄膜就比较均匀。
    最后进行电解线路的测试，当墨水浓度比较小的时候，它的性能比较差，当墨水增大的时候，它的电流会增大，这是两个不同器件的具体参数。当墨水浓度增大的时候，器件的性能各方面的参数都有所提高，但是因为我们也是刚刚开始进行TFT，所以相比之前前面汇报的高性能TFT性能还有比较大的差距，所以我们还需要进行进一步的研究。
    基板温度降低，液滴边缘与中心蒸发速率相当。另外墨水浓度增大，阻碍了液滴中向外的毛溪流，两者结合就可以达到调控咖啡环的作用。其次墨水浓度增大，薄弱均匀性提高，厚度增加，载流子浓度增加，迁移率变大。谢谢大家。

主持人

下面有请福州大学黄航。

中国电子科技集团公司第五十五所 赵丽

对于窗口我们主要用两种屏蔽材料，一种是镀膜的屏蔽玻璃，它既起到反射的作用，又起到屏蔽的作用，它的RTO跟金属能够很好地搭接，另外一种是透明的金属丝网。

现场提问

结构屏蔽材料是什么样的？

中国电子科技集团公司第五十五所 赵丽

是的，它的前屏如果不做任何处理的话，后面的能量，通过小窗口是能够衍射出来的，我们衍射的能量非常低。

现场提问

管卡里面的卡可以起到很好的阻挡作用？

中国电子科技集团公司第五十五所 赵丽

我们基本上是金属外壳，屏是很大的开口，所有的电子能量主要是通过窗口往外辐射的，它的窗口如果不进行屏蔽的话，所以做屏蔽的时候要放在完全封闭的环境中，才能进行有效的处理。干扰源的大小是单独对各种的显示屏做的分析处理，有些图在相同的驱动下，不同的时间对干扰效果是不同的。

现场提问

有没有做过显示窗口向外辐射的能量跟管卡相比，哪个要大一些，他们之间的差异大概是什么？

中国电子科技集团公司第五十五所 赵丽

大家好，我的题目是“一种液晶显示器的电磁兼容设计”。作为液晶显示器，应具有高可靠性，能够在娱乐、工业、交通、教育等各个领域的各种复杂电磁环境下，正确地、不受干扰地工作。文章针对液晶显示器应满足的电磁兼容2要求，提出了液晶显示器的电磁兼容设计方案。液晶显示器的电磁兼容设计时，不仅要考虑液晶显示器与其他分系统能够正常工作，并具有不受其他设备的干扰，同时又不对其他设备产生影响，还要考虑雷电、静电放电等各种复杂电磁环境对液晶的影响。环境分析与设计要求，实验类别有雷电类、静电放电类、电磁兼容类。
    电磁兼容设计方案有三个，一是设计思想，二是电磁干扰抑制技术，三是明确液晶显示器的干扰源及初步处理措施。
    首先是设计思想有两个，首先我们要明确电磁干扰的原因及影响大小，二要采取相应的技术措施加以解决。电磁干扰抑制技术设置四个方面，滤波、设置浪涌保护期、设置静电保护期、液晶显示器、屏蔽和接地。在屏蔽和接地的这个技术当中对于干扰源和敏感源进行评比，能有效地抑制干烧。有意评比体自身阻抗较大，屏蔽材料应该采取铜、铝等。针对液晶显示器的结构，屏蔽机的电磁能量泄露途径归纳为显示窗口和缝隙。显示器口是电磁波泄露的主要途径，也是容易受到外部电磁波干扰的主要窗口。在液晶显示屏前负荷一层窗口屏蔽材料，以获得较完善的屏蔽。目前，根据屏蔽材料不同，显示窗口电磁屏蔽技术主要有两种，一是采用透明金属丝网玻璃和采用镀膜屏蔽玻璃。
    滤波的措施，在模块的各级电源输入和输出端设计有滤波电容，确保电源输出稳定性和可靠性。在电路设计时，旁路电容尽量靠近芯片，减少噪声。电源滤波安装在屏蔽体的电源入口处，并对电源滤波器加以屏蔽。
    设置电涌保护期，这是电子设备雷电防护中不可缺少的一种装置，常见的器件有充气放电管、压敏电、二极管等等。
    明确了上述的四个抑制措施，干扰源有以下几个方面，液晶显示平的TCON板和信号线、液晶显示屏的显示面、总控板的屏信号线、图像板的信号线、电源板，是用导电材料屏蔽，并且安装在金属壳屏蔽，金属壳材料选择铝合金。电源板的电源入口设置电涌保护装置，设置静电保护装置。以及电源线和信号线。
    采取上述措施之后及进行各项实验表明符合我们的指标要求，这是我们做的针对电源线的传导发射，红线是限制，蓝色的曲线是测试值，可以看到蓝线在红线下面是符合标准要求的，达到我们设计的预期指标，这是它的测试结果。实验证明上述措施是有效可行的，在实际应用中要注意镀膜屏蔽玻璃与外壳的导电搭接、电源滤波器的安装方式、才能使上述的作用有效发挥。谢谢大家！

主持人

下面有请中国电子科技集团公司第五十五所赵丽。

北京大学信息工程学院 梁婷

今天想跟大家分享近期的研究进展题目是“顶栅自对准a-IZO薄膜晶体管制备工艺研究”。
    近半个世纪以来信息技术不断地发展，影响着人们生活的方方面面，而作为信息技术的一个传播媒体，显示技术目前来说也有了巨大的发展，影响着人机交流的体验感受。驱动方式和显示技术都经过了很多的过程，作为有源显示的核心器件薄膜晶体管在其中发挥的作用是巨大的，特的发展在一定程度上直接影响着显示技术的发展。接下来的这幅度简单的介绍了一下薄膜晶体管的发展历程，从图中我们可以看到1930年第一个晶体管的发展拉开了薄膜晶体管的序幕，然而真正意义上第一个薄膜晶体管的诞生于1960年，自此以后硫化物、氧化锌、有机、硅机到现在的金属TFT有了巨大的发展，对于目前的金属氧化物TFT来讲，大家研究比较多的是a-IZO，随着高品质不断的发展，a-IZO能够满足需求，这个时候a-IZO具有良好的特性进入了人们的视野，也正是由于它具有好的特点，使得它所制造的a-IZO具有阈值较负、不易关断、关态电流大，这是我们研究的主要方面。除此之外为了降低我们器件的成本，减少器件制作工艺流程的复杂性，我们的薄膜晶体管结构的发展也经历了非常多的过程。图中上两种结构为顶栅结构，我主要介绍的是顶栅自对准，由于它自身的特点使得它能够工艺简单，有效见效寄生电容易于小型化，同时也是因为它的结构原因，使得在有源层生长结束之后我们容易对有源层产生影响，同时它的有源层也容易受到背光层的影响，从而成为现在亟待解决的主要问题，我们这次的实验就是基于a-IZO这个材料和顶栅自对准的结构进行的。
    接下来主要向大家介绍一下我们实验的内容和结果，如图所示是我们选择的顶栅自对准器件的示意图，从图中看出不管是从有源层的材料来讲以及它自身具有的特性，还是说从它的借给上来讲，a-IZO还是受栅介质，还是解决有源层这一层，能不能利用简单有效的办法，使得有源层得到更好的保护。我们顶栅生长的流程和普通的顶栅自对准相似，但是只是在有源层形成之后，对它进行了含O等离子的处理，形成之后进行氮等离子的处理，我们对结果和性能做出简单的测量。这个图是基本的电学性能，从图中左上角可以看到红色的是没有经过我们的含O等离子器件，这和a-IZO本身材料性质是有关的，并且可以看到它的电流非常大。但在我们经过含O等离子器件，就能呈现出比较好的开关特性。与此同时我们还对器件的输出特性做出测量，从输出特性可以看到，在小的时候没有出现明显的电流集聚效应。通过氮离子能够为TFT形成较好的联络。之后我们对器件的基本电学参数进行提取。
    我们对器件的IV和CV进行测量，可以看出鉴定性密度的特点，从公式可以看出鉴定密度是直接和曲线中的漂移量成正比的，从图中可以看到不管是IV还是CV曲线，几乎都不太出现飘移的态势，我们所制备的器件它的密度是非常小的，这也是我们SS比较好的主要原因。器件的NBS和PBS基本上都不出现飘移的态势，这些基本上都是我们现在所追求的高稳定性特点。这就是我今天想讲的关于我文章的一些内容。
    最后作个简单的小结，我们这次实验采用不一样的技术，一个是对有源层进行了含O等离子体处理，得到了较好开关特性和应力稳定性的器件。二是对源a-IZO进行了氮等离子的处理，得到了较好良好的器件源漏。其次是通过了本文方法制备的顶栅迁移率达到14.57，亚阈值斜率达到0.18。谢谢大家。

主持人

下面有请北京大学信息工程学院梁婷。

北京大学 张晓东

很荣幸来到这里跟大家分享我做的工作。首先是背景介绍，自从提出了IGZO提出之后，它具有很高的迁移率、高透过率、柔性。 
    我现在主要做的是ESL结构和BCE结构，从两种结构的比较来看，BCE它工艺简单，能够降低成本，但是在BCE过程中有些难点，以及钝化层会存在稳定方面的问题。左边的这个图是稳定性的研究，这个稳定性不仅仅跟栅介质有关，而且跟环境的影响都有关系。栅介质一般都是用二氧化硅或者氮化硅优质材料，对于优化二氧化硅栅介质的条件，对于提高器件的稳定性，是值得研究的课题。
    接下来介绍一下我的实验介绍，首先左边是一个BCE的的TFT器件结构示意图，这些工艺流程，首先是玻璃衬底，PCE生长过程中会有果敢的分压，接下来的有源层也是释放的蚀刻。最主要是生长过程的分压。含量比可以控制分压，大概在0.93、0.49、1.86的条件。
    接下来给大家看一下我们的结果和分析讨论，在不同的栅介质生长条件下，基本的曲线和条件不同。右图是一个测试可以看出，随着分压的增加，阈值增压有正向趋势，栅介质是拿样片测的，也是有一个下降的趋势。提取的特性及迁移率可以看出，随着压力的增大，特性有所变差，迁移率也是有所下降。可以看出当具备栅介质的过程中，薄膜扁平操纵是有所增大的，随着的增加，薄膜的增长速度也是有所增加的，在生长的过程中有可能会引入大量的氢，这个氢主要来源硅烷，如果硅烷分压增大，氢有是有可能增大。从AFM这个图中看出，表面粗糙度是增大的趋势，栅介质是先长，后面会有一个有源层，如果下面的层不好的话会对再生长的有源层提供不了平整的表面。可以看得出如果下面的这个介质表面粗糙度越大，有可能会引起更多的缺陷。
    当升级的电压从20伏扫到30伏，这个迟滞现象不仅仅与栅介质界面有关，考虑到测试的环境是相同的，可以认为是界面占主导的作用，可以发现器件的效果更下。
    对稳定性方面做了测试，所有的条件都是在真空的环境下测试的，所以就要排除环境下的影响低硅烷分压下制备的器件，在PBS下阈值电压漂移量更小。低硅烷分压制备的器件，有更好的界面态以及更低的陷阱态密度，从而有较好的稳定性。
    最后是总结，本文研究了硅烷分压对器件特性及稳定性的影响，结论是通过降低硅烷分压，器件能获得更陡的亚阈值摆幅和更大的迁移率。低硅烷分压下，薄膜表面粗糙度低，在PBS下阈值电压漂移量更小，可能得益于更低的栅介质和有源层界面态密度。谢谢。

主持人

下面有请北京大学张晓东。

深圳市华星光电技术有限公司工程师周星宇

有，所以要蚀刻掉，达到比较合适的厚度。我们通过工艺的萃取，可以保证没有。

主持人

我们掺杂的物质有没有渗透的可能性？

深圳市华星光电技术有限公司工程师周星宇

大家好，我的题目是“新型固相晶化法制备多晶硅薄膜晶体管及其性能优化”。固相晶化是有别于ELA的一种多晶硅化技术，指通过使固态下的非晶硅薄膜的硅原子被激活、充足，使非晶硅薄膜转化为多晶硅薄膜的晶化技术。但结晶过程时间较长，为了量产通常会将结晶温度升高。
    和传统的技术比，我们新型的固相晶化技术可以使最短的时间内成为多晶硅膜，我们的方法是可以在比较短的时间内使得薄膜完全结晶。
    这个技术的关键点是在TFT制成之前，与我们传统的制作是一样的，流程主要包括成晶，粒子的掺杂，然后是结晶，去掉掺杂，等等。在我们这个方法中有以下几个关键的制成对它的影响比较大，三个因素影响着结晶的比例和速率。因为牵涉到蚀刻，就有一个蚀刻均匀性的问题，以及最后离子掺杂的问题。华星自主开发的技术迁移率达到50%，在非金属诱导的结晶技术中，固相晶化的性能是最好的。IDW2015我们在国际上首次报道了这项新技术，目前已经申请了相关专利19篇，我们在不断的完善提高它。对于不断的完善首先第一步我们对这个SPC结晶工艺的改善，最主要是两方面的改善，其实我们还做了别的方面比较小的改善，第一是掺杂了改善的条件，我们以A和B的方式来改善，A是改善以前的，加入了一定的时间，结晶率不是很高，如果改善它的掺杂条件，在相同的结晶时间内，它的结晶率可以更高，并且我们可以认为它达到了完全结晶的状态，需要的时间就更少。第二个改善规模的整体条件，我们通过了反复的萃取，比如对比改善前后的条件，可以发现不光可以把完全结晶所需要的温度降下来，也可以把时间缩短，这两个都是很不容易的。目前的工艺也是可以在650摄氏度推广15分钟就可以完成完全结晶。
    改善结晶的工艺，降低了完全结晶所需要的温度和时间，它其实就是节省了成本，也保证了质量。从我们在改善之后，我们制作的这个情节接触比较好。漏电的降低主要归结于多晶硅薄膜内部缺陷的减少，是的载流子传输更为顺畅，也减少了漏电的路径。另一方面是可靠性的改善，薄膜结晶品质的提升，可以改善电信，而且一定程度上改善了可靠性。结晶质量改善的情况下，如果改善结晶工艺，它的薄膜结晶质量变好以后，它甚至可以改善到2.5伏，但是这个值还是很大，我们不是很满意。接下来就是怎么样提高我们方法的可靠性，我们发现其实这两种方法是不太一样的，我们又做了大量的工作改善它的可靠性。主要包括三个方面，GI沉积前我们做了一些改善，另外调节GI的沉积条件。这是改善以后的测试图，从数据看出我们关注的PPTS由改善前到改善后的2.5伏，优化以后可以达到一伏，另外是NBTS虽然不是很多，但也有一定的改善，这都在一伏以内，达到了比较好的可靠性。
    我们采用了顶发光的结构，2T1C电路驱动，NTFT作为开关TFT，PTFT作为OLED的驱动TFT。对于这项技术我们进一步的开发，既然做成了这样的技术，它与我们目前8.5代线的兼容性更好，这个技术我们是刚刚在研发之中，只是做出来一个电信，它的器件性能还不是很好，有待于进一步的优化。
    最后把OLED面板删除，我们得出的对比，我们的技术具有均匀性好，适用于大尺寸，可以制作CMOS，电性可靠性优良等优点。它的工艺可以更容易实现窄面框，未来将用在量产上，需要进一步的降低它的温度，优化器件的性能，使它成为一种高性能、低成本的技术。谢谢大家。

主持人

下面有请深圳市华星光电技术有限公司工程师周星宇，有请。

台湾应用材料台南显示器研发实验室主席 林宛瑜

给不同氧含量以后，我没有量过，其实没有差别，最后量出来的IS是没有大的差别的。

现场提问

我们在银做ITO，加入氧气以后，银会不会氧化？

台湾应用材料台南显示器研发实验室主席 林宛瑜

这部分我还没有深入讨论过，没有办法回答。

现场提问

怎么一次蚀刻完？

台湾应用材料台南显示器研发实验室主席 林宛瑜

因为我们不是蚀刻的专家，我们自己是手动式的做蚀刻，没有这些蚀刻的设备，我们只是做一个标准的测试。

现场提问

ITO怎么蚀刻的？

台湾应用材料台南显示器研发实验室主席 林宛瑜

低的含量下很难结合成水气，再形成表现。

现场提问

氢和氧难道不会起反应吗？

台湾应用材料台南显示器研发实验室主席 林宛瑜

比较厚的ITO我们才会加氢，让它比较好蚀刻。

现场提问

如果用这个理论推算的话，是否所有的氧化物都可以加氢。

台湾应用材料台南显示器研发实验室主席 林宛瑜

大家好，我代表台湾应用材料跟大家讲解我们的科研成果。
    发射层第一个状况会反射，第二个会穿透，反射的光是我们希望要的，如果是一个穿透的状况，就可以顺利的达到这层表面，银的反射面也是特别的高，这也是我们很希望的状态，希望可以顺利的穿透，然后达到我们的表面，我们不希望的是什么呢，在这个ITO里面传导的时候及可以被ITO吸收掉，可以减少我们最终反射出来的光。所以在这个结构里可以减少吸收的程度，这就是我要提到的是如何做到同时可以让反射率最高，最大化，又同时可以保护银不会被氧化。
    我们之前是使用的平面板，在2014年的时候所有的PB全部转换成旋转板，旋转板的差异在哪里，我们搭载的58个系统用我们家的旋转板材，目前使用的材料都有旋转板的提供。
    旋转板这边是一个板材，材料会不停的旋转。平面板是一个大块的板材，后面是有磁铁会不停的移动，控制它的速度跟效果。我们可以看到这个磁铁其实它是有间断的，旁边是边界，边界跟中间会有不一样的表现，所以在边上的部分消耗的能量会比较低，所以最后会有凹进去的状况，最后的板材使用率也会比较好。旋转本是一个连续的状况，没有开头跟结尾。所以它的消耗是一个非常均匀的消耗，它会最后一样很均匀的，最后慢慢的变瘦，但是还是圆柱的状况。旋转板从头到尾都是非常干净的。旋转板是很均匀的消耗，所以从头到尾都是相对比较稳定的状态。
    另外一个优点是磁铁在旋转板中也可以控制，所以我们控制这些旋转板的磁铁来达到比较均匀的状况，另外我们把跟把之间是有缝隙的，所以气体可以比较均匀地流动，如果气体不均匀的话，反映当然不会均匀。这边还有的是刚刚说到的平面板比较容易发生状况，旋转板是不会有的。
    我们使用板材到不同程度的状况，大家可以看到这四个数据，可以看到板才从头到尾都是维持一样的洁净度。加上一些磁铁的作用会有不同的规模方式，这都可以在我们家很容易的操作。另外因为我们是圆柱状的，可以轻易地移到后方，这个好处是如果你是整个舱体的状况，也可以维持。当然我们可以用不同的角度，来控制不一样的效果。
    ITO的特性有多好呢，一般ITO分两种制成，一种是水制成，一种是氢氧制成，氢它是一个干扰因子，让ITO比较不容易结晶，最后比较容易蚀刻。氧是容易遗漏到养原子，我们可以让它比较完整。氢跟氧制成可以很顺利的分别控制氢跟氧的含量，但是如果是用水的话，这个比例就一定是二比一，不会有其他的比例，气体的矿可以用一般的气体MFC来控制，如果用水气的话是相对比较难控制的气体，要用特殊的零件再来控制这个水气地所以我们建议使用氢跟氧的制成，最后做出来的膜比较好控制，而且比较均匀。如果我们加了一些氢气的话残留就没有，同时因为我们家的氧气是固定的，所以最后的RS，构造电阻的表现还是非常的均匀，不管你加多少的氢含量，都会维持均匀的状态。同时这边是穿透率的表现，穿透率的表现也是很均匀，因为我们给的氧是一样的。
    回到我们的光学特性，因为我们需要的是光学特性，刚刚有讲到在ITO反射穿透都是好的光，所以就把穿透跟反射的光全部加在一起，使用不同的氢含量和氧，我们可以看到客户有不同的要求需要的氧含量是不一样的，最后都可以达到好的效果，如果可以控制氢和氧的含量，都可以达到非常好的穿透和反射值。
    这是另外一个例子，我们做了两个不同氢含量的例子，在没有氢含量的时候，ITO的吸收率降低得比较快，在最佳化状态的时候，它不管是刚做完膜还是怎样，差异都会非常的小，最佳化状态的时候几乎没有吸收了，也就是说如果把这层膜度在上面，它的穿透加反而会接近百分之百的状态。另外我们也要提到我们的膜是可以做到非常均匀的，尤其在磨膜的时候，均匀度是很难控制的，因为我们会有很稳定的表现，所以我们的膜厚表现会相当好，穿透率的表现也是非常的好。
    最后告诉大家的是我们完成的表现，在完成前要跟大家说为什么要加ITO，我们有一个样品，度膜之后马上要量出来，过一个周末再量一次，不管是所有的波长，全部的反射率统统下降，很明显的显示出它的膜产生变化，而且它的表面有一些东西让它的反射率变得不好。当然不希望显示器用了一阵子光是越来越弱，到最后没有光了。另外一个例子是不同的温度下都会起雾，这是营养化，没有好好保护它的话反射率会降低，而且高度会增加。
    所以我们又做了一个试验机，不同ITO的厚度可以看到起雾，其实可以大量地减低，不同的ITO一样可以抑制起雾。我们不止可以拿去放几天，另外还有一个比较破坏性的测试，我们把撒了一些盐水在上面，然后再拿去毁，这是最强烈的破坏方式。紫色线表示是用盐水泼过，紫色虚线的部分是盐水泼过再损毁的状态，第一个没有度ITO的膜量不出来。因为ITO膜厚的不同，当一个ITO大之后的稳定和表现都是一样的，就会有非常好的保护，不会被氧化。因为我们的ITO最佳化之后，吸收度会降到最低，我们不同的养含量都是比较低的，最终的反射度是比较好的状况，调到比较好的状况，之间的差距也是比较小的。
    我们不止有做ITO的研究，还有探讨说怎么样最薄的银可以达到最好的效果，业绩的要求在94%以上的反射率这是他们需要的，我们可以看到我们银的厚度在80纳米的时候，可以超过94%的。到一千以上达到饱和，再加上一个厚度就没有意义了，因为它已经达到最大值了。
    ITO膜氢跟氧好好地控制就可以达到最佳化，反射率也是超过业界的标准，我们的膜因为是很均匀的关系，达到八百就可以超过要求。我们可以做出不同磁铁的控制，得到比较均匀的膜。ITO可以分别控制氢和氧，最后得到比较均匀的膜，比较低的吸收率。最后可以让银受到保护，反射率也可以在大于80的时候，达到符合业界标准的反射率，其实我们也超过业界表现。谢谢。

主持人

下面有请台湾应用材料台南显示器研发实验室的林宛瑜主席。

群智咨询 陈丽娟

从一七年来看比重维持在20%到25的水平，因为产能没有增加，所以它真正贡献到市场的量还没有办法增加，LTBS提升到40%的水平。

主持人

欧盟类的市场份额的比重变化是什么样的？

群智咨询 陈丽娟

      首先讲一个比较接地气的话题跟大家开场，今天想要分享的话题是关于手机涨价的话题，我想大家都知道今年整个面板行业，手机涨价的声音不绝于耳，那么涨价到底能持续多长时间，下面由我给大家带来解读。 那么在正式进入报告之前我先给大家展示一组数据，这组数据是五寸面板的价格，从去年年底到今年二季度，整个涨价的趋势非常明显，相比年初现在五寸价格基本翻倍，在三季度整个涨幅也是不断在推高，那么这就是现在目前面板涨价的大致情况，接下来我再通过对市场的回顾，对这次涨价的原因分析，来最终判断这次涨价最会维持到什么时候。 首先回顾市场，我们站在宏观的角度先看一下，因为经济是大前提，根据国际货币基金组织的预测今年整个全球经济维持低速增长，分区域来看，欧美发达国家整个经济复苏的形成是比较缓慢的，新兴市场及发展中地区，尤其是亚洲的新兴市场和发展中国家，以中国、印度为代表，整个经济增速是高于世界水平，但是结合中国实际的国情来看，虽然说它的GDP增速比整个世界水平要高，目前整个中国经济很大一部分还是房地产在拉动，实体经济没有得到很好的改善。 接下来我们再看拉美地区，尤其像巴西，整个经济是呈现负增长的状态，根据对手机市场出货的数量追踪发现在拉美地区布局比较多的手机品牌，也确实因为受到了经济环境的影响，整个销量出现了很大的下滑，所以我们说整个经济的情况在一定程度上也反映了整个产业的发展趋势。所以从整个全球经济的低速增长的状态判断，经济的低速增长没有办法支撑整个手机市场的快速增长，接下来我们看具体数据，果不其然根据全球智能手机出货的数据显示，今年上半年全球智能手机出货仅5%的同比增长，接下来我们刚刚也有讲到中国的部分，中国智能手机整个在今年上半年是实现了接近15%以上的同比增长，刚刚有提到中国的经济状况实体经济还没有特别好转，那为什么今年的中国智能手机可以成长这么快呢，我们也来分析一下它的原因。 首先给大家展示的这组数据是中国4G移动用户渗透率的走势图，我们可以看到从一五年年底整个4G用户的渗透率只有30%，到了今年上半年整个4G用户的渗透率达到45%，我们预测今年4G用户的渗透率将提升到60%以上。从一五年开始4G的用户量在加速增长，2G、3G的用户量一直在下降，更多的2G和3G的用户正在转换到4G。这就会带来一部分的市场需求，因为原本使用2G和3G的用户在转换到4G的过程当中，因为以前的手机可能没有办法支持到4G的功能，所以就带来中国智能手机成长这么快速的推动力。所以我们也就可以看到在现在智能手机相对饱和的情况下，未来的需求主要就来源于更新换代的需求，根据我们的测算一六年应该大概有四亿的手机是来自于更新换代需求，已经超过了总体需求的80%以上。 每家品牌的表现，今年OPPO、Vivo市场预期非常好，我们在总结今年它为什么得到这么大的成长，刚刚前面有一点没有讲到一五年和一六年4G用户在不断的增加，一五年三大运营商在推动4G转换的过程主要从大城市开始，一二线大城市的用户数是第一批，一六年在整个运营商补贴政策的环境下，三四五线城市的4G用户也开始快速的上升，那么在三四五线城市整个渠道优势最明显的就是OPPO和Vivo，人们的主要行为是去实体店。在这样4G大转变的环境下，oppo在渠道优势的影响下实现了超预期爆发式的成长。到今年二季度整个市场占有率超过了25%以上，同时比较弱的品牌也出现了一定程度的下滑，比如小米、联想、酷派，他们的比重都是在降低的。 我们现在看一下涨价的原因分析，这次涨价主要是缺货，为什么缺货，我们总结了几个主要的原因，首先是CPD在去年年底关闭了一条4.5代线，每个月向市场供应5寸的产品在三到四百万片，去年年底三星关掉了一条5代线，原本是没有做手机的产品，但是关掉以后影响到原本的订单需求转移到其他的面板厂，会导致其他面板厂手机产能受到挤压，这个部分第四代线的关闭是导致供给减少最主要的原因，同时面板厂也在积极寻求产品升级。比如说做产品一线产品，那么这些产品相对于以前产品的难度更高，损失更大，对产能也是损耗。今年年初台湾又发生了一次地震，当时也受到了一个季度的影响。同时面板厂也在调整一些策略，收缩对外资源的释放，所有的这些原因导致整个面板市场产能减少。 接下来再继续从生产的角度来看，从一六年来看，整个终端的生产量也是呈高速的增长，尤其到了第二季度，整个生产量已经同比超过30%，那么在这种缺货的前提下，加上前面讲到的oppo、vivo超预期的增长，对供应量的增量，使得供应量的供货节奏打乱，品牌终端加大了面板的采购量，扩大了生产需求，加速生产和提前生产的特征非常明显。所以当终端放大自己的需求，就会出现缺货的缺口越来越大，从而也推动了手机面板的涨价还在加速上涨。 那么这两个数据直观地对比一下，生产量和出货量，首先给大家的概念是中国大陆手机的生产量占到全球手机生产量90%以上，包括其他的海外品牌。很大一部分都是在中国这边生产的，所以从中国大陆手机生产量的数据来看，今年上半年整个大陆手机生产量的同比增加是达到了42%，但是我们再来看蓝色的这个柱子，这个是全球手机出货量的数据，今年上半年来看，全球手机出货仅实现了2%的增长，目前手机生产已经大幅高于整个终端的出货。这就代表着从终端的角度来讲，整个库存位较高。从需求面来看的话今年全球手机出货量大概会在20亿，跟去年是持平的。全球智能手机的出货预计在14亿，同比增长5.3%，即使在中国有运营商4G补贴的推动来看，它的同比增长也只有9.2%，这样的一个手机出货速度是没有办法支撑刚刚讲到的手机生产量的快速增长，所以我们非常担心到了第四季度整个终端的库存水位太高。 这里我们做了一个供需比的分析，三季度是内外销被迫，整个市场的热度还在持续，到了四季度生产量大幅高于出货的情况下，我们要警惕四季度整个终端获得积极性会转弱，需求下行的风险会变高，那么这个时候整个供需关系就会发生变化，供需会趋缓，这个时候手机面板的价格也有可能出现一定的松动，当然这个是从整体的供给和需求来看这个市场。分技术来讲整个全球的产能在持续收缩的，所以我们判断供需偏紧还会继续维持到明年上半年。LTBS的部分因为有很多新线在今年四季度实现量产，天马的六代线等，这都是新的LTBS的产能，一旦释放整个市场的资源就会变得宽松。从整个大的状况来看，最后我们认为是LTPS因为新线产能的释放，可能会影响整个供需关系发生一定的变化。谢谢。

主持人

下午会议继续进行，首先请陈丽娟上台演讲。

主持人

今天上午的报告到这里就结束了，首先感谢各位报告人给我们带来的精彩内容，让我们互相交流学习。今天我们能有这样的便利生活，便利地做任何事情，最重要的因素不是得益于通讯，也不是得益于软件，而是得益于我们面板的技术，如果没有今天面板技术的发展，也就没有今天的电子生活。谢谢大家！

中国电子科技集团公司第五十五所 张白雪

这是做的矫正，从八位转成十位，然后最后测的时候也会从内部调这个值的大小。

现场提问

数据信号是八位的，DAC是十位的。

中国电子科技集团公司第五十五所 张白雪

这个输入接口采用的是数字输入接口，是0到8的数据输入接口，内部采用DAC，转成了模拟的信号，这个DAC电压通过内部的接受器来产生，通过这个比较的结果产生电压是0，然后再输入到相同中去，如果是FF，输入的电压是最大值，最大值传到箱体。

现场提问

这个系统大概是怎样的算法，怎么检测，怎么存储，怎么驱动？

中国电子科技集团公司第五十五所 张白雪

大家好，我是来自南京五十五所的张白雪。OLED微显示技术是以单晶硅作为有源驱动背板，然后蒸镀有机材料完成二机发光二极管阵列的制备，最后结合薄膜封装技术形成的新型显示器。主要应用在头盔，商用的智能眼镜和个人娱乐的东西。
    我们这一款驱动芯片主要的架构是分为八位数据的既有输入降低频率，内置三路电源。我们第一个模块是输入数据的分离，分为奇偶两部，可以实现数据的同步。还有像素电路，采用的电压型像素电路。还有一个是数据采样与比较的结构，右边是整体电路的架构，比较新模块，DAC的电压就会存储到像素的电路中去。
    下面是行列驱动，都是一些基本的电路达成的，右边是一个仿真的电路。还有是十位DAC的设计，内部集成了DA，采用的是6+4的分段结构，低4位用二进制位权结构DAC，高6位用温度计解码结构，使整个系统在性能和面积上能取得一个的平衡。
    12C可以显示调节和显示的位置，这是硅基OLED驱动芯片整体仿真，在第一行的时间我们进行数据的比较，第二行的时间输入电流。
    这是整体芯片的版图结构，中间是像素的阵列，上下是列驱动，旁边是行驱动，一些温度检测的模块。这个版图在工厂加工完以后，在上面制作出OR器件，最后输入器件发光，产生一个微显示器。
    最后总结一下我们芯片的结果，尺寸是0.96英寸，像素是14微米，分辨率1440-1060。电压是1.8伏5浮。均匀性是大于85%，最大时频率是121兆。谢谢。

主持人

下面有请中国电子科技集团公司第五十五所张白雪，她的题目是《一种高分辨率硅基OLED驱动芯》。

武汉华星光电技术有限公司 杨跃虎

不一样，这里面我们也注意到其他方案的原则，实际上我们可以大概地讲一下，苹果是互溶式的，有发射极、接收极。干扰主要是持续的分时的问题，如果可以把延迟效益降到最低，它的干扰度就会越小，这个和RC的降低是一样的，我们也考虑到CR的降低会牺牲到很多，对于工厂来讲要考虑成本方面的因素。

现场提问

驱动和小米手机的驱动方式是一样的吗？

武汉华星光电技术有限公司 杨跃虎

首先来简单地介绍一下fullin-cedl简介，针对现有的一些手机进行数据上的比对，针对性能化来看目前可以赶超各个系统。
    下面介绍一下层次结构，我们外部TP结构厚度上是差不多的，但是针对于强度化受影响会降低强度。fullin-cedl最大的优势是到了TFT层，对于客户的结构设计是非常简单的。
    触控性能的考量，噪音比是信号与噪声的比例，线性度是划线动作与实际响影的一致性。触控性能不仅跟RC有关，我们作为面板厂更多的是放在触控性能的设计。在这个环节列出目前比较常见的层次结构，在这里最关键的层次是m3，这里我们会对m3的膜厚进行分析。
    经过大量的数据测试，膜厚对性价比的影响可以看到，减少BITO和M3之间的电容和减小M3电阻有助于提高SNR。对于M3电阻的影响，可以看到并没有电容影响那么大。针对触控性能线性度、灵敏度都选用一些图形来作为参考，我们对数据进行测量后发现具有对比性能，对比组条件膜厚的逐渐降低，电容就逐渐增加，线性度逐渐变差。对于灵敏度我们看到目前的灵敏度表现得并不明显，现在都可以达到三到七的涵盖。抖动也是呈现相同的趋势，主要是抖动它都是有一点距离和划线距离的偏差。精准度也是同样的趋势。
    接下来我们就探讨尺寸对TP性能的影响，目前针对中小尺寸有研究，我们制定出常见尺寸规格的方案，尺寸从4毫米到4.5毫米左右，到接近5毫米。基本的参与就没有那么大了，对于线性度和精准度的影响是有趋势的，随着尺寸逐渐变大，其对应的线性度逐渐变差。尺寸越小，线性度越好。灵敏度的影响也是同样没有太大的影响，三种方案都可以看出差不多。抖动精准度也是相同的趋势，随着尺寸逐渐变大，对应的抖动偏差会越来越差。
    这样的话接下来我们就要总结，我们可以看到前面膜厚增加，成膜时间从而降低产能。尺寸减小，接触通道越多，价格越昂贵。谢谢。

主持人

TFT和有源层的材料是至关重要的，但是和器件的结构也很重要，比如说沟道的宽高比，或者在有缘层和绝缘层的关系等等，有些没有告诉我们这个器件的具体结构。比如说开关比和器件结构是有大关系的，不光是决定有缘层，因为器件的结构沟道的宽高比都会影响到漏电流，漏电流的大小直接影响好坏。可能因为没有更详细的资料，讨论起来也许会有一些困难。有请武汉华星光电技术有限公司的杨跃虎，他的题目是《内嵌式接触技术Sensor最佳设计方案》，有请。

北京大学董俊辰

我也做过薄膜发光光谱，氧化锌的光峰值比较低，光也比较大。铝锌氧掺入到氧化锌之后，上升的斜率比氧化锌要高，但是掺上钆之后斜率更高，荧光光谱也是在实验室下做出的。

现场提问

氧化精掺杂之后荧光还那么好吗？正常来说氧化锌的缺陷非常多，因为不是单晶，但是从我看出是非常好的设备做出来的单晶氧化锌？

北京大学董俊辰

夏普和LCDL两个公司合作，具体来说现在很难界定到底是结晶还是非晶，因为它在电镜上看是呈具有结晶的，但是在测LRD结晶又不是很明显，所以现在很难界定，而且它的一致性又很好。

现场提问

钆是多晶态的结构，有没有对比过复活氧化物，多晶态好还是非晶态好？

北京大学董俊辰

如果说钆加入铝锌氧体系，对LRD没有影响，证明没有掺进去。但是我们加入进去是黑晶的。

现场提问

现在材料是掺杂的还是混合的状态？

北京大学董俊辰

按照原子比是氧化钆占1.5左右，勇于的铝和锌相对来说都是比较低的。

现场提问

钆这个金属怎么样？

北京大学董俊辰

我将从四个方面对研究内容进行阐述，首先是研究背景。
    以下四幅图是我找一五年各厂商找到OLED的显示成绩，分别是京东方和三星的镜面显示和透明显示以及LG的壁纸显示。我们可以畅想一下透明显示，将来我们的写字公司可以给可以养鱼的客户提供一种产品，这样可以节省空间又美观时尚，并且可以给客户带来更好的用户体验。所以我们认为OLED的现时是非常有市场前景的。
    OLED所研究的薄膜晶体管，在像素电路中起到驱动OLED发光的作用，那OLED对晶体管的性能又有较高的要求。薄膜晶体管到目前为止有哪些进展，我们可以看到上面这张图是比较有代表性的，几种薄膜晶体管的年代图，首先薄膜晶体管是PRD生长的，器件性能虽然好，但是有一个限制，就是生长的面积比较小，所以大家就想有没有可能制造出非晶的，这样可以做到最大，也可以降低成本，至此非精晶体管成为我们研究的热点。薄膜晶体管它在保证了较高的可靠性。从前面的总结可以看出Gd-AZO是原子半径大，提高迁移率，抑制晶体。那么能不能找到一种新的材料来代替，可以看到随着含量的增加。随着+的含量增多，它的电流也逐渐增大。
    后面我们对薄膜和器件进行了表彰，首先是薄膜表彰，这幅图是对薄膜光学的表彰，左上角这个表彰的透过率，可以看见在范围内薄膜的透过率超过80%，从右边可以看出薄膜的光致发光谱位置在405纳米，可以计算出它的宽度属于宽晶段。综合这两张图可以看到，这个钆铝锌氧变化可以看出材料是非晶的结构，通过常规线和我们自己做的实验，观察到钆铝锌薄膜材料是多晶的结构，钆的参数有效的移植了铝锌结晶的趋势，非晶的有源层可以移植高的一致性。下面这两张图可以看出原子力显微镜作出的是0.45纳米，这个是比较小的。右边的这张图是扫描电子显微镜，采用的是放大倍数的方法，我们也很难看到薄膜的晶界，所以这两张图首先我们的晶界是非常小的，也就是与前面非晶结构相对应，这两张图表面比较平整，平整的表面有利于降低。以上表彰可以看出钆铝锌是可以做晶体管源层。之后是对器件表彰的两张图，左边的是器件的特性，器件的输出不明显，它存在非常明显的饱和趋势，并不存在电压拥挤的情况，所以总体来看器件还是有希望用于像素电路的驱动。
    我们还将我们的器件用于玻璃衬底，北京大学来看玻璃的衬底的直径都是两寸，黑框的地方是铝，用于对准的结构。整体来看它的透过率是很高的。右边这张图是透过率的表彰，透过率是非常高的，晶体管的透过率几乎达到了98%。可以说我们钆铝锌薄膜晶体管有希望用于透明电路。这两张图它的在转移特性当中器件有很好的作用，与薄膜的非晶特性向户型。输出特性仍然体现不出增强性，但是在高端电压交接的时候存在拥挤。这个是我们最初做出的，我们后面将会进行优化，争取让它的性能达到更好的曲线。这就是我们整体的内容。
    最后是我们的总结，薄膜的光学特性、微观结构和表面情况表明钆铝锌薄膜晶体管可作为氧化物薄膜晶体管的半导体源层。转移、输出曲线显示钆铝锌薄膜晶体管作为苏电动器件的潜力。玻璃衬底的钆铝锌薄膜晶体管，器件可用于透明显示。谢谢。

主持人

随着OLED技术不断的发展，在显示领域中国是走在前面的，只有三个国家四个地区来做这个面板产业，也就是在这个时候才真正的掌握了技术。下面有请北京大学董俊辰，他的题目是《个性能钆铝锌氧薄膜精体管的制备》，有请。

上海中杭光电子有限公司朱雪婧

大家好，对于高分辨率的产品来说，有机物膜层能够起到更好的显示效果，对于有机物膜层来说，它是一种正性光刻胶，对某些溶剂是不可溶的，经王找后变成可溶物质的即为正性胶。负性光刻胶，主要对于光照后形成不可溶物质的是负性胶。在相同的时间内，根据光照的不同，它的效果也是不一样的，针对这个原理，我们对于有机物膜层进行了不同的设计。
    对于A图来说是单独的一个段差，B是有一个尖角的图案，CDEF是开一条槽和两条槽、三条槽的不同。开三条槽能得到比较短的坡度，四条槽的坡度要稍微大一点，在这个结构上对于开三条槽有了进一步的优化。在这里主要是调整了这三条槽的间距，分别从一个等间距到负间距，每个间距的差异进行优化，对于每个优化的项目图片可以看出，对于等间距来说，它是有不太平缓的情况，对于第一个设计来说，它的坡度在25度，是有一点大的。目前这个数字可以看出，对于E3的设计是比较好的，对于这个来说，我们在正常掩模板光栅设计的优化，E3方案是开了三条槽的，可以看出来，对于A方案是有影响的，这样会容易导致上层图层的短路，如果两条槽在一起是有显示异常的。
    我们的研究来说当掩模板光栅设计成三条光栅时，具有比较好的坡度。当三条光栅距离有机膜段差处的线宽、线距依次为0.8、1.2、1.0、1.0、1.2、0.8的坡度最优，仅有13.18。谢谢大家。

主持人

FED中最难做的是发射电极，因为我们希望它有电子发射，它的原理是电子冲击荧光粉得到发光，那么以前试过很多各种各样的办法，当然现在这个技术在提高，比如说喷墨打印机。这与有机的喷墨打印不太一样，打印的墨水实际是作为纳米材料的种子，所以在打印的时候只是关注尺寸相对之间的距离分布，而对于它的薄膜厚度的均匀性要求并不是很高。打了种子以后，很多的纳米生长都是靠在种子上来制备的，那么在这个种子上再生长纳米棒，当然这个图片的尖端做得还是不错的，说的土一点还是很尖的，如果不是很尖的话放电的电子发射的能力也是有问题的。

 下面有请上海中杭光电子有限公司朱雪婧，她的题目是《掩模板光栅设计减小有机物模层段差处坡度》，有请。

福州大学康冬茹

墨性的成功率是很高的，墨水的黏度还在探索中，我这边打印的黏度没有非常的高，大致在2到3。

现场提问

墨水打印的均匀性如何，或者说做实验的成功率怎么样？

福州大学康冬茹

我们经过测试可以看出是氧化锌，至于多晶非晶没有考虑，按照正常烧结出来的就是这样的状态。

现场提问

退出来的是多晶还是非晶？

福州大学康冬茹

会发光，它的最低电压不是非常的确定，在调节的时候，刚开始会有波动，所以这个没有确定的数值。

现场提问

表面的尖端发射有没有做过实验，它的电压是多少？

福州大学康冬茹

大家早上好，很荣幸产品这次会议。下面我将介绍一下我们的研究情况，如有不足之处请大家多包含。
    首先介绍一下研究背景，过去电视主流采用的是CRT显示原理，它具有亮度高，视角宽，色彩饱和度好。通过加热灯丝，使阴极发热，荧光屏发光，FED显示利用的是电场刺激阴极材料的电子发射到荧光粉上发光。FED跟CRT的发光原理是相似的，但是CRT它的电子源只有一个，而FED的电子数有数十万个，因此在构造上FED就可以制作得比较轻薄，并且取代了CRT的长电子发射，取代了CRT热电子发射，采用的是场电子发射，并且它的工作电压比较低，小于一千伏。FED具有CRD的优点，又具有高分辨率的优势，因此在显示领域有一定的优势。在场发射中，场发射阴极材料是一个核心技术，它要求这个材料包含数低，在强电场下要具有良好的导电和导热性能，材料使用易加工，成本低等等。CNT它的优点是导电性好、高长径比等。但缺点是易被氧化、寿命低、易团聚等。
    我们研究的是氧化锌，我们设置的是图形化技术，将氧化锌阵列及间距进行调控，使氧化锌的阴极性能会更加的好，常用的有两种工艺，一种是膜板辅助生长图形化，它需要先生长膜板，然后再沉积氧化锌，再去除膜板，这个工艺可能比较复杂，所以我们研究的是将衬底结构图形化，采用的是光刻技术和喷墨打印，光刻技术比较成熟，它通过膜板和氧化锌组成。另外一个工艺是喷墨打印，我们采用的是压电式的喷墨打印，它是在喷嘴处放一个压电陶瓷，在电压的变化下会有伸缩的特性，因此我们输入图向电压信息到压电陶瓷上，在常温常压态就可以稳定的喷出，直接在衬底上实现图形化。并且喷墨打印它的工艺操作简单，成本低，所以比较适合大面积制备。
    我们首先介绍一下光刻法制备图形化氧化锌阵列。我们采用的系氧化锌组成，将光刻交图形成后再生长，生长出氧化锌阵列，去除光刻，就可以得到图形化氧化锌阵列。这里采用的是方法是二阴极体系，阳极接钢片，阴极接钢板，电解液是水溶液，利用光化学反应，氢氧生成氧化锌，就会得到图形化氧化锌阵列。这里采用的膜板圆的阵径是三百微米，间距五十微米，生长后的阵列它的边缘会比中间长的更好，这是因为边缘效应，并且它这个方法有很多的尖端，接近性也比较好。长发性开启场强是2.15伏每微米。
    另外一项工作是喷墨打击氧化锌种子层，这里配制氧化锌墨水，我们配制出来的是比较纯清的墨水，墨水对于喷墨打印是一个非常关键的部分，因为墨水它的黏度太高会使喷射速度降低，喷射的图形就不能非常的准确，太低的话墨水会直接外滴就无法控制末端，表面张力太大，墨水不易形成细小微滴，甚至不能喷出。太小会容易不稳定，形成星状溅射点。打印氧化锌种子成采用的是通过调节计算机参数改变控制压电材料的压力，控制喷出墨滴的大小。使墨滴呈现稳定的一滴或两滴的状态再喷出。打印完后将它干燥烧结，这是我们打印好的氧化锌种子层，发现它的图象圆都非常的整齐，然后再电话电化学沉积制备，生长出氧化锌阵列，它的尖端都是朝上的，有比较多的发射点。场发射性能开启场强为1.32伏每微米，我们又将这个喷墨打印好的氧化锌种子层进行了水热法制备，这里的图形是比较完整的，生长出来的是纳米棒阵列，但是可以发现它生长得比较密集，所以有一定的场地效应。这边开启场强会比较大，4.12副3每微米。
    小结是我们采用光刻法结合电子学沉积法生长图形化氧化锌纳米枝阵列，开启场符为2.15伏每微米。操作简单，墨水是关键，在图形化氧化锌种子层上，电化学沉积法获得了图形化氧化锌纳米枝阵列，开启场强为1.32伏每微米。谢谢大家的聆听。

主持人

早期做EL大屏幕显示，我们所给人大会做了大屏幕显示，是用粉沫印刷的形式做成的屏幕，但是点是很粗的，后来发展到无机的薄膜电子发光，最后发展起来有机的EL。接下来有请福州大学的康冬茹，她的题目是《图形化氧化锌阵列的制备及其场发射性能研究》，有请。

华南理工大学刘贤哲

是的，通过不同的板材进行验证，5%以内的硅含量是不错的。开关比最高的可以达到498，保留数值在488。

现场观众

三个元素的比例都是变的?

华南理工大学刘贤哲

大家上午好，我是来自华南理工大学的刘贤哲，今天很高兴来到这里跟大家作出抗酸氧化物半导体的研究，我将会从背景材料和薄模气电三个方面来作出介绍。

    首先是背景，平板显示技术是基于汽车及计算机之后成为具有全球影响力的高新技术产业，因此平板显示技术将进入移动、互动和无纸办公的时代，当下的平板技术的发展，我们对平板显示提出了更高的要求，我们向大尺寸、高分贝以及高屏和低成本这些方面的发展。当下的主流显示主要是LCD显示和OLED的显示，对于我们来说有源层是直接影响到性能的影响。

    非精硅它的精率比较低，多金硅它的成本高，而我们的氧化物来说具有比较高的牵引率，低漏电压，低能耗，低沉积温度以及低成本的优点，它很好的兼容了非精硅等的缺点。所以氧化物TFT引起了我们的关注。TFT大部分采用的是底三结构，主要分为BCE无结构和ES结构，BCE结构它掩模次数会少一些，因此可以有效地降低我们的制造成本，对于我们氧化物TFT来说，要实现BCE无结构是十分困难的，以及很容易在图形化时造成TFT被沟道损伤，所以是需要一层主档层获得高性能器件。对于我们要想降低生长成本来说我们会选用BCE结构。

    接下来是材料选择，我们选择的是二氧化新体系作为我们的本体材料，因为二杨夕体系优点是成本低、抗蚀性好。缺点是载流子浓度很高，不容易控制，我们选用的是硅惨杂来调控。

    接下来是薄模特性，对于常规的二氧化锡是具有良好的非精结构，同时我们对薄模进行处理发现在450度下依然是保持非晶结构，随着温度的增加，它的薄模度也是逐步增加的，它的粗糙度呈降低的趋势。对于我们想要制备出BCE结构的晶体管来说，它的各种实验是必不可少的，我们采用了四种实验进行了研究，我们发现在25秒内电级材料已经完全干净了，而STO结构很好地保留。这个对我们成功地实现氧化物TFT跟近了一步。

    对于电极的选择，电极材料与源层的匹配，它的质量的好坏直接能够影响到TFT的性能，因此我们对比了不同材料发现末电极的函数与我们的STO函数接近，这样的话能够形成低接触电子。

    器件制备流程图可以实现了各尺寸的均匀性和精密度都是十分良好的，同时我们对器件进行了电学性能的测试，我们分别测试了饱和性能和线性性能，线学性能为高清显示驱动提供了新的显示方向。最后对于稳定性进行了测量，PBS测试的亚阈值电压变化可快速减少，在两千秒以后基本驳斥不变，说明此材料的稳定性优良不易因电学老化导致器件损伤。

    最后十分感谢各博士在实验上给予的帮助和支持，谢谢大家。

主持人

下面有请华南理工大学刘贤哲，他的题目是《硅掺杂氧化锡薄模晶体管性能研究》，有请。

马微电子集团高级工程师楼均辉

大家好，我是上海天马微电子有限公司的楼均辉，天马从2012年开始正式研发氧化物TFT，一开始的时候，应该说还很顺利，第一年我们就把TFT推行做得还可以，显示的样品也做出来了，但是我们差不多花了两到三年时间，才把TFT特性基本管控住了。换句话在这过程中我们也走了很多弯路，我们花了两到三年时间以后把TFT特性控制住，也花了一年的时间才把TFT特性调整到需要驱动一级显示的要求范围里了。下面跟大家分享一下我们碰到的问题。

    TFT主要的指标性能参数包括阈值、牵引率、开关比，对氧化物来说阈值是更重要的，因为它受到自身的影响，可能它的阈值经常会发生变化，或者说出现异常。

    这是我们采用氧化物TFT结构，这个结构是大家比较常见的。因为大家也知道对于显示屏来说，对窄边框的要求是越来越高，边框的显示屏就必须采用集成电路，整个驱动电路里，输出管是T4，所以T4是最大的管子，也是最重要的TFT。

    刚才说到氧化物TFT它很多因素受到自身和结构的影响，反过头来说我们也很容易通过自身和结构来实现它不同的特性，这张图里面我们采用三种不同的工艺制成，从而实现了它不同的TFT的阈值，我们用ABC来表示，A这个图是最负的，B会正一点，C就更正。我们把这三种管子用到显示屏里面就会收到不同的效果，A这种特性制作出来的显示屏，我们发现它会出现异常，这个异常就表现为由横纹和动脉冲，如果我们侧来它的三个输出端可以看出，A就是异常的多脉冲。B是正常工作的，假如把显示屏放到85度下面，也出现类似A的异常，它的异常也是出现横纹，我们测量数值也会发现多脉冲。C的湿温和横温都是正常的。B和C湿温下是能够正常工作的，但B是在不同温度下的特性曲线，温度升高的时候，它会发生显著的负向。在常温下都是能正常工作的TFTC都是能正常工作的，高温下氧化物TFTC的负偏压稳定性曲线是没有受到光照的影响，就是因为负值更正一些。

    总结来说，对于VSR电路行驱动的窄边框氧化物驱动的LCD显示，阈值必须调整多足够正才能保证VSR电路的正常工作，否则容易出现异常多脉冲输入不良，同时需提高氧化物在高温下光照的负偏压稳定性，以提高显示屏的可靠性。

主持人

下面有请天马微电子集团高级工程师楼均辉，他的题目是《金属氧化物TFT阈值对LCD显示屏的可靠性的影响》，掌声有请。

北京大学王翠翠博士

是的，所以数量也会增加很多，我们大概计算了一下，对于4K成2K的话，如果是八组的话，发光时间就会达到80%，所以我觉得应该分的组不是很多。

现场观众

对于分组驱动的话，比方分成N组的话，是不是有N条线。

北京大学王翠翠博士

大家好，我很容幸为大家介绍，目前a-IGZO的研究应用范围从小尺寸的手机手表到大尺寸的电视机，目前用于驱动的是三种。用来驱动AMOLED是用来区别小尺寸，主流TFT五技术是非晶态、均一性好，低成本，主要用与中小尺寸的LCD，小尺寸，分辨率也低。受于小尺寸的影响目前应用比较受限制，手机的屏都是采用这个。新兴TFT技术它的迁移率高，稳定性很高，但是均一性差，成本高。a-IGZO是用于取代的理想器件，但是它还存在负值的情况，我们还需要特别的考虑。因为TFT都存在电压的漂移，对于预制电压增大的话，会造成亮度发生变化，因此我们要想得到比较高质量的显示屏，就采用一些补偿技术。

    目前像素内的补偿技术主要分为两大类，一种是电流变成，一种是电压变成，电流变成它的精度高，变成速度慢，限制了其他际应用。电压变成的速度快，精度受提取时间的影响。根据提取方式的不同，采用二极管提取和源级跟随，二极管是采用放电的形式，它能达到最小值，就会要求这个预制电压是负值。而且用源级跟随是不受限制的，楼端对源端进行充电，直到提取它的预制电压，这样预制电压是可正可负的，它的补偿范围也会更宽，对于预制电压存在有可能是正值和负值的情况就会好一些。

    接下来详细讲一些它的工作过程，一是初始化，从低电平到高电平，通过导通的管放电，提取的过程是低电平转为高电平，就从B点和C点进行充电，导致CE两端的电压差达到要求的电压。当完成阈值之后，从高电平变成低电平，就是因为它的对比度特别高，当前数据写入的时候，T2管导通，由于C1和C2是串联的，B点的电压就会刷新到新的值，CE两端的电压也会发生新的变化，当CE进入发光的模式，这样的话由于A五点是悬空的，C两端的电压差可以保持数据学位的电压。为了验证这个点路的工作，我们进行了仿真，仿真过程中使用的TFT的模型是基于实验室所做出的，图上所示TFT的测量数据和仿真数据可以看到效果是非常理想的，因此可以验证像素电路的工作过程，需要说明的就是，虽然我们在给出来的模型中阈值电压是定值，可以通调整仿真使用的参数来调整阈值电压的大小，可以预测不同电压下的像素工作过程补偿效果，当不同阈值电压情况下的瞬态仿真效果，当阈值电压增大的时候，它的VD点的电压是变小了，这样的话TE的阈值电压是增大的。当阈值电压是负值的时候，电路依然是可以正常工作的。右侧对应的是电流的数据，可以看出当阈值电压发生变化的，这样的话就可以补偿阈值电压的变化。

    当阈值电压为正值的时候两个电路都能补偿变化，但是为负值，二极管不再补偿变化，采用的是同时发光的形式，将不存在时间，但由于它的同时发光，同时发光是当面板上所有的数据写入之后它的发光时间会压缩得很短，如果它的发光时间很短的话，它的驱动电流就相对的增大，因此我们在提出了正值前，我们所曾经提出过分组驱动的方式，这个被发表在SID的论文上。所谓采用这种分组驱动的形式，把面子上像素电路分成若干个组，然后这个同组上的像素电路完成变成以后，这样就会进行发光了，它的发光时间也会大大的改善。需要注意的是采用分组驱动它的全局控制线会相应的增加，这需要合理的设计它的分组主数。我们如果采用这种分组驱动情况下，像素电路的驱动，前两组大概是这个样子，后面可以根据这个规律写出来。

    总结来说，我们提出了基于源级跟随的3T2C像素电路及驱动程序。仿真验证了电路的工作过程及TFT和AMOLED阈值的补偿效果。对比验证了与二极管提取的阈值不同，提出的像素电路可以补偿阈值为负值的情况，它的应用范围更宽需要说明的是，如果是采用分组驱动方案下的该电路适合更高分辨率的AMOLED的显示。谢谢大家！

主持人

我们这个主题是TFT，在平板显示当中TFT是重要的组成部分，那么对于液晶如果要是没有TFT的话是做不了动态显示的，早年做液晶的时候，是觉得这个东西很难做动态显示，因为它的速度是不一样，那么有了TFT的技术发展以后，液晶有了显示，同样对于以后的这些平板显示技术，包括早期的PPP，包括现在的平板显示技术，都离不开TFT的技术。所以TFT技术的发展，对于平板显示技术是起着决定性作用的，那么它第一是来于材料的净化，材料不断的发展，那么第二是它的技术，制备技术的发展。比如说它攻克的精度，早年在做平板显示的时候，当然是很早了，我们那个时候是希望有一台激光设备，但那个时候可以说是天价，根本就买不起。今天所有技术的发展第一是源于材料，第二源于制备工艺技术的进展。

    下面有请北京大学王翠翠博士，她的演讲题目是《一种补偿a-IGZO  TFT负阈值电压的AMOLED像素电路》，大家有请。

维信诺蔡世星

我们这边是这样看的，ESL的氢会影响沟道本身，会让氢进入到当中。对于ESL工艺本身来讲，工艺条件是完全一样的，假如说ESL的氢少了，有一部分氢就到别的地方去了，很大的可能性是到下面的背沟道里面去了。

现场观众

200度的氢含量要高于210度的氢含量，但是200度是不高的。

主持人

大家有问题可以提问。

维信诺蔡世星

大家上午好，我是来自维信诺的蔡世星。首先介绍背景信息，非晶氧化物半导体比较普遍采用底栅极堆叠结构的器件结构，等等性能带来了它非常大的应用，主要表现在它非常适用于作为大尺寸的TV背板技术。另外一个方面是源于它的工艺温度，未来有可能是MOM最大的发展方向上有它的用武之地，具体的这边简单介绍一下它的器件结构。

    通常来讲有BCE、ESL等结构，每种结构都有它的特点，有优点也有缺点。下面主要介绍一下底栅堆叠的结构，BCE结构是完全裸露的，在后续工艺，尤其是在它图形化的过程当中，它的背部通常会受到比较大的损伤，包括其他的一些杂质元素的影响。等等原因导致这种元素的器件性能差一些，当然它的优势是非常简单，所以成本非常低。它的结构跟非晶的结构是完全一致的，假如说通过很小的改动，就可以直接把一条非晶硅的产线纳入进来。相对的另外一种对接是这边介绍的情况，最大的不同就是在后续的工艺当中来改变。

    ESL工艺温度对器件的影响和原因。首先是实践方法，器件分为六层，每一层基本上都包括成模、图形化、攻克图形化等，有部分步骤包括退步，主要是两个地方，最后是图形化之后来完成。实验过程当中在ESL工艺当中，紫色地方会有四个工艺条件，工艺条件分别是180、190、200、210，除了温度有差异之外其他的都是一样的。从最底下的山积木，通过CBD的方式来制备绝缘层，通过CBD做ESL。这边放了三张图片，原因是在最后一个最高温210摄氏度的时候，整个是导体状态。通过这三张图片来看，从180、190、200器件的特性和均匀性都是在逐步改善。重点的四个参数，从左到右基本上都是在不断的改善。

    简单来讲线上是很简单，从不同的温度来看，温度也是在不断的提升，导体也被破坏了。我们分析一下原因，从ESL的功能来讲，它的最大功能是防止工艺和外界环境对沟道层的影响，当然模质越好效果也越好。另外一个方面ESL层本身也会被沟道造成损伤，这些损伤造成杂质。主要是氢、氧、氮等等，简单来说这层模长完之后是起到保护作用的，成长的过程当中也是对器件有损伤的。而工艺温度在这两个效应当中做得是相反的，如果说在成模过程中温度越高，它本身对ESL的损伤是加剧的。模层长完之后，因为温度越高它的模质越好，保护效果也越好，所以是相反的一个作用。我们从两个角度来看，第一是模质，第二是损伤角度，模质我们通过不同的方式来看不同的状况，红色的这条线是成模速率，随着温度的升高它的速率会略有改变，蓝色的曲线是湿刻速率，随着工艺温度的增加，它的湿刻速率是极具降低的，尤其是在170到190摄氏度范围内，湿刻速度是大幅度降低，所以可以理解在这个温度区间内它的模质发生了重大的变化，当然湿刻速率越低它的温度越好。我们通过不同的温度来看，很明显可以看到在150、180这两个温度下，这个模质是非常差的，湿刻之后可以非常明显的看到它的效应，所以从这个角度来讲，低于180摄氏度的模层所起到的作用是保护的作用，可以承载很大的问题。

    另外一个我们从对工艺温度的升高，对沟道损伤的角度来进行分析，损伤很难通过直观的参数来评价，主要有四种元素，包括硅、氧、氮、氢，除了氢之外，其他的都是几乎看不到任何差别，氢是两百摄氏度的ESL，它的氢含量略微比210摄氏度高一些。大家都知道氢的影响是非常显著的，在这个过程当中除了温度之外，其他包括压力、包等等参数完全是一样的。当看到200摄氏度的氢含量略高210的氢含量，氢部分进入沟道当中，导致实验结果在的不同。

    最后总结一下，ESL沉积工艺温度对IGZO  TFT器件影响是有显著影响的。更高的ESL工艺温度，有助于得到跟高品质的ESL模层。高品质的ESL层可以有效保护器件背沟道，免受后续工艺及外界环境的影响，从而提升器件性能。过高的工艺温度将加剧ESL沉积工艺本身对器件背沟道的影响，甚至会导致器件导体的结果。以上是我的报告，谢谢大家。

主持人

刚才我提到了我们所是化工显示最老的单位，显示界的各种人才很多都是来自我们公司，当年在技术不断的发展当中，早年做发包显示的时候，认为液晶当时是不能做大尺寸的，随着技术的进步，液晶面已经做到了一百英寸以上，新的技术有效地解决了这个问题，那个时候视角小，现在我们也知道液晶的视角是变得很大了，几乎快达到，至少到160多以上。任何技术都是在发展过程当中的，我们不能说从一个固定的角度来看一个技术，同样的在座的也都是搞技术的，我们对于有些技术的问题，我们都要从科学的角度出发，去讲它，讨论它，比如前几年出现的LED电视，我们说LED是什么这个显示器件是LED，其实我们电视里出面的还是TFT，同样现在我们又出现了很多技术，比如说像量子点技术，有人就问这个量子点技术会怎么样，我说严格地讲不叫量子点技术，其实量子点只是提供了一个材料，量子点现有的两个应用，严格地讲应该是量子点材料在显示技术上的应用，一个是光发光，现在做背光源，有做模的，有做管的，两种方案。另外一个是它在电子发光当中的应用，它实际上也是一种材料应用，怎么说呢？结构上和有机电子发光几乎是一模一样的，所以我们历史上来说，就是液晶FCD显示，PDP显示。电子发光显示也有两种，一种是无机的，有机的是复合机理，还有一种是另外一种发光机理的显示。所以我们讨论显示的时候我们要讲发光的机理，它显示的机理，而不是说某一个技术插进去就变成了某一个显示。现在比较热门的印刷显示，印刷显示也不是一个新的概念。现在印刷的技术和材料的技术，都上去了，印刷显示今后也会成为一个迅速发展的方向，但是它并不是一个新的概念。

    下面有请蔡世星工程师，他的演讲题目是《对ESL层工艺温度影响非晶IGZO  TFT性能的研究》，有请。

深圳市华星光电技术有限公司工程师夏慧

上面这些图不同的颜色是代表它的不同的东西，颜色越偏向蓝色就说明它的应力比较小，当变型量越小的时候我们的颜色就越偏向蓝色，也就是它受到的应力越小，每一层材料进行对比我们就会发现从这个结果看出对于金属层，可以发现当有变化为0.1mpa的情况下，受到的压力变化由20%到40%，我们都知道成绩出来本身就具有一定的应力，在我们这个总变形量会引起100mpa或者几十mpa的情况下，对这个是有一定影响的。我们没有把变形量的数据放上来，但是我们的结果变形量是会有0.1左右的变形量，但总变形量有0.4mpa的情况下，有人研究过当TFT受到0.09变形的时候才会有变形变化。
    既然有这么大的压力，而且这个压力还跟总变形量相关，是不是在设计PS的时候要考虑这样一个因素。在设计的时候通常通过调液晶量来达到设计值，其实这个也跟我们的大小和灯测提示有关系。因为压强其他各层是根据其他的条件来确定。总变形量会影响PS对TFT的压力，那如果TFT受力过大就会出现变形发生变化，而我们产品里面有一些TFT是不会受到PS压迫的，而有一些是会受到PS压力的，如果这个压力对TFT造成影响的话，我们整个的显示上就会出现问题，就是PS摆的位置和PS没有摆的位置的TFT有差异，所以显示的位置就会有差异。当然我们不能让PS对TFT的压力做到没有或者很少，因为环境因素会影响核耗，低温和低压下核耗也会发生变化，所以我们必须要让PS对这个TFT有一定的丧压量，让环境在发生变化的时候，不至于起不到承压的作用。
    在不同的应力下TFT的压力会有几十mpa到一两百mpa，建议PS对TFT的应力不应超过50，但这是我们这个模型下的模拟结果，如果说你们使用的材料以及你们TFT的结构不一样，模拟得到的结果甚至会比这个大或小。也应选取适合总变形量来调整PS的高度或其他的参数。谢谢大家！

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第一组——TFT器件及相关技术直播即将开始,敬请期待...

河北工业大学 研究生 李志广

我的题目可能有些企业会觉得陌生，有的单位可能也进行过TRIZ的培训，河北工业大学是走在比较靠前的位置，我们跟科技部的合作也比较多。下面我们就把TRIZ在显示器的领域做一个探讨。我的报告有五个流程。如果大家接触过这个东西，那么这套东西能够和产业相结合。液晶技术企业是一个当之无愧的高新技术企业，这套企业的工程太复杂了，包括半导体的工艺，具有高新技术企业的一些特点，那么TRIZ是基于知识的工具，是一套系统化，具有发明创造问题的一套方法，在这个技术创新方面，发明创造方面我们的技术系统当中比较难以解决的问题，在企业新产品的研发和生产中，我们应用这一套技术创新方法，我们认清技术发展趋势，提出解决问题的思路和方法，下面是TRIZ求解问题的一般的流程，首先是问题的提出，要根据自己要解决的系统当中的一各问题，可以是技术系统当中当前存在的一个亟待解决的问题，也可以是生产工艺过程当中的一些亟待解决的问题，提出问题之后我们就要应用，主要是下面这几个方面，包括功能分析，因果分析，成果区域的确定，还有资源分析，这些几个方面如果展开的话，每一个方面都可以是一场大探讨，当然也可以不全去应用，有选择地去应用。功能分析一般是要建立系统的功能模型，把系统当中所有的原件列出来，然后用这些箭头和符号表示原件之间的作用来实现功能，我们用不同的建筑符号来表示，还有标准作用，不足作用，过渡作用，我找到以前我们培训的一个工程师的一个例子，系统当中曲线和虚线的箭头，这就比较明显存在问题的地方，从这些问题去解决进一步的工具产生创新解。应该因果链分析法确定产生问题的原因，找出比较好解决的原因，看看我们能够产生什么样的创新解。下面这几讨都是我们逐一地去应用去分析这个问题，下面进一步地去应用一些工具解决这各问题，我们可以对当前系统进行技术预测，对当前的技术进行一套严格的方法，在美国一个做软件的公司有他的一讨东西，需要大家花高价钱去买的，还包括技术成功的预测。效应是TRIZ工具的一个急于支持的一个工具，逐渐地去融合更多东西的库，实现一些功能的原理都把它做成一个库，有些关键词我们可以检索和应用它，包括之前应用过的一些实例，实现某个功能的时候，找实现这个功能的效应，最后我们选择最优的方案进行实施，经过这一套的分析，往往会写出很多的专利出来。
    LCD的成熟度预测与企业创新战略，根据Altshuller提出的技术成熟度预测方法，采用性能、专利数量、专利级别和利润率四个尺度变量来确定产品的技术成熟度。专利等级这讨曲线有的时候好建立，有的时候不好建立，我们可以建立两条或者三条来进行曲线预测。我们利用专利的分析简索的软件成为了这样的特点，我们的软件可以把这个曲线通过计算机拟合去判断技术的成熟度，可见近些年专利数量，曲线的末端已经呈现了明显的下降的趋势了，大概是从2009年之后，销售额我也只获得了09之前的数据，由此我们做出初步的判断，液晶显示技术已经发展到退出期的阶段，退出期并不是没有东西可做，每个季度的周期很长，我们后面还是有很多的东西去做，等级很高的发明就会很少，每个时期有每各时期的研发的策略，电子科技大学爱几个老师也对液晶显示的成熟度，在我写了这篇论文之后，进行了预测，根据不同的检索方式和出来的数不一样，我们不可能全部统一到一块去，库也是不一样的，含概量曲线的情况也是不一样的，他们把专利进行了抽样分析，进行了大概的专利定级，得出的成熟度是位于成熟期末期的结果，所以说现在竞争非常的激烈，出现了新型的技术，制造工艺这些它主要是对辅助的次要的进行改进，让它更优化一些，但是不能够满足长期竞争的要求了，就是需要对研发投入更大的精力和财力。经过技术成熟度预测之后，一般情况下我们用这个方案去采取进一步的策略，如果产品是处于婴儿期和成长期，如果是处于成熟期或者退出期，我们就应该加大研发力度，寻找新的S曲线。
    第四是TRIZ中的冲突发现及其解决理论，与冶金现实技术创新
    1是产品进化和发展就是进行产品创新设计，在产品创新设计过程中，其核心是解决设计中的冲突。2是如何发现和确定产品设计中的冲突是十分关键和重要的。
    我们需要改进物质传播型，这也是发现冲突的方法，这个冲突就是我们需要这个加电厂分子发生改变，又不想使电厂对液晶材料进行破坏，这样的话我们怎么解决这个冲突，这个冲突是技术冲突还是物理冲突？如果是技术冲突我们需要用39个标准对这个冲突进行描述，然后去查找冲突的举证，进行类比的分析，如果是物理冲突我们要解决分离原理，经过分析，这个冲突是属于物理冲突，我们需要考虑分离原理解决这个冲突。因此我们在电厂的作用下，液晶分子的响应时间内，使它行列导向，消除固定电厂的作用，这是应用的分离原理当中的基于实践的分离。
    结婚：通过应用基于TRIZ解决问题的流程，对液晶新式技术进行了成熟度的预测，从战略上指导液晶显示企业的创新，通过应用TRIZ的物质一场、冲突及其解决理论，为液晶现实企业在产品创新设计研发方向，提供了切实可行的方法和途径。河北工业大学现在有一个科技部设立的唯一一个技术创新方法的研究中心，现在国家也在推广创新工程师的认证，要在全国培养创新工程师，制定了一套认证的系统，包括创新工程师认证，创新培训师认证，现在应该主要是国家科技部从政府方面往上抓这个工作，找一些大的企业，选一些优秀的规程是参加这个培训，我们现在工程师大概有一千来个一至三级的创新工程师了。我们学校现在也是液晶方面非常具有历史的研究单位了，我们从1994年就开始招收本科生，我们培养的方向就是液晶方向。好多的企业当中也有我们的学校的学生。我的演讲结束，谢谢大家！
主持人：我在国外学过TRIZ，现在国内也开始重视了。如果大家有问题现在正是个好机会。如果有问题请提出来。没有问题会后和李老师单独交流。

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时间：2016年9月23日下午
地点：合肥新站利港喜来登酒店（二楼大宴会厅B）
会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

基于TRIZ的液晶显示器件技术长信  

李志广  研究生  河北工业大学

上海中航光电子有限公司 工程师 赵应春

汇报的内容主要包括三各方面，第一是光弹效应，也就是双折射效应，当玻璃受到外力，发生弯曲时，沿着受力的方向，玻璃密度会发生局部差异，从而使玻璃变成各项异性的材料，产生了顺折射现象，而受力方向变成了光轴方向。当液晶赫受到外力变形时，原本玻璃的零位相差被破坏，这个力所产生的双折射现象干扰液晶对光的调制，导致诸如液晶盒的黑画面不黑。当玻璃受到形变以后，本身会出现一个相对的调制。液晶盒在框胶固定下，CF和TFT的应力是作用力和反作用力，光弹效应也是对称互补。因此TN黑画面，它的一个玻璃变行，会出现一个漏光的现象。假设框胶是非常手软或者断开的时候，CF和TFT之间无法传递切向的作用力与反作用力。且单玻璃（CF或者TFT）弯曲不大的情况下，自身的光弹效应也可以补偿。
    下面是四副图片，第一副图是沿着红色虚线，切开，扭曲玻璃，发白只能地框胶断开处，第二副图是有框胶处，挤压玻璃，出现发白。第三是框脚切开处，挤压玻璃。针对以上的改善方案，在液晶盒里面添加一个补偿膜，使得能够改善光感效应。以上是我的汇报，谢谢大家！

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时间：2016年9月23日下午
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会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

光弹效应对液晶显示面板光学影响及改善研究  

赵应春  工程师  上海中航光电子有限公司

光傲科技股份有限公司 总经理 刘小波

关于Techna  team，成像式测量仪器制造，它是成像式亮度设计，简单地介绍一下，DFF和德国的汽车工业，德国的一个整车市场他们做的一个组织，希望把显示的产品像标准化的组织发展，德国显示协会主要提供技术上的支持，关于这部分在2016年SAT的年会上特邀他来发表这样一个情况。
    下面会简单地介绍一下Conoscopic的镜头，坐标系统是怎么建立，在应用部分我们提供了三个方面的应用，多了一个方面是显示测试方面的应用，实际上在材料方面，尤其在材料开发的时候有一个材料的特性，这个显示离眼睛非常的近，最后我们介绍一下关于这些应用的一些优点和一些局限，这部分关于Conoscopic  lens，我们通常用的镜头是normal，实际上我们Conoscopic  lens是远性镜头，最大的特点入瞳的部分正好是在镜头非常近的地方，那这个最早可以追溯到1944年镜头的专利，现在来说主要是Conoscopic在光度学上的应用。市场上这些大家有一些区别，主要是入瞳的尺寸，还有视觉的范围，关于坐标这一块，我们根据镜头的光路自然地可以看到，我们坐标方向360度的，然后到达的液晶平面正负90度这样一个坐标，有些厂家会把坐标转换，坐标的变换我们有详细的介绍。我们这个坐标可以化解，但是怎样地去精确？就是需要做一些测试和定标，这是我们实际做的这样一个情形，从圈的位置往中间的圆心。在应用部分最主要的是三个方面，设备是显示方面，简单地说就是角度相关的亮度和对比度的测试，它是处于离镜头非常近，这个地方不同的方向上发射出来的光线经过我们的镜头，不同方向上的光进入到CCD上面的不同的位置，这样的话我们就可以得到不同方向不懂角度的的分布，如果我们拍一个两的画面，再拍一个暗的画面，这两个画面相除就得到这样一个相关的对比度，这是显示测试，这是比较成熟的，另外我们做材料测试，主要是透视和反射，这个基本上也可以和显示的测试一样，这个材料主要借助于外部的光源，当我们材料放在这里以后，我们就可以测到它不同方向角度相关的分布，本身纳入到前面光源本身分布不同方向上的透射率的分布。
    除了我们刚才说的这些，包括平显系统也可以用这些系统做，将来可能会有很多的屏显系统，这是我们实际测到的，我们拍了一各画面，第一个是白花面，另外一个我们做了赘述的处理，所以这个Conoscopic 有的时候可以取代转台式的测试方法，对于转台如果测试角度解析度高的话，测试速度是非常快的，这是它最主要的优点，这里面非常影响我们测试的有几个地方，就是我们刚才说的有效的入孔的位置，角度的范围也是比较有限的，另外就是一各杂散光的影响，尤其你看到类似鬼影的地方就是杂散光的影响。
    最后的结论就是做这个测试实际上是很复杂的测试，局限性主要是我们前面向大家介绍的。以上就是今天我介绍的内容，如果有问题可以跟我们直接联系。

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时间：2016年9月23日下午
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会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

Conoscopic  measurements  for  displays  advandages and limitations  

刘小波  总经理  光傲科技股份有限公司

西安交通大学 研究生 樊瑞

我是根据降低强度的程度来计算的，最开始每个像素点都有一个初始的亮度，最后取了一个平均值。

现场提问

你的亮度衰减是根据什么？

西安交通大学 研究生 樊瑞

我在仿真之前对原始图片也是相同的，计算它的寿命。

现场提问

你们是进行亮度控制的，控制以后的寿命是怎么确定的？

西安交通大学 研究生 樊瑞

首先大家都知道OLED的柔性显示，快速的响应时间吸引了大家的关注，但是其由于亮度衰退是其弱点，亮度退化导致了亮度转化降低，关于这一点的改善研究主要是从外部补偿和内部补偿两个方面进行的，左图为例，这是外部补偿，在提高电流的同时会加剧OLED摔退的速度，因此无法准确地补偿亮度，对于内部补偿以右图为例，基本上是以5TEC和4T5C。针对外部补偿和内部补偿，他们均会造成OLED的成本以及难度的提升，因此我们提出了采用分区域亮度控制改善OLED亮度寿命的方法。左图是在不同初始亮度的情况下OLED衰退速度的体现，可以看出800的情况下OLED摔退速度是最快的，考虑到一副图象各个区域的亮度各不相同，并且高灰度阶的也是不同的，在这个过程中需要保证图象的质量，人眼无法察觉出图象质量的好坏，均认为图象质量较小，另一方面我们考虑到我们需要最大程度地减缓OLED的摔退，最大程度的降低亮度，作为降低亮度的选择依据，在进行仿真之前我们首先对OLED寿命减退的参数进行了测试，由于OLED的亮度衰退符合指数衰减的特征，因此我们可以通过延缓指数衰减来延缓OLED的寿命。我们还提出了包含这两个设计的模型，这各是我们测试用的样片，针对两个样片采用不同的亮度，得出其衰减曲线，计算得到了其参数。在测试完参数之后，我们就可以对图象首先进行了划分，划分原因就是之前提到过的它对寿命影响的程度和寿命影响的因子各不相同，由于考虑到存储的问题，因此我们首先计算出了各个子区域的中心象素点，根据中心象素点的比例系数，集散出全屏像素点的亮度比例系数，这各时候屏幕最外围的区域就无法通过该方法计算得到，因此需要对屏幕周边的区域进行一个延伸子区域，这个就是计算各区域寿命影响的公式（大屏幕），我不对低灰度区域进行处理，在高灰度区域，我们根据图象各个区域的寿命影响因子，根据它所降低的亮度的程度，计算出实际图象的PSNR值，计算公式如下（大屏幕）在确定了亮度比例系数之后，根据之前提到的OLED衰退的模型，我们可以推倒出其衰退程度的计算模式，根据之前的测试可以得到期间的参数（大屏幕）对于图象的选择，我们选有了柯达24副来进行实验，对分辨率为728×512的图象我们划分为32×48，这个是方针结果，选取了柯达第13副图象和第20副图像，通过处理，寿命可以翠13000个小时可以达到15000个小时，这副图大家可以看到，蓝线是原始图片，红线是处理后的图片，以及处理之后的各项数据。
    接下来就是结论与展望，结论是在针对柯达24副图标准的情况下，寿命可以从12000小时达到16000小时，下一步我们可以利用循环返回图象的寿命作为决定各区域亮度降低程度的约束条件，就是可以根据我要求延长寿命到多少小时，就可以得到相应质量较好的图象。

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分论坛二：LCD和OLED显示

基于图象分区域亮度控制延缓OLED寿命衰减  

樊瑞  研究生  西安交通大学

昆山国显光电有限公司唯信诺工程师 陈红

首先介绍一下AMOLED的趋势，我们为什么要做窄边框，目前我们是处在大尺寸AMOLED电视量产的现状，OLED的应用从最初的PM低端的产品到手机的附屏，到今天主流的应用是三星的GLAX，总地来说，虽然这是2014年的数据，全高清以上的分辨率目前从2014年占比33%增大到2017天增大到38%，目前针对国际的或者是国内的主流的尺寸的分辨率的话，最主要是5.5FHD  AMOLED，我们为什么要做窄边框？窄边框这各技术明显地是给用户带来更好的视觉体验，基于我们AMOLED的手机屏，目前我们的量产技术是Fiease的技术。在这里我们做了一个简单的统计，对三性Galaxy等手机做了统计，我们统计了左右边框的尺寸，三星的边框是从4.9毫米到5.7毫米，左右的边框和上面的边框和下面的边框全部去掉，我想更加具有吸引力。第三我要重点介绍一下唯信诺在这方面的政策，主要从五个方面进行优化和考察，包括设计、材料、工艺、设备、概念，综合这五分析的考量和优化，我们达到了非常窄的边框。我们做了从78cm这样一各实验，强度是非常重要的，不同的材料抗摔能力是不一样的。左编这个图，我们可以看到应该是符合量产的，另外我们选择切割器把切割的精度达到了正负20厘米，大家可以看到下面是激光切面的图，综合五方面的考量和有化，我们成功地制备出了这样一个手机显示屏，边框是0.82毫米，在国内和国际都是领先的。我们整个手机屏的话量度可以达到350，它的色域在100.8%，对应前面说的液晶实现了无边框这样的技术，实际上是采用了2.5D  cover的技术，一种是做弧面的处理，一种是做斜面的处理，如果设计好的话就看不到边框，如果设计的不好，边框能看的到，所以在这方面我们做了大的实验。我们实现了零边框的视觉的效果。前面我们知道三星有S7，实际上是做了柔性的AMOLED，两边是固定的弯曲，S7边缘没有真正地实现无边框，如果我们要实现终级的这种零边框采用什么技术？我想大部分都会相到一个技术就是柔性技术，下图是苹果的柔性机，把边框全部弯曲到背面去，当然这个技术是有挑战性的。最后我们总结一下，我们这个工作是目前国内最窄的技术，如果要真正地实现终级的零边框，是我们柔性技术的开发和应用。

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时间：2016年9月23日下午
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会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

超窄边框5.5FHD  AMOLED显示屏  

陈红  工程师  唯信诺  昆山国显光电有限公司

北京大学 研究生 刘宾杰

我们是想在上面直接做一各白的OLED，我们会考虑外面的厂商会做到什么情况。

现场提问

请问一下你们的制作工艺。

北京大学 研究生 刘宾杰

首先我们看一下Microdisplays  for在行车方面，我们的VR很明确的。接下来我们要看，为什么会选择用OLED  Microdisplays ，OLED的一些广视角很快的光学反映都是不能够满足我们，下面是一个示意图，上面做了一层OLED，我们来看OLED的一些挑战，主要是针对象素的挑战，主要来自于这几个方面，现在我们要把这各危险用在军事或者娱乐体验上的话，我们要求分辨率和刷新率提高，大概是几十个Micro 的范围，我们都知道OLED的电流是和他的面积成正比的，它的面积很小，再加上限制，最后达成的是OLED的电流的范围很小的，在几十纳到几十匹之间，要精确地控制如此小的电流是非常的难，我们看一下传统的这些电路来说，对我们这个可以补偿我们的一些工艺偏差，缺点是我们无法忍受的，就是一个很长的变成时间和很高的工号，像我们上面的电流图，对于我们传统的电压编程来说的话，会做很小的，可能对我们的工艺偏差很敏感，我们会有三个偏差，因为传统的这些无法满足人的需要，我们要采用PWM，这里我们简单地说一下，我们人眼看到的光的强度是和实物是成正比的，对OLED来说的话，它的亮度是和电流成正比的，我们PWM是为了控制被点亮的时间，电流是统一的，从而来通过控制。这是我们提出的电流，讲述了具体怎么控制。这边是我们的时序图，在变成部分的时候，我们就把数据写进去，会出现一个不同的点亮的时间，最后就会转化成了这个公式了，这是我们的仿真结果，是我们仿真电路的具体的参数，如果我们做成1280×1024的话，可以做到0.5。对于转换电路的一个方针，我们可以看到仿真的结果还是很抖的。我们可以看到一个对接，其实是一个很接近的，最后我想做一个总结，我们提出了一个可以显示的像素，可以做一个很快的反映，就是75Hz，13微秒。我的演讲结束，谢谢大家。

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时间：2016年9月23日下午
地点：合肥新站利港喜来登酒店（二楼大宴会厅B）
会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

一种基于PWM的2826PPI硅基OLED微显示象素电路  

刘宾杰  研究生  北京大学

中国电子科技集团公司第五十五研究所工程师 张小芸

为什么要做这方面的内容？因为是有市场需求的，我们所研究的显十器对亮度提出了特殊的需求，因为常规的显示器是通过扩散达到了最两的效果，基于这个市场的需后我们做了这方面的工作。上午的时候京东方也提出来了，我们现在使用的机载，除了这个最大用的方向要求，其他方向太亮的光先会对人造成干扰，形成光污染，一方面我们要将光线的角度背光功耗，另一方面，要能够减少成像虚影，提高投影成像的清晰度。
    因为我们有明确的需求，所以就有明确的指标，本设计是在底背光基础上进行光线的角度控制，目标是将背光出光角度控制在水平45度的方向，垂直0—30度的方向内，并在垂直15度的方向时亮度达到最大。由焦点处发出的射到抛物面上任意一点的光仙均以与光轴平行方向射出。光学的设计和仿真，我们采用了solidworks进行光线角度控制的结构设计，给出了每颗LED的位置图，由于LED成的灯状灯条，所以结构设计上留出了灯条插槽位置，结构设计总尺寸为80×60mm，7个LED灯条，每个灯条上15克LED，这各如果调节不好的话，就会形成一个暗区。恶定电流350mA，发光亮度157lm，水平方向一次均匀排列15克LED，垂直方向7行。光学设计软件的输出，这是在软件方针上15度方向的一各触光面亮的均匀性，蓝色代表的是水平方向亮度的分布，红色代表的是垂直方向的亮度的分布，红色的满足了我们的使用要求。下面进行实验验证，我们选择了LED的型号，并且制作了LED的灯条，反射的抛物面的截面，设计加工的跑无线结构内表面贴附高反射率镜面反光，满足了使用的要求。我们用一种比较简单的方法，通过本文说明采用这种方法是实现这个目的的一个途径，但是还有其他的途径可以实现，目前正在做这方面的工作。

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时间：2016年9月23日下午
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会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

一种底背光亮度角度控制技术研究  

张小芸  工程师  中国电子科技集团公司第五十五研究所

武汉华星光电技术有限公司工程师 郭星灵

我W的亮度是可以控制的，作为独立的TFT可以控制的。

现场提问

RGBW增加之后整体画面的亮度会提升，可能在全黑的画面的时候会产生漏光，这种问题你们会有什么样的解决方案？

武汉华星光电技术有限公司工程师 郭星灵

今天要分心的内容包括三个部分第一是RGBW的一个算法简介，RGBW就是使面板穿透力得到了提升，大家现在会采用色彩能量分布更加均匀的一各像素，我们前段给我们的影像资料，会有一个转换的说明，目前业界LG、三星所涉及到这方面的技术共同的方法架构都是从RI、WI、BI资料中求出我们的三个合为一体，维持原本色度饱和度的一各条件，三元色一个比例的条件下，各家对争议的不同做一个改善。下面介绍我们的RGBW的方案，我们由原来的2对RGB像素改为1对RGB像素。对于我们自家技术的优缺点有一各初步的判断，优点有三各部分，高的穿透率可以在阅读文本模式的情况下可以续航增加42.5%，Low  cost：解析度不变的前提下可减少1/2的driver  channel，可以节省driver成本。通过调查，当前青少年的视力为平均1.32，大概在正常观看距离是30CM左右，应该是在400PPI左右，人眼通常观看手机是30厘米，发光亮的点如果少于点距的话我们将无法识别它，人眼几乎察觉不到。对于不足之二，人眼对亮度更敏感，弥补色彩上的不足。它是低敏感度，主要用于分辨不同波长的色彩，主要对于灵敏度比较敏感，但是却没有色彩分辨能力，进视觉细胞成为我们的亮度细胞，可以看出我们彩色细胞和亮度细胞的灵敏度，我们的亮度细胞的灵敏度是远远大于色彩细胞的，人眼在亮度的模式下对亮度是比较敏感的。
    接下来介绍的是我们公司的RGBW算法的介绍，我们算法采用保留亮度，降色度的方法，由于对亮度展示的特性我们将影像资料转到亮度，在亮度我们才完成ICB到ICW，做一些处理。这样的好处是可以减少算法在影像资料转化的亮度细节。灰度下的PPI，第一个灰度意义上的pixel，第二个灰度意义上的pixel。我们及我们的一些研究，我们觉得优先报楼亮度信息和色度信息，可能会得到更好的一些效果。我们在算法上对亮度的保留和现场的采用一些采编跟对话程度的一些争议，我们的彩编都优于传统的。我们做了灰阶的同步实验，我们把当前用户的使用习惯和用户看的图片，我们会发现在手机应用中一些影像资料都处于非饱和的状态，采用单色Gamma从而不称RGB三色的单色亮度的措施。最后是一各成果展示，RGBW凭借高的穿透立，提高亮度的优势，达到了同等亮度时，可以减少背光LED颗数，我们认为RGBW就是为了达到一款节能高量的产品技术，我们觉得这样做的视觉效果和经济效益都是比较好的平衡点，我们有在设计一些AMOLED，我们公司取得了一些相当不错的成绩。

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时间：2016年9月23日下午
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会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

武汉华性光电RGBW手机显示面板  

郭星灵  工程师  武汉华星光电技术有限公司

合肥彩虹蓝光科技有限公司工程师 李华楠

首先介绍一下我们公司，我们公司是本次会议的承办方，彩虹集团的子公司，彩虹蓝光的前身上海蓝光是国内最早从事LED外延和芯片之一，我们现在芯片的产能近几年的发展状况是这样的，从去年6月份到今年以半年为季度，基本上是实现跨越式的发展。封装这边也是从去年开始提量的，今年6、7月份的产能已经达到了200KK/月，当然这照明比较多，背光也是一部分，明天的目标是达到300KK/月，我们彩虹蓝光十三五期间的目标是重回行业三甲。我的报告分为三部分，首先是色域的概念，然后介绍一下不同方案色域呈现，第三是典型荧光粉参数对比，第四部分对背光源白光技术的发展进行一下展望。
    上午有一位来宾提到为什么蓝光危害，提高蓝光的波段要保持色域不变，在这里我简单地提一下，从我们色域图上也可以看到，在蓝光的部分其实是非常集中的，当我们把蓝光芯片的波段提高5段米或者10段米的时候，他们的值相对比较小，影响的部分我们可以通过其他的材料来补足这一部分，就可以达到保护我们眼睛的目的。色域的概念和基本原理就是说在我们整个色域图，我们的显示活动所能展示的色彩范围，一般来说色域的值越大，这个显示器所能显示的颜色越真实，越鲜艳。我们目前常见的显示技术有背光缘的显示技术，主要有液晶显示和OLED显示，液晶显十由于采荧光粉的技术不一样可以分为不同色域段的几种，而OLED也可以分为带液晶滤光片的白光OLED显示和不带液晶滤光片的RDB三色OLED显示。如果更高范围，比如90%以上，浮化物荧光粉是近两年才刚刚新出现的技术，昨天郑孝刚教授提到了量子变的英冈分可以达到100%甚至110%的左右，LCD在性能方面是完全能够和OLED来抗衡的。
    关于OLED有公司做了一各比较，如果把OLED作为背光缘来做显示的话，它的色域并不是很高，如果直接做三根色的显示的话，它的色域就很高。下面我们就主要介绍一下相关荧光粉的典型的参数，比如第一个YAG荧光粉，开起了LED新时代。第二是釔铝石榴石的简称，属于铝酸盐荧光粉的一种，性质稳定，发光效率高。为了满足更高色域的需求，在2010年前先后达到实用水平，使用N化物绿粉加红粉可达到80—85%的水平。绿粉的波段做到530纳米已经不能再往下做了，因为它的波长再降到更低的时候，它的发光效力会急具的消减。从去年开始出现了一种新的荧光粉，出现了已经使用的阶段，就是下面这种浮化物的红粉，这是比较特殊的，大家可以看到浮化物的主波长是在632纳米，但是有四个比较尖锐的峰，但是这样的一种形态可以保证了它的宽比较低，可以说比量的荧光粉还要更低，但是它有一个不好的特点，就是它的波段基本只能做到632。从600纳米到670、680纳米都可以做到，可以选择的型号是非常多的。这个图是之前说到的一个对比图，常规70色域的荧光粉，有两个峰来组成，80%到85%色域的是一条绿色的线，使用双粉然后加蓝光芯片，这个绿光波段可以看到跟后面加浮化物是一样的，因为现在绿光荧光粉没有更大的进展，而红光谱线相对来说比较清晰，大家可以看到它起作用主要是632纳米的主波长。我们现在浮化物红粉的成分主要指的是发光的某种元素，我们可以跟国外的荧光粉可以进行相抗衡的。
    最后一个就是目前在性能方面最具有优势的量子点荧光粉技术，可以说现在常规的LED封装当中还无法应用，我们目前看到的量子点技术的电视，采用的是把量子点荧光粉的技术加入到背缘的技术里来做的。现在我们的背光缘跟我们客户做模组他们对参数的选择是很频繁的，大批量地进行调配，进行调光和调色的作业，我们还要看以后技术的发展和市场的检验。
    最后一部分我们看一下针对前面我们提到的进行一项技术展望，第一个就是目前高性能绿粉的开发，首先第一个是我们绿色荧光粉的国产化，目前绿色荧光粉只有两各都是日本的，因为技术垄断，这各东西卖的非常贵，比其他的氮化物粉等卖的贵10倍不止，希望国内相关的厂商可以研发出更多的相关的产品。最后一个是半波宽更窄、波段更低的高性能绿粉。KSF红粉需要提高可靠性及抗衰减性能（大功率时）；开发更高波段的窄波宽红粉；量子点荧光粉解决工艺成本及频繁批量调光调色的问题，现在为了配合客户端进行频繁的大批量的调光调色的作业，有无新的方式来做；最后一个就是脱离这些具体的细节的问题，看看有没有从上游比方说从芯片到封装到登条到后面的模组以及膜片等等，在整个的过程当中，因为现在背光方面有一些新的趋势在发生，比如说3D电视，还有一些高动态的刷新，从电视方面现在最新的背光技术可能会要求LED的芯片需要能够承受极大的刷新的频率，这各现在是不关注的，这个芯片要在短时间内承受比较大的电流，如何在一定的成本之内，更高地去提高我们整个方案或者是整个产品的居中性的，需要我们整个行业上下同仁一起努力。

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时间：2016年9月23日下午
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会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

LED背光源高色域白光的发展
李华楠  工程师  合肥彩虹蓝光科技有限公司

北京基创北方科技股份有限公司 薛仁豪

下面我跟大家介绍AMOLED的相关的趋势，今天的议题主要分为四个部分，主要介绍集创配方，AMOLED的市场讯息，还有LCD和OLED的差别在哪里，还有集创AMOLED。集创北方成立于2008年，今年初有新闻说集创北方合并了iML，目前IML在目前在管理芯片部分是全球第一。集创跟IML合并除了产品，在很多的国家都成立了公司，包括美国。，去年已经走到了成长动力的阶段，在未来也就是我们今天要讨论的议题，在OLED芯片的开发，这主要会用于车载、船载的部分，现在还有比较火的还有居家的部分。我们的LED驱动芯片目前是全球第一，在上半部就是手机移动显示的部分，包括触动芯片，这部分在国内是比较少看到的，就是在手机屏里面有这四道产品线，全部都是一家公司，从右边的面板显示的部分，包含大尺寸的材料。在2016年集春的新重点技术是在第一个ITD，在之前的芯片是分开的，在去年年底开始有一种技术叫做ITD，目前我们公司有推出ICN9920，目前在验证中，预计年底可以量产。第二个重点提出AMOLED的FHD开发。第三个重点的技术是在大屏幕的部分，目前着重在P2P的接口的部分进行开发。这边大家看到的是企业荣誉和一些重大的项目，集创在国内也是芯片开发比较靠前的公司，这边也是跟着政府的一些项目在进行，2016年有两个重大的得奖，左边是2016的一个芯片，获了奖，右边是在2016年得到了杰出产品奖，今天为什么会特别提到这两个奖项，左边有优秀的ICN团队，右边也有优秀的团队。
    下面我们来介绍一下整个市场的讯息，2014年相比，增长率是18.4%。从4.57亿台里边，我们可以看一下技术的比照，LTPS和AMOLED的技术在上升。这边各位可以看得更清楚，左边的AMOLED在持续地在增长，为什么AMOLED这么重要？也就是三星确定拿下了未来苹果OLED的面板订单，为了苹果，三星最高可能海砸74.7亿美元或相当于9兆韩元建厂与添购生产机台。刚看完苹果我们再来看一下三星在传统TFT和OLED的相加，2016年OLED的趋势会往上，三星现在在投产OLED的设备，预计在2018年会量产，2018年全部会投转OLED的产品线。左边看到的是AMOLED的一个面板的成长趋势，右边是Flexible的部分。中国和韩国已经有大量的破产的迹象，为什么AMOLED这么重要？主要就是车载的部分未来的市场主要会逐渐地导新。
    大家看到这边是AMOLED市场的一个应用，应用在笔记本电脑，可以卷起来的应用，VR就是未来5G的手机的应用，VR一些影像和资料都比较大。下面我们看LCD和OLED的比较，各位大致上都已经知道左边TFT面板的结构是会比较复杂，后面的背光是不需要，因为它是自发光的一各装置，整体的结构厚度可以做的更大，除了刚刚提到的薄度之外，另外在AMOLED的部分它的结构是一个是电压驱动，一个是电流驱动，AMOLED的部分这个是Pixel的不，多了一个专用的TFT，会有很多的问题，所以在做OLED和一般的TFT来说，会比较难控制。这边是一个大方向的东西，它的好处是自发光还有高对比，在柔性会也一个快速的会是非常重要的一个追求，这种大部分是采用AMOLED的屏。
    在TV部分也是一样，因为大幅减少，会成本比较低，效率比较高，再就是一个柔性的部分，再就是色域和对比都会比较好，各位看到了在以往的手机也就是在AMOLED和传统的TFT的手机厚度的比较，vivo和OPPO这两款是最好的，那么这两款手机都是采用AMOLED。
    OLED会大于一万比一的状况，为什么会着重于这个对比，对比就是在暗房或者是阴天、雨天，还有在室外的一个可读性都比传统的LCD来得好，所以在户外的一个表现，OLED的表现会比较好，最重要的是光耗的部分，会减少30%，为什么会减少30%？这边主要的原因OLED如果在暗态的部分可以把LED全部关掉，各位看到OLED比较好点，第二张图以黑色为主，OLED上面的表现非常的好，非常的省电。所以它也因为是这样的一个趋势，所以在自动挑光的部分，这种算法做的好，OLED会比传统的更好。
    我们再看一下TV的表现，今天就是针对LCD和OLED进行一个比较，传统的TFT还是会也暴光，OLD可以解决这个问题，在重量的部分也可以大幅度地降低。
    集创今年已经开发出了FHD部分，目前产品已经出来了，已经在进行验证阶段，传载部分需要一个比较省电的面板，所以在传载AMOLED也是一各比较好的选择。明年产品主要着重于VR的开发，重点就是资料量非常的大，所以各方面的技术都比较高，也因为VR的面板在国内是比较贴近眼球，所以在开发商的难度也会更高，我们的产品预计在2017年出来。以上就是集创简单的介绍，谢谢大家。
问：针对VR的输入量比较大，会采用另外一数据方式吗？
答：目前的VR的做法大部分由分两种，一种是采用单片，就是手机的方式，另一种是两块屏的方式，单片的部分比较大的话是需要到2K屏，资料量会比较大，所以从系统过来的话会进行压缩，然后再做解压缩，资料量会大幅度降低，在我们集创这边也会有一个专利，屏在你前面的时候，这部分眼球正前方看到的是非常清楚的，但是侧边是模糊的，所以资料量的深度会降，两块屏的部分，两块屏的接口部分可以分开。压缩一定是有损压缩，所以才会提出第二种方法，旁边可以做一个资料深度的调整。

主持人

第二会场的下午部分现在就要开始了，首先简要地介绍一下我自己，我是华南理工大学材料与器械国家重要试点是的宁洪龙，首先第一位举行报告的是 OLED显示技术及其发展趋势 薛仁豪 北京基创北方科技股份有限公司

杭州浙大三色仪器有限公司教授 牟同升

我们可以找一个平衡点，显示器和照明还不一样，如果我们看照明人的本能反映就是闪开了，但是我们看显示器三、四个小时会比较正常，蓝光对人的健康影响很大。

现场提问

我记得蓝光确实是对人的眼睛会有危害，面板的产生的开发，会把亮度降低，这确实是一个方向，追求色彩更突出健康。

杭州浙大三色仪器有限公司教授 牟同升

谢谢你的问题，我们都知道显示器在这个色域图对角的地方可以让这个图形更大，色彩会更多，更鲜艳，在满足了鲜艳的同时，这各光是不会对我们有特别的影响，蓝光我们希望避开450、460，对我们内分泌影响比较强烈的这一块的话是不会影响到我们颜色的饱和度。我们只是希望从这组实验数据上面把它移到470、480这一块，我们做的显示器的厂家，在色彩上面不会太多，我们是从一个综合的考虑，我们是在用心改变生活。

现场提问

我们追求的目标就是更蓝、更绿、更红，你这各方案里面强调的是蓝光对人体的损伤，不同的颜色显示有一定的要求，如果只强调蓝光对人体的危害的话，我不大理解怎么去理解世界丰富多彩的显示。

杭州浙大三色仪器有限公司教授 牟同升

今天我有一个强烈的感受，就是我们有一个非常漂亮的显示屏，我们小的时候显示屏会给我们非常强的幸福感，现在从幼儿园的小朋友就开始用iPad，我们平时也是用手机。平板显示方面我们主要是做颜色方面的一些标准，最早进入到平板是2005年，后来我们接着做了一系列的光声安全在平板和照明方面的影响。今天我们分为五个方面，光辐射的损伤和蓝光的危害，第二是显示器屏幕的蓝光辐射，显示屏基色光普的优化，最后对我们的显示仪器给大家一个分享。

    关于光辐射的损伤和蓝光的危害，我这几张图片的话，是看不同场景下，我们做研究的、读书的，应当说差不多覆盖了全程的话离不开我们的显示器，光辐射损伤蓝光这一块应该有六个方面，我们主要关注两各方面，一个是蓝光，对于我们眼睛的伤害，还有一块蓝光对于我们人的内分泌的影响，因为我们显示屏的基色的光度跟我们在国际亮光组织里面，主要是引用了大量的IEC62471的技术报告，我们要做的研究就是在照明的时候，我们在评估安全风险分类的时候，按照零类无危害的最好是不超过2.8小时，我们基本上都会超过长时间3、4个小时、5、6个小时，这一块有一个累计的效应，对我们会有一各伤害。还有一些特殊的人群，我们的儿童，糖尿病患者，他们这些人在用我们这些显示器的时候，我们如何控制这各蓝光，能让他们安全地使用电子显示产品的享受生活，不要对他们加重这些伤害。我们为三星手机提供研究报告、做一些分析，我们做一些实验的花，基色光往长波移时光对我们产生的危害，这是我们做的一些实验。大家知道，这不是我亲自做的实验，我把上面有的信息能够尽量地展示给大家，关于视网膜光化学量化评价方法这一块我们做的研究比较多的，我们为这个也专门做了一个视网膜的数据，很多的测试是需要知道我们的眼睛接受这些光最终达到什么效果，所以用这个方法的话我们来做这各现实屏测试提供一些手段。光普成象亮度计来看，单独一个亮度计测出来的强度不能满足企业研发人员的要求，在这个右下角这一台的话，是我们跟南京国家平板中心做的合作，研究的这一台大型的显示屏的作用测试平台的话，这里面差不多把需要测的光学参数，比如说对比度、不同视角下的亮色参数都测量下来，这一台设备为我们做背光提供了一个综合的手段，另外一块就是我们做研究比较有特色的，就是我们的平写测试，飞机上面驾驶员在驾驶飞机的时候，眼睛是有一个位置，显示出来的必须要有一各高准确度的识别，另外我们也做了IEC的国际标准提案，浙大三色专业性很强的，研究性的技术公司，另一方面我们做了研究性的方法，另外我们希望我们在国际标准制定下发挥我们综合的作用，所以我们在虚拟成像这一块我们做了大量的实验，今天来开会，对具体的平板产品方面我们也是在学习的过程，有热爱做这些光学方法研究的测量的话，我们也希望加入到我们的起草方案的团队里面来，对于新型的显示器的话，我们也会做模拟差，在天空飞行的时候有迎着太阳和背着太阳的视角，显示屏上的参数有哪些影响，这些方面我们也做了一些设备。谢谢大家！

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时间：2016年9月23日上午
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示屏蓝光对视网膜的光化学作用及其量化评估使用

演讲人/单位：牟同升  教授  杭州浙大三色仪器有限公司

合肥京东方显示光源有限公司 工程师 施阳传

没有特别的去选择面板的模式。

现场提问

不知道你做的是什么模式的面板？

合肥京东方显示光源有限公司 工程师 施阳传

我们测试了好几家基本上都是在1%左右，没有超过2%。

现场提问

这个偏差会是规律性的吗？

合肥京东方显示光源有限公司 工程师 施阳传

我们测试下来色度通过扩散，会产生0.01这么一个差别，就是可能会升高。

现场提问

我们在做背光源或者相关的测试可以发现，灯条或者灯珠的涉温差别很大，据我所查的资料，背光源是对光的不同播放是不具有选择性的，为什么会改变它的颜色呢？

合肥京东方显示光源有限公司 工程师 施阳传

这个项目是受到安徽省科技规划的支持。我今天的演讲包括五个部分，一个是研究背景，还有设计上的方针，实际的制作、实际的测试，以及最后的总结。大家都知道我们观看显示器的时候，我们跟显示平面在应用场景里面我们的一些视角和显示平面是有一定的角度的，比如说大屏幕上有一个悬挂着的显示台，还有就是车载，我们跟它的一个视角都会呈一个角度，主使用的应该是我们的驾驶员，另外就是机载，比如说我在这里面使用的机仓的界面，在我们边缘所观察的就是和他们的视觉都会成一个角度。在越来越多的应用场合我们会对液晶显示会提出了一个解决方案，这个解决方案是在背光的基础上面，我们是把背光视角进行了偏转，要达到一个目的就是尽量减少降低亮度的损失，鉴于这一点我们开发了一个FOV  fiIm，我们的目标就是使它的视角偏转20度，亮度损失在20%以内。在0度的角度的时候我们亮度最大，我们现在要达到的目的如右图落示，红线代表0度角的状态，我们现在要把它向左或者向右偏转20度，亮度在损失80%以内，左图所示就是我们背光的架构，我们的方案就是在上扩散之上加入一个FOV。

    下面是设计分析，我们建立了一个间的模型，做了一个三角形的形状，通过一个折射实现视角的偏转，我们对确定的三角轮做了一个阵列方针，光线通过扩散，我们比较一下，正常背光的情况下，我们走向的倾向上面最高亮度是0.568cd，后来我们发现了一定的变化，可以看出，最高量是从0度转移到了20度，可以说达到了我们主要的目的，我们发现曲线值并不是很平滑，左半边出现了一个先下再上的趋势，也就是说我在视角观察偏转的时候它暗到亮。因此我们要进行一各优化，优化的方式就是在三角轮的上端做了一个切角，后面我们可以看到它的具体形状，可以看出对比起来我们会发现它的左半边的曲线会变得更平滑。

     第三是制作，首先我们选用的基材，基材是PD，然后是光刻胶涂布，对模板的照射是一个斜角，后面通过显影和固化作为出了一个这个照片，我们在顶端做了一各双角。我们将图片通过这种工艺进行了一各测试发现，我们对比正常背光来看，正常背光可以看出视角在正中心的，加入FOV是跟我们模拟的结果是差不多的，我们应用到了10.4的应用光里面。这是我们实际测试的具体数据（大屏幕）我们在FOV的话是37000，再加入FOV的话，从0度变成了19.7度，我们在原先20度下面的亮度差异，发现了对比下来会增加一个29.7%，所以我们有FOV会比没有FOV的亮度会低19.6%，会达到视角偏转的目的。

    下面是我们做的总结：通过FOV可以对背光出光角度进行有效调节，FOV可以通过光刻工艺实现，制作核心微结构，达到视角偏转20度，最高亮度损失20%以内目标，应用视角偏转场景，提升显示效率。谢谢大家！

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时间：2016年9月23日上午
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车载LED背光源的光学膜材微结构设计

演讲人/单位：施阳传  工程师  合肥京东方显示光源有限公司

昆山龙腾光电有限公司工程师 白晓鸽

目前我们有做出实际测试的结果，成本上会有一些增加，但是对于整个产品的成本来说，这一点是非常小的一部分。

现场提问

请问一下，咱们的这各产品的成本会增加多少？

昆山龙腾光电有限公司工程师 白晓鸽

我们用正常的ID模拟下来或者实测下来的话，会对穿透率会有一个贡献，这个业界都知道。

现场提问

你好，请教一个问题，切换不同背光的时候，它的光率为什么会有差异，它的穿透力本身就比较差，是否是跟面板的设计有关系？

昆山龙腾光电有限公司工程师 白晓鸽

现在可能对色彩要求比较高，对十几岁到五十岁的群体比较普遍，用一各按纽调节的话不会有很大的障碍，但是我们会往自动调节方面去研究。

现场提问

这种方式对于普通消费者来说我觉得可能是一种障碍，您怎么看这各问题，或者后续会有一些什么打算？

昆山龙腾光电有限公司工程师 白晓鸽

目前我们还是手动选择的方式。

现场提问

您也边最核心的将显示分为两种模式，第一是文本模式，第二种是娱乐模式，您这一块是属于一个自动选择还是手动选择，如果是自动选择的话是以什么模式去识别，如果是手动选择的话对消费者来说是不是一种障碍。

昆山龙腾光电有限公司工程师 白晓鸽

今天我提出了一种色域切换的技术，现在高色域的一个技术，市场上比较多的话是可以利用网色域的LED。从屏幕上可以看出，QD的技术有两种，我们可以看一下它们三个的差异，首先是从发光来说的是WCG是有很好的表现，关于QD的市场上存在的厚度比较厚，可能对于超薄这一块不是特别的适用，在设计方面有一些技术的难点，它们也没有达到一个窄光的状态，对我们的设计来说相对比较小，WGG做一个进一步的研究，我们提出了色域可切换的技术，一种是提出了舆论模式，另外一种是可以达到比较高的效率。当我们需要高色域显示的时候，我们可以开起宽色域的LED，这个我们可以简单地看一下它们显示的效果，左边是70NTSC的，右边是90NDSC的。下面我们进行了一个比对，首先是11.6HD的产品上，如果我们不用WCG的LED，当我们利用色域可切换技术的文本模式的时候，它的色域会下降，到娱乐模式的时候，我们可以大块宽色的LED的显示，基本的模式可以降75%，利用工号在文本模式的时候可以降到84%，在文本模式的时候会降到90.6%，还有14村QFD的显示，我们做了一个总结，如果是消费者使用文本模式和使用娱乐模式的时间分别为一半的时候，它的工号分别会下降到13%到28%。以上就是我的报告，谢谢大家！

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一种新型节能型液晶显示  白晓鸽  工程师  昆山龙腾光电有限公司

北京京东方显示技术有限公司高级研究员瑞瑞

你说的周边发红跟周边的支撑引起的，我们这个主要是因为PI扩散导致的。

现场提问

你们有没有想过为什么会出现周边PI黑mura？

北京京东方显示技术有限公司高级研究员瑞瑞

我的报告分为三个部分，第一是研究背景，第二是实验分析与讨论，第三部分是提出问题改善对策。首先是研究背景，本次主要介绍一种跟PI扩散相关的不良，就是周边PI黑mura，这个是影响产品的品质的，第二部分实验的分析与讨论，首先我们对不良样品进行了测试，我们主要选择了两个位置，从正常区域到了mura区，从数据当中可以看出mura区的GPA要比其他地方高出0.5左右。接下来是我们将不良样品拆开，我们发现了在周边PI黑mura。接下来我们要对不良位置进行了微光现象的观察，不良位置有两个异常现象，下面我们对边缘异常进行了3D显示，PA高低起伏，3D型号图中可以看出，这种PI异常现象是非常明显的，接下来我们又做了PI课时实验，进行了不同时间的PI课时，在20分钟的时候，象素内的PI已经完全课时掉了，但是有PI残留，在60分钟的时候，PI均已完全课时掉，从不同课时时间的照片我们可以看出PI模不均匀性，从图片中可以看出，无论是前空或者是深空，空内是没有监控的，进一步证明了过空处PI扩散是异常的，在单个画面下，象素内左右的颜色是存在明显的差异的，单个象素内选了9个点，对周边PI黑mura我们做了测试，周边PI黑mura主要通过三个方面来解决的，首先是工艺方面，然后是选择扩散更好的材料，其次是设计方面，将周边的过孔远离AA区设计，第二是半过孔设计。

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时间：2016年9月23日上午
地点：合肥新站利港喜来登酒店（二楼大宴会厅B）
会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

待定一种周边PI黑mura机理分析与改善

王瑞瑞  高级研究员  北京京东方显示技术有限公司

东南大学研究生王皓

谢谢！

现场提问

在您刚才的报告当中提到，实验当中是通过喜好来调整，最终你提出这个问题的时候，也是想研究不光是喜好程度，也是和视觉的舒适度和疲劳度也是非常重要的，我希望这一块你们会有进一步的研究。

现场提问

所以我觉得你这个数据还是有一等的缺陷，应该把实验的范围放的更宽一点。

东南大学研究生王皓

是的。

现场提问

这五、六个人就是你们学校的学生吗？

东南大学研究生王皓

各位嘉宾、领导大家好，我是来自东南大学在读研究生王皓。下边主要从四部分做一个介绍，首先简单介绍我们的实验目的，第二部分是讲一下探讨环境光与屏幕亮度关系，其次是拟合规律，最后做一个总结。首先我介绍一下实验的目的，随着显示技术的发展，各个厂商都在追求高亮度的产品，对于电视类的产品来说，是不是屏幕亮度越高越好呢？不是的，那样有损视觉健康，我觉得有必要研究一下视觉观看的情况下，人们真正喜好的屏幕亮度是怎样的，我们得出了两条信息，第一次做的实验主要是为了探讨一下环境光与图象的内容，对屏幕光的关系。我们实验的设备是海信搞清电视一台，背光可调为为0—20档，这是我们测试用的图象，因为考虑到图象的内容也可能会影响人们喜好的屏幕亮度，所以我们根据图象自身的亮度水平，也就是这里提到的ALL值，我们将图象的内容分为三档，每一档选取了相近的图片作为我们的测试的图象，下面是我们的实验的流程，让培训受试者适应光，接下来让他们观看图片然后调节亮度，遍历完所有的亮度之后我们统计数据然后进行分析，下面我们看一下环境光的数据分析，我们可以看到，P值是小于0.05的，环境光与人们所调的屏幕亮度之间是存在一种显著型的关系的，想进一步地看一下各档环境光的差异性，从图和表我们可以发现，环境光越两，人们所调的亮度越高，下面看一下图象内容的数据分析，从表中我们可以发现，图象的内容也是影响人们所调的屏幕亮度的，平行我们可以发现针对那些高亮度的图片和低亮度的图片之间的差异性还是比较明显的，但是对于中间亮度的图片来说，与其他两档的图片差异性还不是很明显，所以我们最后针对我们的实验一做了一个总结，首先我们得到的是环境光与屏幕亮度之间存在显著性关系的，图象内容和屏幕亮度也是有一定的关系的，想说明一点，因为我们第一次实验所用的电视背滚调节的范围比较窄的，为了进一步更精确地实验数据，我们更换了一台背光范围更宽的液晶电视。下面我说一下我们第二次实验，这次实验的目的就是通过在第一次实验的基础深去进一步拟合不同图象内容下的规律公式。下面我讲一下，针对中高亮的图象的情况下，在这种情况下，环境光对屏幕亮度的影响规律，我们用spss分析了两张图片下所有环境光与喜欢的屏幕亮度数据，从表中我们发现，这种情况下环境光与屏幕亮度也是存在显著性差异的。接下来是针对偏低图象内容情况下，环境光对屏幕亮度的规律，最后总结一下，针对图象内容为中高亮的情况下，运用我们得到的拟合规律，当环境光达到2001x的时候，人们最喜欢的屏幕亮度及偏低亮度的情况下，环境光达到2001x时，人们最喜欢的屏幕亮度是多少。
这次实验我们选择的人数不是很多，就10个人左右，虽然是10个人左右，最后我们得到的有效的数据也不是很多，最后我们选择了五、六各人左右。

中华显示网

时间：2016年9月23日上午
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会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

不同环境光屏幕亮度的优化研究
演讲人/单位：王皓  研究生  东南大学

深圳市华星光电技术有限公司工程师许小杰

目前在显示这块的领域，产线上我们有一些测量设备，产线上做Mura还没尝试过，后面可以考虑一下，技术难度估摸着也不会特别的难。采一张图片的话，应该会很快，大概几十毫秒就可以。

现场提问

现在AMOLED在产线上有这样一个攀比，你们有无考虑过用这个设备替代人的眼睛做检测？

深圳市华星光电技术有限公司工程师许小杰

实际上很多的开发过程当中，包括其他还有一些设备，可能是用在光通的测量等等都会应用。

现场提问

你们的设备现在用在什么地方？

深圳市华星光电技术有限公司工程师许小杰

我的演讲大概分成五个部分。首先是背景，之前我们厂内做平面产品的时候，有一个测试，解决开机测试，他们就发现有一批产品有这样的问题，会有串色和漏光的问题，因为近几年曲面的产品也在兴起，各家面板厂开始导入曲面的面板，我们发现直接拿平面的面板曲面的话，就会产生一些问题，在面板的两边产生了椭圆状的暗态，也是因为它的形成的基理就是面板在受外力弯折的时候，会导致它们两个长度不一样，长度不一样就会导致拉扯，原来不该接触的光就会产生漏光的现象。虽然都知道这个问题的基理，可是想要把这个问题参数花和数据化，我们还需要产生一些技术手段，我们需要加入一些实验和仿真的手段，很明显，左右两边都是椭圆状的，蓝色和红色的边缘的处理都是一样的，这些左边的图显示的就是我们实际在仿真过程中所采用的区域。接下来是将公式计算的数据和实验的数据对比，下面有两个表格，没有多大的误差，上编的两副图，左边的显示在Y=0的时候，左边X处的的分布图，0.7t最大值的位置更加地靠近中心一点，如果是把它切换成右边这副图数字的点的位置，得出了量的值，可以显示在两种厚度的量变化不是很大。接下来这副图显示的是区率对错位量的影响，我们选取了三个曲率，厚度为0.7t，不同的曲率结果的趋势还是一样的，这边需要注意的，曲率如果进展到一定的阶段的话，它的shift量是会有所变化的。接下来要说的是厚度对错位量的影响，从这副图可以显示，厚度的见效也是可以见效上下基板之间的shift量，如果你要做曲面产品的话，用比较小的玻璃厚度，漏光的现象就会比较小。总结一下，就是说Cell在受压晚期后，上下玻璃基板产生了一个错位量，错位量越大panel的品位问题越严重。我们为什么要做这个方仿真，运用我们这实验加仿真再加经验的方法，我们拿已有的产品来做实验，两者比较，得出的参数，可以进行参考，总地来说，实验做的比较好，效果还是很明显，意义很强。大家基本上都知道CAE主要就是做一些力学、热学的仿真，在面板行业方面，传统应用主要是做模组状态，结构力学、结构化学都是它的强项，我们发现其实Cell前段也是有很多可以做仿真。

我们知道最近几年平板显示技术也是不断地提升，新材料新技术促进的光学性能不断地提升，同时对测量技术的要求也提高了，我们对比度提高了一个数量级。对于平板显示，大家可能在性能上比较观众的对比度等等，相关国内的标准也出台了，实际上这些标准经过我们在做的测试这一块，我们发现标准上很多的要求规定的不够明确，当显示屏性能上升的时候，会可能存在一些问题了。我们逐一介绍一下，首先是色域，它的测量主要是测量基色光的色度标，然后连通的一各面积，在这里面我们主要是测量单色光，仪器和人眼实际深不能完全地对牢的。实际上很多的商用产品F1连5%都做不到，误差非常大，光线进来之后，我们通过灯光波CCD进行接受，然后加以分析，这样就可以得到亮度，等理论上的曲线，这个方法也是现在我们包括ADMSTCO所推荐的一个方法。大家比较关注的一个问题，采用5点、9点或者25点进行测量，现在的显示屏都是高分辨率的，有很多的漏网之鱼。Mura是要通过测量和分析的，对于Mura本身的成像效果和软件的分析能力的要求，都算比较高的。另外还有一个问题，这种Mura和我们刚刚说的视匹配的问题，实际上如果是使用对一个亮是没有问题的，但是做色度均匀性的时候是有问题的，这种匹配不是很好，这个片子是要匹配很多的象素的，为了解决这个问题我们是有一个光谱图象亮度测量方法，在亮度里面视匹配的误差是可以从事光匹配的方法校正出来，当然这个方法我们只能得到显示屏上的一点的光谱，如果我们去分析侧度偏差比较大的话还是有一定的问题，这样的话我们的亮度数据也好，色度数据也好，它的均一性都能比较好的解决。HDR技术现在得到了非常大的应用，也提升了对比度，但是HDR去测量的话还是有问题的，如果我们要进行测量的话测量的仪器至少要达到一定的规格，针对这个我们也有相应的解决方案。显示屏的综合测量方案示例，我们拿笔记本和PID的显示屏进行分析，结果相对来说还是比较好的，我们测出来的屏Mura效果比较好的。我的报告稍微总结一下，首先要提出显示技术本身的发展和提升对性能检测提出了高要求，我的报告就在这里，谢谢大家！

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时间：2016年9月23日上午
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分论坛二：LCD和OLED显示

10：15—10：30  曲面液晶显示的暗团现象及改善
演讲人/单位：许小杰  工程师  深圳市华星光电技术有限公司

中电熊猫工程师许家诚

各位领导、各位专家大家早上好，我报告会的第一个部分是介绍，智能手机应用方面是有高分辨率和高色域部分，至于在笔记本和平板的部分，除了前面三点的话，还有高分辨率和高色域的话还有高对比、广视觉的需求，我们这里介绍的是目前的一些技术方面，第一个是层间绝怨膜技术，这各技术可以有效地提高光线的透过率，达到环保绿色的效率。第各是光配向技术，目前我们中电熊猫是采取Develop，另外是光配新技术，目前我们的对比一般来说平均在1100：1以上，较传统面板高出35%以上，可以显示出极端深邃的黑色表现，暗态均一性为传统的2倍。IGZO技术，目前我们所使用的IGZO载流子迁移率可以做到10CM，可以打大提高TFT对象素电极的充放电速率。接下来是铜制程的部分，可以使我们的讯号传递的更快。这是我们做的面板的规格（屏幕显示）对比度快意达到1200：1，这是我们最后实际出来的图片，我们成功地借由光配向技术及IZCO TFT技术实现了可以低聘驱动的15.6村FHD笔记本液晶显示面板。谢谢！

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时间：2016年9月23日上午
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分论坛二：LCD和OLED显示

10：00—10：15  IGZO搭配光配向FFS技术的15.6村FHD液晶显示面板
演讲人/单位：许家诚  工程师  中电熊猫

华南理工大学 研究生徐华

随着VR和AR技术的发展我们对显示提出的更高的要求，也进入的全新的阶段，大致可以分为三个部分，首先是不可以用的CRT阶段，最后到的柔性显示，柔性显示也是经过了四个阶段，OLD在进程中发挥了重要的抉择，目前还是存在一些问题。下一部分是高纤氧化物，具有比较好的稳定性。我们开发了纳米组合成的BCE结构。纳米组合成是基于一各薄膜。通过SPS的法，主要是这个界面有新的化合物生成，这样的话就形程了一个重炸弹的区域，这样就更容易形成技术。另外我们对纳米组合成的厚度也进行了研究，厚度在3厘米以上，不管在稳定性方面还是其他的都比较稳定，性能比较好。这是我们BCE的一个性能。静态方面的话我们发现，气垫性能没有太大的变化，基于以上的技术，我们就制定了一些柔性的显示器，PPR可以达到300以上。这是我们一些柔性的样品。小结一下文字的话，我们纳米组合成的VC技术，可以做低成本，稳定性比较好，在未来高PPI的显示方面还具有一定的竞争优势。我们的新世界是在广州的开发华，从2010年成立以后到2012年我们在柔性显方面做了一定的工作，取得了一定的进展，另外我们在打印OLED方面也展开了相关的研究，总地来说，我们从设计到系统基成，柔性的照明、透明显示，电子纸等方面都有一定的技术储备。图片上是我们的一些合作伙伴。然后是总结，首先我们是进行了材料的开发，BCE工业的探索。谢谢大家，我们在前边有一个展台，大家可以去取相关的材料。谢谢大家！

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时间：2016年9月23日上午
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9：40—10：00  基于湿法背沟道刻蚀型金属氧化物薄膜晶体管的兽性AMOLED显示  
演讲人/单位：徐华  华南理工大学  研究生

北京京东方专用显示科技有限公司朱麾忠部长

IGD每一个象素还有三个信息，对于最终白色的变化调整，我有九个变量要进行调整，如果其中每一变量要调整的话，不是点对点，不是单一的，是有另外一套算法在里面。

现场提问

您在报告当中提到了，您在亮这一块对色度也有校正，但是在您的报告当中没有提到色度校正这一块，只有亮度。

主持人昆山维信诺显示技术有限公司 总工程师金波

下面还有一点时间，台下有没有提出问题的。

北京京东方专用显示科技有限公司朱麾忠部长

人眼对于高亮的显示不均是无法区别的，需求层次也不是很明确，我们先来看一下图片。第一是我们TV产品在低灰阶下的显示状态，效果不是很好。我每次出差都喜欢看酒店电视机的显示屏的效果，基本上都是和我后方图片显示的差不多，包括家里电视机的显示效果和这个类似，有的人会说，这个没有关系，因为这个显示效果是在开机的一瞬间才能显示这样的画面，我背后的画面蓝天的色彩不是很清楚，加上雾霾就更不清楚。大家对于这些产品的显示不均的关注度不是很高，我们来看一下特殊的应用，这副图是在夜间导航的状态，下面的图是我们目前正在推广的前液晶的仪表盘，它显示的均匀性对于我们驾驶员的判断就比较重要。下面我们来看航天的产品，也就是飞机的驾仓的显示系统，它就是全天后地工作在低灰阶的状态，对于飞行员的判断来说至关重要，我们试想一下，如果是战斗机，对于目标的判断就显的格外重要。下面的图片就是雷达的显示效果，从它应用的环境来看，低灰阶显示的积极性就不再做过多的叙述。从以上可以看出，从车载、航电等特殊的领域对低灰阶的需求性要求非常高。我们来回顾一下传统地改善方法。主要从两个层面，第一个就是液晶盒，包括我们液晶量的管控，液晶量过少会导致显示不均，过多的话会导致在高温的太下会导致重力的恐慌。第二大类的方向就是偏光片的材料。然后就是全接头的材料和工艺，包括OCR和OC。以上改善的设计对于工厂的工艺波动要求非常的高，目前是在持续地改善状态。好，基于以上我们提出了一种全新的改善的思路，我们来看一下它基本的工作原理，首先是由高晶度的CCD的采集对我们原屏的亮度信息技术采集，这个信息是要精确到每一个强度。来看一下系统当中亮度采集的传单器，首先是一个16位高精度的，图中我们也可以看出，相对于10倍的传感器颜色变化是非常的流畅和非常的均匀，系统工作到一定的程度的时候，会散法一定的热量，所以我们增加了低温制冷，恒温装置，使温度可以稳定在正负0.1度，确保我们的数据不随时间的漂移而变化。因为我们是经过了CCD的采集器，所以我们要尽可能地降低采集的过程，对我们原始信息的损害，所以我们在镜头前增加的人眼补偿波片，我们最后选择了比较大的光圈，对于比较大的产品我们可以采取单次采集，提高我们改善的效率。硬件系统我们采用的是AVNET公司型号的PGA来实现的，简单地看一下它的工作原理。蓝象素和绿象素补偿的参数和红色是相似的地技术是储存的。我们看一下软件活动，第一步是我首先要调整CCD的象素，第二步要控制屏幕进入低灰模式，然后拍摄O灰解的亮度图片，然后采集每个象素的亮度、色度，下一步是数据处理，我们得到了液晶屏上每一个象素亮度的信息，我们现在就要设定一个目标值，这个目标值的来源可以依据客户的要求，我们可以是这一灰阶当中最亮点的亮度值作为最高值，其他的象素值要跟它作为一个比较，比较完了我们会有一个差值，这个差值会跟我们的数据进行比较，最后选择最接近的数据作为我们补偿值，这样我们建立了一个数据酷，最后我们进行仿真查看效果。

    下面我们看效果，第一行是任务信息和图片，第二行和第三行是我们提取的效果，我们以2700作为进行校正，它的均一性是可以达到80%，但是从视觉上看依然不能接受，它的明亮表现依然很明显。第二个是我们以5500作为目标值来作为校正，均一性可以达到91%。从图片我们可以看到，改善之后的图片对于之前是有提升，亮度提升会导致对比度的下降，原始亮和暗的分界线依然很清晰。

    下面我们来解决两个问题：第一、最大限度的确保对比度，这两副图，左图是原屏亮度信息，均一性只有56%，我们调整之后提高到了80%，对比度从960：1降低到830：1。图二是消除水波纹的分界线，图中是我提取的9个象素的分界信息，通过比较以中心点为目标值和平均两种算法。我们看一下结论：第一就是通过我们采集系统算法的处理，可以对液晶屏墨组生产端对低灰阶下的亮度差异进行精细调整，理论上可以提升到100%。最后是我们目前想到的扩展应用，第一就是可以改善Mura类不良。第二是调整液晶屏色坐标及色度一致。体验者比较关注中心区域的显示效果，原来单体的边缘就有可能出现在拼接屏的中间部位。第三是可以提高拼接屏的亮度和色度。感谢大家！

主持人昆山维信诺显示技术有限公司 总工程师金波

9：00—9：20 液晶屏低灰阶下显示不均的改善和研究 演讲人/单位：朱麾忠 部长 北京京东方专用显示科技有限公司

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时间：2016年9月23日上午
地点：合肥新站利港喜来登酒店（二楼大宴会厅B）
会议主题：2016中国平板显示学术会议大会
分论坛二：LCD和OLED显示

主持人

各位还有其他问题吗？今天也确实累了，感谢各位的参与和互动，今天我们分享平板显示器产业里面上下游的材料，这次大会到今天下午这一时刻为止就基本结束了，相信大家在会上会下都做了很多互动，有些是新材料，还有是传统材料的改善，希望大家通过这个论坛，以及学会的平台，能够增加互相之间的交流，促进产业的发展。

贵丽红

尊敬的各位嘉宾大家下午好，非常容幸成为最后一个汇报的人。我今天汇报的题目是《液晶挥发特性的研究》。
主要分为两个内容，首先我重点介绍一下我们论文内容，其次是我们公司产品的应用和发展趋势。
研究背景：在LCD罐晶工艺中，无论是切连罐还是ODF工艺，都会对液晶材料进行脱泡处理，所以我们做了两个实验：
通过实验我们发现这两款材料都发生了变化，这两个变化的趋势基本上也是一致的。
我们再对比一下，这两款液晶在5帕的真空情况下存放7个小时，它的趋势是一样的，也就是我们这个单体在不同的（真空）当中它的挥发程度是相同的。在什么样的情况下我们的液晶不发生变化？或者说它的发生变化很小，我们的测试甚至可以掩盖它的变化，那就是在2小时之内，10帕的情况下它是不会发生变化的，它的折射率基本上是没有变化的。看一下它的组分分析，它的变化也非常小，在2小时之内是没有变化的。
我们对单体也进行了研究，这个图是它的DSC图，这个是它的熔点，245度左右，它是我们应用材料单体里面比较小的一个分子，所以它的挥发性不是很大。在60度的情况下，在140ga的条件下，20个小时它的挥发量是0%。在80度，140pa，它的挥发量是1%-0.05。
实验结论分析：
物质的形态：固化、业态，气态。
液体在任何温度下和气压都会蒸发，只是速度和程度不同。
低沸点和有机化合物，称之为挥发性有机化合物，是指沸点在50-260摄氏度之间。
挥发速度和程度主要因素：温度、大气压力、液体表面（空气）流动速率。
公司概况：我们公司成立1987年，我们经过近30年的发展，我们的混晶发展是非常好的。
PDLC大家都很熟悉了，我们目前的规格，红色的是我们目前规格，我们目前研究的方向就是做到0.3，还有一个就是我们要做到裸眼3D。有一些厂家是凹凸镜，先实现2D和3D的切换。（PPT）这款液晶是目前已经量产的液晶，低温也有拓展，再一个我们会去研究，改善它长时间的可靠性。我们对TFT的发展方向还是在液晶、负性液晶、正性液晶。在以前我们没有别的办法，我们通过最新的研究发现，单体还是有其他的补救措施，里面加入一些单体，可以提升很新的一个可靠性，通过我们稳定性单体加进去以后，稳定性会有一个提升。
最后，快速相应单体研究趋势，我们坐标对于负性液晶，目标就是开发副形单体，对于正性液晶，我们是希望达到200度以上的（切割点），对于正性还是希望提高它的K值，提高它的响应度。

主持人

有请石家庄诚志永华的贵工，有请。

深圳溢清光电股份有限公司 熊启龙

大家好，我代表公司给大家作一下《5代TFT-LCD掩膜版制程MURA不良分析研究》
    什么是掩膜版？掩膜版也称光罩，是一种用于微电子制造过程中的图形战役工具或模板，主要是应用于微电子平板复制工序中。
    TFT MASK生产简介：曝光-显影-烛刻-脱膜-测量CD-测量TP-贴膜，MASK的光刻参数是MASK产品精度的关键指标。
    “MURA”源于日本在平板显示中是一种典型的显示缺陷专业术语。本质上，是在一个相对不变的光源条件下，人眼对光的感受不同，感官能够判断有颜色差异，通过不同程度的色差而定义的缺陷。
    MASK的MURA一般可分为：块状、线性和面状； MURA一般大于一个像素，无固定现状，边缘模糊，对比度低；MASK MURA的产生原因有很多种。
    对于拼接，我们希望是一个最好的拼接，但是实际上都会有一些波动。
    另外一个就是工艺方面，我们的原料，光刻胶是两种方式：SPIN和（SLIT）方式。MASK生产多采用SPIN主要考虑因素是适应多个尺寸的需求。
    为了提升显示性能，TFT-LCD设计人员在像素ITO的设计中越来越多地使用到slit模式。目前线条的宽度在3-4微米左右，并希望能够将线缝宽缩小到2.5微米或以下。
    而已经建设的5代TFT-LCD生产线中，曝光机多为CANOA MPA7800，曝光机解像能力一般是3微米。设计图形已为MPA的能力极限，因此各种矛盾也随之而来，其中原本不存在的问题也显示出来。
    MPA7800的MASK的尺寸为520×800mm，长宽比大，Spin过程因离心力问题而造成mask面内的CD呈现环形分布，从而形成环状MURA。
    根据以上分析进行改善的测试，从而消除叠加效应。先测量矩阵点，采用面内的CD数据并制图，发现类似环形的CD波动。经过多次对显影、光刻环节进行了综合补正测试后，再次制作一张TEST MASK，重新进行面内矩阵CD测量，以及像素进行连续的CD测量。
    MASK面临的几个问题：MASK面积增大则自重变形也增大，而解决自重变形只能增加厚度，就导致产品就越来越重。MASK对适应基板的加工质量又有很高的要求。在熔融成型、研磨和抛光环节也非常苛刻。在减少制程上，从5MASK发展到4MASK，技术已经成熟，但3MASK一直未能突破。HTM工艺更稳定，HTM生产成本高、周期长，因此GTM还会使用一段时间。随TFT试件性能的提升，对制作精度的要越来越高。OPC以及SSM技术引用到MASK上将是一个趋势。
    我们清溢公司是1997年成立的，总股本2亿，303人，其中技术研发人员65人，占21.5%。我们除了做产品以外，在配套装配里面也做了相关的发展，比如说LCVD的研究，目前来说我们是第三家能够把理论转化为实际的公司。我们除了环保体系，我们还有信息安全体系。这是我们企业的实物照片（PPT）
    谢谢大家！

主持人

我们欢迎深圳溢清光电股份有限公司的熊启龙，大家欢迎。

合肥工业大学 严乔

各位参会嘉宾下午好，我是合肥工业大学的严乔。今天我汇报的题目是《触摸屏绑定用光学胶特性研究》。
    我的汇报从四个方面来进行：一是目前触摸屏绑定研究现状；二是研究思路与原屏测试；三是仿真分析；四是结论与展望。
    一、目前触摸屏绑定研究现状：框贴合，中间的空气层会对光线产生这些，对现实效果的影响比较大。后来做了一些改进，对全贴合进行一个分析：全贴合的屏幕在高温环境下显示不均现象，显示边缘出现黄色斑点或条形状显示不均。
    二、是研究思路和原屏测试
    我们购买了两个不同生产厂家参数完全相同的屏，拿过来进行测试和仿真分析，由于有限元软件是需要一些参数的，所以我们首先要对液晶屏进行测试。因为液晶屏内部元器件较多，有基板等器件，所以无法对每个器件都进行实际测试，我们对液晶屏进行了等效处理，将其等效为简单的五层模型。我们用的测试方法是，因为这个是需要热力学测试，包括弹性模量和面内弹性模量测试，所以我们首先对弹性模量进行测试，它能够感应到在这个方向上的变化情况，然后计算出面内的弹性模量。而垂直的面内弹性模量我们用的是位移计，位移计感知垂直的变化，从而计算出垂直面内的弹性模量。
    这是测出了两种液晶原屏的各部件参数，偏光片、CF基板、液晶层、TFT的弹性模量和面内的弹性模量系数。
    三、仿真分析
    我们把测得的这些数据和实际的参数进行分析，分析液晶层的厚度变化情况，因为厚度变化是会影响显示效果的。整个这个图，就是坐标左边是液晶的最左边的边缘，右边是液晶走右边的边缘。整个凸面的地方是在触碰屏的内部，跟实际情况是比较相似的。
    液晶屏1比液晶屏2厚度变化大，说明我们测试模仿是有意义的，分析为什么这两块屏它的厚度是相差比较大的。
    下面是针对液晶层厚度变化进行进一步的分析，因为测得弹性模量是1.65e7Pa，线膨胀系数为1.2e-3m/摄氏度，结果我们发现1.65e8到1.65e9的变化比较大。然后我们对线膨胀系数进行了分析，固定弹性模量不变，让线膨胀系数从1.2e-5，每次变化一个数量级。
    四、结论与展望
    我是通过建立等效模型，用有限元仿真软件对两种绑定光学胶后的触摸屏进行了仿真分析（PPT），机遇这种结果，我们需要对不同的液晶屏匹配不同的光学胶，我们拿回来一块液晶屏要先对它进行测试，然后进行分析，从而选择最合适的光学胶，这种方法有助于触控屏提高生产良率，降低生产成本。

主持人

谢谢，下面我们有请合肥工业大学的严乔。

阜阳欣奕华材料科技有限公司 霍学兵

大家下午好，我今天的题目是《FPD气相色谱法测定液晶材料中的微量有机磷杂质》。
我们的主要工作是建立了一种液晶材料中的微量有机磷的杂质的分析测试方式，可以同时测试液晶材料中的微量三苯基磷杂质。
背景：液晶中微量有害杂质都可能对其依赖性带来严重的影响，造成品质下降，由于液晶材料配方中的常用端烯类单体艺生产采用Witig为反应，合成过程中三苯基磷和三苯基氧磷两种有机磷杂质会不可避免的引入。有机磷杂质是一种有害杂质，有必须开发针对性的测试方法对其进行品质管控。
设备：主要是Agilnet 7890B气相色谱仪。
方法的线性分析：分别对10-02微克/毫升的浓度三苯基氧磷和三苯基磷标准溶液进行测定，以峰面积和标准液浓度做标准工作曲线。
    方法精密度考察：三苯基氧磷和三苯基磷标准溶液方法对同一样品重复测定5次。峰面积重复性较好，计算RSD4.4%-5.6%。
    添加回收率的考察：在样品中加入已知量的杂质，计算方法的回收率在80%-110%。
    材料样品测试：按照本文方法对国内外不同型号的四款液晶样品进行测试，只有一款液晶材料检测出微量三苯氧磷杂质。
    测试过程中干扰因素以及测试注意事项：
    一是FPD虽然是硫磷化合物的专属监测器，但是实践中发现，含氟类的液晶单体在FPD上有响应。测试过程中发现有个别含氟类液晶单体的液晶样品会干扰到有机磷的杂质的测试。此干扰可以通过GC-MS来确认，确认后可以通过适当的减低测试样品称样质量M和更换不同极性色谱柱的方法来解决。
    二是测试中，在一定条件下三苯基磷在溶液中会出现不稳定的现象，要求三苯基磷的标准溶液和测试样品溶液应该现配现用。
    
    结论：建立了一种液晶材料中微量有机磷杂质的分析测试方法，这个方法的重现性比较好，满足测试液晶材料中的微量有机磷杂质控制的测试要求。
    谢谢大家！

主持人

下面有请阜阳欣奕华材料科技有限公司的霍学兵科长为大家汇报成果。

彩虹集团 侯璐瑶

大家下午好，很荣幸能够在这里分享交流我们的工作，大家知道我们彩虹是提供玻璃基板的一家公司，但是我们的研发工作并不仅仅局限于此。
    我今天汇报的题目是《窑炉成型区Si-SiC耐火材料高温氧化性能的研究》。
    今天我的汇报主要以实验现象为主，将从实验研究目的、过程、结果与讨论和机理分析。
    一、研究目的
    我们会涉及到很多材料，这种Si-SiC耐火材料是我们用的主要材料，它对我们的玻璃质量、能源消耗、产品成本等都有很大的影响。
    二、实验过程
    我们设计了高温氧化实验，我们采用30×30×30毫米的试样尺寸，分别在1250度、1300度、1350度在96小时和192小时的条件下进行实验，室温在1000度，保温96小时/192小时，从这些情况下进行研究。
    三、结果与讨论
    我们首先观察的煅化时间对氧化情况的影响，我们可以看到在这些地方是有白色附着物，但是有（液体）产生，玻璃表面呈现玻璃质，我们通过图二的拉曼光谱分析，我们用的是Sio2材料。我们看到它表面并没有覆盖基体，而且氧化层比较疏松。氧化96小时候生成的二氧化硅并不能保护我们的材料，最后我们对它的煅烧温度进行了探讨，我们可以明显的看到未被覆盖的一些晶体和基体的部分。同时，它有不均衡的蓝色玻璃生成，我们通过偏光片散光镜的研究，我们只能检测到一些基体材料，也就是说1250度的情况下，并不能保证这种材料的使用。1300摄氏度条件下，我们在煅烧时间这里看到过，我们又进行了1350摄氏度的实验，实验的结果是玻璃质均匀的分布在玻璃层面，我们的玻璃质比较均匀，也就是说在1300度或者1350度的情况下，我们这种材料是可以被保护起来的，同时在我们的产品当中产生的这种结石就比较少，这样我们给客户提供的产品就更优质一点。
    四、机理分析
    Si-SiC作为一种典型的非氧化物，它在使用的过程中极易被氧化，我们之所以对这种材料进行研究，是因为我们或多或少会出现这样的一些东西，所以为了提高产品的质量我们做这样的实验。这种材料极易被氧化，主要由两种形式：惰性氧化和活性氧化。惰性氧化比较慢，活性氧化比较快，这就要求我们对使用环境有特殊的了解。在实验前对这种材料的重量也进行了记录，在煅烧过程中我们的质量都发生了（增重），也就是说我们在过程中极易被氧化。这种材料在高温空气中氧化大概有四个过程：第一阶段就是我们表面的这一层碳化硅材料发生氧化反应，生成一种比较薄的氧化层。然后通过保护膜扩散到我们二氧化硅和碳化硅的界面上，达到这个界面上再进行氧化。最后一个过程就是我们刚才看到的大量的气泡。
    通过上面的判断，我们认为我们的材料是发生了惰性氧化。
    随着氧化时间的延长和氧化温度的提高，显微镜下观察到氧化层的厚度逐渐变厚，并且呈现致密化，基体表面覆盖面积逐渐变大。
    这可能是由于在热动力的作用下：一是游离的SI与空气中的氧气发生了氧化反映，二是Sic中的C逐渐被释放，越来越多的与Si为参与氧化反映。因此，在适当的范围和适当的温度范围内，我们认为对氧化层的形成的抗氧化性能的提高是有利的。
    五、结论
    通过对Si-SiC耐火材料煅烧时间和煅烧温度的研究发现，我们认为在碳化硅加热的马弗炉中煅烧的试样表面均出现致密的玻璃之层。随着煅烧时间的延长和温度的升高，我们的保护层逐渐变厚并且致密。在合理的使用范围内，随着氧化时间和温度的提高，我们材料表面氧化层的形成对材料自身的保护是起到有利作用的。但是这个我们需要在生产线上得到更多的验证，以及对我们产品缺陷指数的降低，我们需要其他的验证。
    今天我的汇报内容到此结束，彩虹对玻璃基板的提高还再继续，我们的基础研究的加强是我们对平板显示海耶的一种态度，我们将继续努力为上游面板厂家提供更优质的产品，谢谢大家！

主持人

接下来我们有请彩虹集团侯璐瑶，侯工。

华星光电 陈珍霞

当时的偏振度就是拿透过率计算的，大概是30%几，也是比较低的，这也是它的一个很大的问题。

现场提问

我还有一个问题，刚才我看到你最后那个测试，那个偏振度已经到99%了，你当时的透过率是多少？

华星光电 陈珍霞

目前来看，以这种染料的偏光片来看，目前在做的，它的偏转度是一个很大的问题，如果这一点可以改进的话，它的应用还是有前景的。现在来看偏振度还是有局限，我们目前使用的显示器还是不能满足。

现场提问

现在我们看到一些技术上的趋势，目前在基板上做偏光片的话，未来偏振度方面的改进，你认为这种有没有可能性？

深圳华星光电 陈珍霞

大家下午好，我今天报告的内容是关于《染料偏光片的旋涂法制备》，关于这部分内容我们也是开展了一部分工作，是属于比较前期的，所以今天报告的内容也比较有限，请大家多多指教。
    我报告内容包括三个部分：前言、实验和结论。
    一、前言：中间是液晶盒，两边是偏光片，偏光片配合液晶盒转动这样才能实现显示。
    常用偏光结构主要包括核心部位的TVA，再就是它的上下两层保护膜进行保护。以这个偏光片的图片来看，它比较厚，现在很多厂商也在针对这个问题进行升级，去减薄。
    偏光片分类：
    1.金属偏光膜
    2.碘系偏光膜：传统偏光材料偏振度高，但耐候性差，在高温高士条件下偏振性易被破坏
    3.染料系偏光膜：新型偏光材料，偏振度良好，且耐候性佳
    4.聚乙烯偏光膜
    染料偏光片的两种制备方法：拉伸法和涂布法。拉伸法主要的载体还是PVA，通过拉伸PVA膜带动染料分子在这个状态下进行排列，排列之后整体的效果就出来了，它同样的问题是它的厚度比较厚，主要的一个缺点就是在受热的时候容易变形，厚度也是比较厚。第二个是涂布法，这边比较特殊的一个部分就是它需要一个（配像膜），拉伸法是通过拉伸来进行一个方向性的拉伸，那么这个涂布法怎么实现这个目的？它就是通过（××膜），然后把染料涂上去，通过干燥成膜，这样我们的偏光膜就完成了。
    这边对比了我们拉伸法和涂布法的比较，总体来说涂布法的优点主要是耐候性佳、薄化，但需要解决均一等问题。
    二、实验：（PPT）
    实验的流程：称重-恒温浴溶解分散-Spin coating-Cvring：thermal+UV-Test
    这是简单验证它的偏光效果，第一张图片的膜面还是比较平整，第二张图是平行放置时它透明度的一个形式，第三张图是垂直放的时候的效果，目视效果还是可以的。
    从膜面来看，它的膜梭还是比较厉害，有一些气泡产生，这都是我们在今后需要进一步去改善的。
    我们用一些测试数据来看，我们可以看到它平行穿透、对比度，对比度在90%左右，这部分相对比较低的。再就是一个偏振度，我们这边是差一点到99%。这边是我的一个测试结果，主要的工作就是以上，做得工作比较少，因为是这是刚开始，所以结论也比较简单。
    三、结论
    优点：一是使用一一定的溶解方法及旋涂法可制备具有良好的均一性的偏光膜；二是制备得到偏光膜具有良好的透过性，且偏振度良好。
    改进：整体成膜而言，固化后出现比较明显的膜缩，主要从溶解、旋涂法方式上做改进。

主持人

下面我们有请深圳华星光电的陈主任。

现场提问

谢谢。

上海大学 李意

对，这是其他课题组老师在做。

现场提问

上海大学是有专门做有限元仿真方面工作的，是吧？

上海大学 李意

剪切力我们是用封装压配，这个标准是1×5平方毫米的焊接面积，可以满足封装的要求。我们现在，我们实验设计是1×10平方毫米的面积，所以要达到那个剪切压力的话，也可以满足封装的效果。然后有限元仿真，我们通过有限元仿真内力的一些效果，得到一个剪切力是通过这三个参数得到一个相互的关系。

现场提问

我想请问一下，您说封装的剪切力是什么概念？有一些原来仿真的时候，它原来是怎么样的？

主持人

各位有没有什么问题？

上海大学 李意

各位专家、各位老师大家下午好，我今天报告的题目是《玻璃激光封装技术研究及应用》。
    首先给大家介绍一下课题背景：
    一是基于玻璃frit浆料的激光封装技术，从2005年起就引起了业内的重视，目前已成为AMOLED显示器件的重要封装技术。
    二是玻璃激光封装技术有效的组织水汽氧气进入，避免传统封装使用有机材料易老化、透气透水性相对较高的缺点。
    三是激光封装技术还能推广应用到IC封装、手机装配、汽车焊接、3D打印等方面。
    下面从玻璃激光封装用浆料介绍一下，我们对浆料的添加剂方面也做了很多的研究，主要是对CuO如果太低的话，不能形成有效的封装效果，如果含量太高的话，它会产生过渡的内应力，并且会产生裂纹。
    另一方面，我们的Zno对我们封装的影响，适量的氧化锌颗粒可以大幅度的提高玻璃的封装。
    我们对Frit也做了研究，溶剂的挥发特性主要影响预烧结后玻璃粉膜层的平整度以及致密性。对单一的溶剂和混合溶剂的发挥性进行了研究，根据其特性制定了相应的工艺曲线，获得了指明无气孔的膜层。我们也对比了单一溶剂和混合溶剂配制成的浆料封装后的效果，发现封装的效果也得到了提高。
    我们对玻璃激光封装工艺也做了大量的研究，首先是在对玻璃粉细化的工艺上面，我们通过设计的一些实验，将玻璃粉的粒径降低到2微米以下，对研磨前后的frit奖励激光封装的剪切力结果发现：对浆料进行适当的研磨能够提高封装后的剪切力。并且我们还根据玻璃粉DSC测试曲线，设定预烧结温度范围，对比不同烧结温度下的现实图，我们也相应的做出了不同的设计。
    另一方面，我们在有限元仿真建模对激光封装参数业进行了研究，我们主要是通过仿真计算封装的直径，我们根据仿真的结果提出了这样一个理论的计算公式，就是这个封装烧结的最高温度和这个理论模型，我们通过具体的实验提高它的精确性，这为我们确定工艺参数提供了很大的帮助。
    曲面响应法对激光封装工艺参数进行优化，我们通过实验设计以及模型验证，得到该方法中的预测值与实验值相吻合。
    我们对玻璃激光封装的设备业进行了一些研究，这是我们课题组最早开发的激光封装系统，我们对整个系统的总体设计进行了研究工作，同时还对激光控制系统进行软件开发并对设备进行了工艺验证，得到的效果还是比较好的。
    同时我们在设备的视觉定位方面也做了一些工作，自主设计了“八线四顶点”的对位方法，通过方法设计和算法优化，提高了对准确度，同时缩短了工艺的时间，提高了生产的料率。
    这是我们一些项目的支持，谢谢大家！

主持人

谢谢范老师，下面我们有情上海大学的李意。

深圳市三利谱光电公司 范志新教授

刚才闻老先生作了报告，1998年是我头一次听他作报告，这么多年过去了。我今天带来的这个报告是散射偏光片的一个实验。2014年在南京的平板会议上，做的报告是关于散射偏光片的一个畅想。那时候我手上的样品是玻璃，这个玻璃有什么用处，先发明这个东西然后再去看看它能干什么？结果发现它是一个透明投影屏幕的技术方案，当然现在液晶显示应用越来越多，其他的显示在萎靡，我做这个东西是不是还有用，已经很悲观了。当然只要投影仪还在，可能还需要，尤其是现在大家看网上，有些车载显示投影在车床玻璃上就有一些激光显示，那个屏幕当然是透明屏幕了，它不一定是真的把显示器做在屏幕上，而是投影。那如果用到这个投影就可能是是激光投影机，也可能是（A×投影机）。我做玻璃不适合产业化，应该把它做成产业化，在2014年的时候，我手上有玻璃的样品，这段时间我没有全力以赴的做这个实验。我是河北工业大学的教授，在三利谱当个专家，这次会议是完成任务，自己也没太认真，不好意思，主办方还让我上来作报告，我觉得有点不太好意思了。
    这个论文的大概意思就是我做这个散射偏光片它是一种新型的装学功能的薄膜材料，这个东西是我过去想到的，我过去想把它当透明投影屏幕。真正要把这个玻璃的样品转化为胶片，就要像做吸收偏光片一样的办法，泡完以后再经过拉伸，一个方向的光透过、一个方向的光散射。
    我现在做的这个样品的透光率也不算太高，偏振度尤其是很低，后面还可以继续的玩下去。
    我在这儿就相当于是科普一下，有很多人不知道这个事，显示行业都在用偏光片。偏光片种类：一是吸收偏光片；二是反射偏光片，现在也产业化了，这个偏光片是一半光投射，一半光，散射；三是线栅偏光片。吸收偏光片和反射偏光片一平米是100块钱的概念，而线栅偏光片一个指甲盖大概要（1000）块钱。
    散射偏光片原理：散射偏光片的制备方式是将聚合物分散液晶膜单一的方向拉伸，使液晶微滴形状变化致使液晶分子取向，形成折射率各向异性的分散相液晶膜。使液晶在一个偏振方向上的折射率与聚合物折射相同，对偏振光而言是同种介质、光投射；而在另一个方向折射率不相同，对偏振光而言是不同介质、光散射。
    样品制备：第一步怎么配乳胶，然后放到流延膜上，在流延膜上做单向的拉伸制备。
    实验：观察透过样品观看液晶显示品的效果，如图所示，当散射偏光片透光轴与液晶显示屏吸收偏光片透光轴平行时，图片比较清楚；当透光轴正时，图片比较散射。由于我这个做的还不太过关，遮光还做得不好。
    实验：观察在偏光显微镜下的液晶织构，如图所示，没有拉伸前结构是液晶微滴呈现圆球形。
    另外，用样品去测一下透光率和偏振度，从这个曲线上我们也可以看到这个偏光率是多少。中间这个红色是透光率，如果没做单位矫正的话应该是黑色和绿色两个加起来的透光率。
    光谱分析看，样品可见光透光率不够高，红光透光率最高，约40%；绿光透光率约35%；而蓝光透光率比较低，才30%左右。样品的偏振度不高，在绿光处，偏振度差一些。
    另外一个实验，以样品作屏幕观察投影的效果，上面两个图相当于是正投，整个正投效果不是太好，下面两个是背投，背投的效果相对来说好一些。
    我顺便宣传一下三利谱，咱们在合肥地面上的彩虹、京东方、乐凯都汇集了，三利谱也来凑热闹了，现在这个产项也在做，下个月要搞个庆典。现在学生想要就业可能首选去京东方、彩虹，如果去不上，我们三利谱欢迎大家。
    三利谱也是要做国内偏光片的引航者，未来中心要安在咱们合肥这儿。
    最后，我再替我自己宣传，我最近刚刚位三利谱公司写了这本偏光片的教材，现在是排版阶段，如果书出来之后，国内液晶企业、光学功能膜企业可能都会用到这个书，因为这方面的教材也很少，没有人现在做这个工作。上午听乐凯的报告，我也是挺激动的，我要是早知道这个报告，好像我这个教材的质量会更高一些。
    谢谢大家！

主持人

谢谢，我们有请下一位。深圳市三利谱光电公司的范志新教授，有请。

合肥京东方 宋淦

设备方面可能还是用在常温，如果是高温的还是用之前的技术，但是对于常温的用P-ITO的话可能会a-ITO更好一些。

主持人

那在设备方面有没有什么变化？

合肥京东方 宋淦

现在的方向是，P-ITO比a-ITO的优势更明显一些，我觉得在未来应该会取代a-ITO。

主持人

我有个小问题，你这个P-ITO是替代a-ITO的还是两个并存？

合肥京东方 宋淦

在座的各位专家大家下午好，我是来自合肥京东方的宋淦，我这次演讲的报告是《新型p-LTO膜质特性的研究》。
    我们主要是实验设计，给大家分享一下。
    我们这篇文章讨论的P-ITO薄膜跟我们平时讨论的薄膜是一样的，P是Phase的缩写，指晶相的意思。P-ITO薄膜与传统的ITO薄膜相比，具有刻烛率更高，能彻底消除o-ITO膜厚度时大于1000A的问题，同时还满足常温成膜小于a-ITO同等的电阻和透过性。
    P-ITO介绍：P-ITO与传统的a-ITO的靶材组成和配比一样，只是其中参杂了v微量的其他物质，在微观结构上增加了2nd为 Phase的比率，同时该微观物质能够降低2nd Phase而的电阻。同时，P-ITO刻烛率较高，可提高ITO Profile并改善ITO的残沙现象。
    P-ITO同a-ITO一样，在In2O3形成过程中，没有构成完整的理想化学配比结构，晶格中缺少氧原子，因此具有一定的导电性。
    实验部分，我们的实验主要就是6代立式成膜设备直流磁控溅射法。我们当时也是做了多次实验，这是后面比较成功的，我们做了三个样品。
    实验结论，P-ITO薄膜相对传统的a-ITO薄膜，在直流磁控溅射常温下成膜，相同条件下，P-ITO的电阻和透过率基本和a-ITO相当，可以满足实际工艺要求。
    在ITO相同膜厚相同刻烛条件下，P-ITO基本无残沙发生，a-ITO残沙明显。
    在实际生产中，对比下机后P-ITO和a-ITO残靶的外观。发现a-ITO靶材边沿和拼接出产生的Nodvle较少，理论上有利于TP改善，有待进一步去求证。
    新的方向：PXL不良降低，DO不良降低。

主持人

下面有请合肥京东方的宋淦。

请福建省邵武市永晶化工有限公司 闻建勋

我今天做这个报告，看看这个题目就很长。我原来在永晶工作，我是搞基础研究的，永晶所有规定，说你带研究生就要做学问，你不可以把研究生当劳动力，在永晶不可以任何把把研究生当劳动力，这是永晶的一个规矩。我们永晶是很有名的，我们在研究所研究生不允许有很多，同时在一起的研究生不允许超过5个，你要对学生负责任，你不要拿人家当劳动力。
    这里有个表格，作为我个人来讲，做了很多东西，如果搞金属研究的话，我做的含氟业，没有氟的东西我一概不干，只干有氟的东西。这个图像，除了下面两个台阶跟我没关系，其他的都跟我有关系。
    这个方法全都是我个人建立起来的，现在包括国外都是用我的方法。我现在做液晶的时候用的很多的都是这张图片上的东西，如果这几个东西你不用，那你TFT液晶不要做了。这个东西对我来讲，有人问我，他说你怎么选题目的？你怎么会选到这样一个题目？我国外留学的时候是做高分子的，但是我那个题目对高分子的机理研究，当我研究完了，后来基本上都差不多了，机理都已经清楚了，没有什么可研究的。别人回来都带来很多东西，我回国也没有什么东西要带的，我就要找，找的时候就很凑巧，（863）开始的时候就要搞，就做（三级非向性）。我在广州开会的时候，他做（巨霜醛）做的很好，我考虑到给它氟化掉。制革东西对我来讲，这个工作我很怀念它，为什么怀念呢？像我这一代人，我们是40届，60年代毕业的人都面临这样一个问题，我们名片拿不出去，到国外留学导师看我没有什么本事，我就认为我有博士生我就有副教授的资格，回来以后还是个助理研究员，还是没办法，助理研究员你去申请东西申请不到，就是你没有本事。这个问题对于所里面来讲是个非常大的问题，后来国家好不容易提职称了，一直到1986年我们才提到副研究员，后来说还不行，我们研究所会吃亏，我们的水平高，但是人家低我们高，申请职称就是倒霉。人家大学里面叫一个学院，我们还是室，人家是院长，所以这个没法弄，所以提职称，三年之后才提成正教授。但是他提出一个问题，以前提出副研究员的文章一概不算数，那这三年能有多少工作？没有多少工作，所以提不上去，就没办法了，后来我就弄了（863）。我们永晶所第一次就我拿了7万块钱，我们所那几年在国内文章就是全国第一的，起码我在永晶所最大的功劳就是永晶所不是“光头”。
    我做这个东西有一个问题，它是一个激光的问题，我是搞化学的，我对激光不懂，而且对于测试我们也没有条件，所以后来就把这个东西拿到日本去，我对研究生讲了，你在这待两年把样品做好，学生非常卖力，做得很好，后来职称没有评，直接通过。
    申请第一个专利是（95个化合物），1991年在深圳开会的时候，说中国里程碑跟着别人爬，自己创新。我这个东西好在什么地方呢？你可以看到，中国科学院有一个（85项STM），然后会所提出来液晶让我们做，做就做，我说你给我多少钱？他说25万。我说25万能做成液晶吗？他说没事，你只要做一个液晶掺杂剂，你掺杂剂掺杂进去，你速度变快了，就可以申请专利了。
    我算了一下，我这个东西提高了5%，它这个速率提高了30%。这些东西当时，为什么国内不能开发呢？我的观点，我没有条件开发，开发不是个简单的问题，我只会搞研究，开发是另外一个本事，我不会。我说我不开发，有人讲我们想用你的东西开发，但是我们内部有矛盾，所以后来也没用。
    这是我做的几点研究，当时没人做，当时液晶大会说中国是个大国，为什么没有文章？没有文章就找我，华东理工大学的一个教授找我，他说老闻你愿意不愿意参加？我说我愿意参加，但是没钱。后来他打电话，说：“会议给你两张飞机票，再给你一些费用”。我说那我就去吧，我非常满意，因为他给我的飞机票都是一等舱，说明他们很重视我。这个工作做的很有意思。
    下面这是后来我做液晶的时候，我除了做这个，我做的是蓝色液晶。当时说都是蓝相液晶，这怎么交差？我的一个研究生是1996年毕业的，他毕业论文上就写了，所以这个工作是1996年之前就提出来的，后来又有一个学生，是一个女孩子，她用英文发表了。
    这是当时做的曲线，这是像图，很好看（PPT）。我们做到的是850，我查了一下世界上当时最高的水平是760，我做到了世界上最高的数值。
    这是三氟萘的氟化方法，是用非常的很贵的氟化剂来做的，但是成本很高，生产出来也买不起。后来让中国人来做，也是没有办法做，后来就让我们回去了。后来又一位女同志跟我很熟，她说：“闻先生你能不能做这个”？我说“这样，你们没有人做我去试一试”。她说：“你做好了给你一万美金”，后来我就做了，做了三个月就做成了，很简单，做成功了。
    这是今年1月份日本液晶受赏纪念特集号，举个例子，这一堆全是我的例子，他们说我们日本做了那么多年没做成，一个中国的教授给我们解决了。我一开始也不知道，后来我一个朋友跟我说你看看，人家日本表扬你。这代表了我们中国一个水平，就是这样一个问题。
    下面是我的题目，我现在做的就是上面这个东西，这个东西的反应可以看一下，原来日本人在这个地方是3个氟，做液晶的时候往往就是用这个东西。但是1995年，当时不让你弄，只能跟着人家后头跑。然后我从氟化的角度能不能做？但是我一查，人家很多都是失败的。后来我们就用其他的办法来做了，日本人说你做成了给你一万美金，我想这个很简单，因为这个我已经在所里面做了。我找两个人加班加点的去做，刚好有一个在我那做研究生的，已经论文做完了，还有两三个月没事干，我说我给你找点事情，我说我这个地方这样的一个研发，你来做一个液晶。后来没抱任何希望，他就做了，做完以后就成功了。这个东西有什么好处呢？这个东西的（脂溶性）非常好，有很多优点，我们也申请了专利，这也是我现在到他们这个工厂去的一个原因，我们既然申请专利了，就要把它开发出来。
    TFT混合液晶物性参数：我们做了一个配方（PPT）。
    另外一个问题，我另外又把化合物，现在做CF2O的，我把它统统用在这里，做这样的化合物，但是这样它的专利就没法覆盖了。我现在发现一个现象，按道理来讲，我们现在做的液晶，碰到的液晶都是固定的，很少有液体的。我现在做的这个是也定，有也定的液晶，那么这个问题，实际上含氟液晶没有人做出液体液晶，我做出液体液晶了。
    我在申请专利的时候，他问我是怎么设计的？我就写了这三句话：“昨夜西风凋碧树，独上高楼，望尽天涯路。衣带渐宽终不悔，为伊消得人憔悴。众里寻他千百度，蓦然回首，拿人却在，灯火阑珊处。”意思就是本人没有设计。
    再一个问题，你要学习杨振宁先生的精神，杨振宁是渗透式的学习，要多看书，一本书看了一遍就好像毛毛雨，下次还要看，要渗透式的学习。实际上我们拿来一些液晶方面的书，有些东西我们要反复看去理解。
    好的，我说完了，谢谢大家！

主持人

下面有请福建省邵武市永晶化工有限公司给大家发表他的课题。

彩虹集团彩虹股份的研发中心 焦宗平

我代替王答成工程师来讲这个《浅析液晶玻璃基本缺陷检测技术》，重点围绕缺陷检测这个主题来给大家汇报。
    首先，这个基板的话，基板一个是做彩膜的，一个是做TFT的。液晶玻璃基板进行多次精密光刻加工，要且液晶玻璃基板表面应无任何划伤和污点，防止微电路的短路或断路、破膜等用户不良发生，内部夹杂物应足够小，以至于不影响显示器的图像质量，这对液晶玻璃基板缺陷检测技术提出微米级高精度的要求。
    液晶基板玻璃的缺陷检测，这个图上画的，在这个面上也是一个结石，这个缺陷会在玻璃表面造成一定的变形，所以这就有一个变形尺寸，当然它缺陷的高度对我们来说是要控制的一个关键。凸起的这个高度H，我们也是在在线检测的时候重点关注的一项。这个高度在线的检测分成两种办法：一种是分层，把玻璃板分成三个层：TOP面20%、Bulk面60%、Bottom面20%，对于这个高度我们现在没有什么很好的办法，最简单的办法就是根据这个缺陷，我们利用一些离线的检测设备，在缺陷的大小和凸起的高度找出一定的关系，所以目前在线控制对这个TOP高度比较难。TOP表面低对比度的微划伤检测，对于一些划伤等缺陷，这些在线检测也有一定的难度，这是玻璃在线检测方面的主要技术难点。
    我们在线检测的设备：
    1、Particle颗粒检：大于1微米，微划伤大于10K LUX，在线全宽度分A、B层；
    2、Defect检测，熔解缺陷Lnclvsion准确检出：Tt、Stone、BLister等，冷端缺陷ADG、Dirt、划伤分类、检出。缺陷SizeTB、SizeTD特征量灰度阈值小于95不合大于150亮暗缺陷。
    3、Edge检测：斜边大于等于20微米，掉片、裂片和研磨质量，CCD解析度10微米。
    4、Review检测，Particle、Defect、Edge检测之后还要进行Review检测，它的主要目的是对缺陷再确认，对缺陷的特征有一个精细、全面的检测。
    我们用德国这一家设备，这个检测设备最核心的技术就是多源缺陷技术，多源缺陷就是同一个缺陷运用不同的打光方式，反射光、线相机、穿透光等，主要目的就是对多源缺陷的主要特征分析出来。
    我们用到的另外一个技术就是分层，分层技术当然常规行业通用的就是通过（炼焦技术）进行分层。现在有双像重影分层，用两套成像系统进行识别，根据CCD1和CCD2的成像情况而定。
    双线TDI CCD工作扫描：申克G6设备特有的双线CCD，把焦平面上常规的一排线阵CCD变成两排的CCD采样，每个CCD采用TDI扫描技术，拍摄时对某一个缺陷进行多次曝光，通过延时方法增强光能收集，保证在低照度的条件下，避免运动玻璃板缺陷拖尾现象，提高输入缺陷信噪比，有效的解决CCD灵敏比与玻璃板移动速度、分辨率的问题。另外，每个CCD都有独立的处理器，提高了检测系统相应时间和处理器运行速度。
    缺陷检测流程图：当确认完成设备工作参数设定后，启用设备，CCD扫描采集缺陷图像，按照固定阈值法将缺陷从玻璃板背景中进行分离识别。
    结束语：液晶玻璃基板缺陷检测技术，终点监测缺陷夹杂物核心和表面变形，各类异物在厚度方向的分层、缺陷凸起的TOP面高度及TOP面微划伤。申克AOI设备应用多源缺陷分析技术，电子式数字变焦分层、双像时差分层技术、双像重影分层。在图象处理技术方面，申克设备的图像特征定义完整、准备，用来有效创建缺陷分类器和质量管理器，表现自动在线实时缺陷分类、质量过程管理功能，在液晶玻璃基板制造领域有很好的应用。

主持人

彩虹这一块的过滤是今年刚刚量产的，正在摸索。昨天在大会上也有一个彩虹今后发展的趋势、研发的计划等等，所以我们后期也会根据用户的需求，不断的去研发用户体验更好的盖板玻璃，让大家在滑动过程中体会更好，当然了，除了我们做工作以外，还需要我们下游的这些手机厂商，玻璃加工的这些厂商一起来努力，把这个产品和用户界面之间的产品做得更好。
    下面有请彩虹集团彩虹股份的研发中心的焦宗平。

彩虹集团玻璃有限公司仵小曦

各位专家、各位老师、各位同仁大家好。我们从去年12月底开始进入CG-OD高铝硅的一个探讨，我们先设计的CG-OD这个钢化性能怎么能够满足市场的需求。
    首先我们看一下背景：盖板玻璃大家知道是用于涂控显示领域的屏保护的材料，我们彩虹集团自主研制的CG-OD高铝硅超薄玻璃在盖板用玻璃行业属一种高端产品。它高端主要体现在高率含量，AL2O3净含量接近19%，高透性大于92%，还有一个耐磨性非常高。
    2015年12月份研发以后就开始试制，到2016年3月份已经实现了量产转化。现在的问题是怎么快速的获得客户的认可，我们主要是模拟客户使用条件，实现与客户的良好对接。研究玻璃氧化后的性能，掌握并提供详细的信息。
    彩虹CG-OD高铝硅超薄玻璃工艺简介：基本上所有的玻璃都少不了这几个制程，我们这个玻璃采用的是溢流成型法，这个图上大家可以看到，玻璃溶液是通过通道进入溢流槽，流入溢流槽以后就会形成一个自然屏的玻璃，然后后面经过横切和纵切就能够形成我们需要的尺寸玻璃。左边那一部分，整个算是后加工了，主要是检验，对产品表面进行贴膜，然后放间隔纸等相关的一些程序，应该说这个产品的生产重点难度是在配料到成型。
    盖板玻璃加工工艺，无论是网上还是相关资料里对这个介绍比较多了，就不详细讲了。
    作为手机的话，大家知道最常出现的两个问题，一个就是手机在使用中容易凋在地上摔碎了，还有一个，我们无论手机装在这个包里还是装在哪里都会相摩擦，所以它这个玻璃必须要具有高度的抗冲击性，所以它必须提高表面强度。
    离子交换钢化技术：保证光学质量；不变形、适宜冷加工；超薄玻璃广泛应用。
    我们3月份产品量产以后，在相当多的终端厂商业进行了试制和技术交流，在这个过程中了解到各大厂商钢化温度在400-440摄氏度，钢化时间是3-6小时，不同钢化条件会对钢化性能产生非常明显的影响。对应的玻璃原材料必须有一个合适的钢化条件，这样才能把玻璃最佳的性能表现出来。我们首先要自己清楚这个玻璃它本身的钢化性能在什么样的条件能够达到最佳的性能。
    实验流程：首先是裁切，经过简单的清洗，然后进入预热，通过一个钢化，再冷却，冷却以后经过清洗干燥，然后是测试，测试样品表面的（深度）。
    实验条件：这是根据高温使用的条件，设计了13种实验进行组成实验。
    实验数据，总共有13种实验数据，随着离子交换时间的延长，以及溶盐温度的提高，表面温度是呈现一个明显下降的趋势。
    基本的要求是CS大于按930MPA、DOL大于40微米，所以我们以CS和DOL这个数据作为实验标准，根据分布同时符合CS和DOL的钢化条件，在5小时和6小时的情况下可以满足我们的要求。最终分析的结果是钢化温度在410度，时间在6小时的钢化条件下，CS和DOL的一致性是最好的。
    总结一下，随着离子交换时间的延长、溶盐温度的升高，离子交换深层深度整体呈现上升的趋势；彩虹CG-OD高铝超薄玻璃，在钢化温度410度，时间为5小时或者6小时的时候，CS、DOL是符合用户要求的。
    本次实验中存在的明显不足，我们不能完全等同用户生产使用状态，比如说我们没有CNC的试验设备，所以我们没有办法对这个进行处理，这样就没有对玻璃实际上面的一些问题进行解决。
    我们的改善思路有两个方面：一是在此基础上，选定一些钢化条件；二是全面分析研究钢化性能。
    整个内容就是这样的，谢谢大家！

主持人

大家有没有问题，可以提一个问题，咱们节约一下时间。没有的话，我们请第二位，彩虹集团玻璃有限公司仵小曦。

石家庄诚志永华显示材料有限公司工程师 曹建华

大家好，我是来自石家庄诚志永华显示材料有限公司的曹建华，我报告的题目是《新型咔唑衍生蓝光材料的合成及性能研究》。
    我们研究方向主要是倾向于第三个（Solble）。另外还有一些荧光材料的改造，现在我们主要是倾向于现有荧光材料的改造。
    这是我们研发的实验室情况，我们有两个实验室，一个是清华大学实验室、一个是（××大厦实验室）。
    技术优势：分子模拟设计、有机合成、分析、纯化、物理性能测试、器件验证评估等。
    改造磷光材料，我们改造磷光材料基于日本一个材料的优化改造，主要是这三个绿光的材料。还有改造红光的材料，一个是SRD003，还有现在正在用的材料等。另外就是我们自主设计的磷光材料，一个是橙光，另外一个是白光，这些主要用于打印材料上面。
    下面说一下新型磷光主体材料的研究，分子设计的优缺点我在这里就不再说了。这是经过计算机计算，磷光剂的计算，这下边两个和这个平面是垂直的，成90度夹角。下边是稳定性测试，最基本的就是稳定性测试，如果稳定性过不了，下边就不用再测了，如果稳定性过了才能进行下一步的评估。
    这是我们用计算机算出来的，我们合成出来的实际是（××），它是3.23，稍微有点差距，因为没有（矫正）因子，所以稍微有点差距。它是2.07的eV，非常适合温度。另外一个磷光主体材料，要考虑它和磷光搀杂的性能，其他的方面我们还正在测，我们自主研发的绿色磷光、红色磷光、橙色磷光。这是低温磷光，从理论上来说能够应用于蓝色荧光，但是能不能和蓝色荧光或者是绿色荧光来搀杂，还需要考虑它能量的传输和效果，这部分的工作还没有完成。
    改造磷光材料性能评估：我们经过改造的绿色磷光，从基本参数，稳定性等方面基本上一致。另外，我们把改造后的磷光材料用涂布器件，我这上面的数据只是很少的一部分，它的性能还是有待提高的。从这几个图来看，LIF：AI上来看是下降了，效率是低一点。这是我们热致延迟荧光材料，我大概说一下，我们两个材料是蓝光和黄光的，延迟荧光效率这边是98.2%，一个是23.3%。
    材料专利列表：（PPT），我们还是做改造得多一点。
    谢谢大家。

主持人

我们请上午没有发言的两位，第一位是石家庄诚志永华显示材料有限公司的曹建华工程师，

大家欢迎。

主持人

谢谢大家。

西安近代化学研究所工程师杨志

玻璃基板上有五层，我们是其中之一。

主持人

你那个钼粉主要是用在哪里？

西安近代化学研究所工程师杨志

对2012年已经量产了。

主持人

大家有没有问题，你们那个靶材是不是已经开始？

西安近代化学研究所工程师杨志

我报告的题目是《高世代 TFT-LCD/AMOLED用钼溅射靶材的制备研究》。
    两部分，首先简单的介绍我们公司，其次是我们的一个论文汇报。
    公司概况：我们这个公司有两个靶材料的公司，一个是我们公司，另外一个是（××）。这是我们的产品，我们的产品主要是用于TFT、太阳能上的管靶等方面。我们公司研究了粉末的粒度、形貌对烧结板的影响。得出了的结论：一是细颗粒钼粉经过烧结和热轧得到靶材的毛坯晶粒西小，但内部缺陷较大。
    材料是选了三种类型：小颗粒、中颗粒、大颗粒。这是三张图片，它们三个是从3-10微米的内经。另外，我们对三类业进行了一个粒度分布的测试，可以看到大颗粒和小颗粒分布比较宽，中等颗粒分布比较窄而且比较均匀。
    二、论文内容-实验方法
    （一）实验方式：将不同粒度分布的原料木反采用冷等静压机压制成型，然后进行频氢气保护烧结制成。
    （二）钼粉粒度分布对烧结钼板坯组织的影响，小力度的平均粒度是30微米、大力度是72微米，中力度是52微米，分布比较均匀。
    分析：对于细颗粒部分，表面能比较大，在烧结过程中细颗粒和团聚颗粒的烧结活化能不同。对于大颗粒钼粉，形貌差异大，在烧结过程中颗粒之间原子迁移较难。中颗粒部分，比较均匀。
    细颗粒钼粉经过烧结以后它的尺寸是比较细，但是组织比较密。中等颗粒和大颗粒，在大的作用量下晶粒破碎，有较多的孔洞，在变形过程中变形不均匀。
    另外，我们对三个产品进行了一个C扫描的测试，因为LCD，我们用的靶材要求是必须内部没有任何缺陷，我们得出几个结果：细颗粒有三处缺陷，大颗粒有五处缺陷，中等颗粒是没有缺陷的。
    最后是我们一个分析：小粒度坯内部存在大面积的缺陷，主要是由于烧结局部存在较大的孔洞，在变形过程中没有完全消除。大粒度烧结坯也存在较多空洞，不能完全消除缺陷。中粒度比较均匀，可以完全消除缺陷。
    结论：
    一是小粒度钼粉的烧结坯、靶材毛坯的晶粒最小；大粒度钼粉烧结坯、靶材毛坯晶粒最大且不均匀，中等粒度钼粉的烧结坯、靶材毛坯晶粒较小且均匀。
    二是小粒度的钼粉吗才毛坯内部组织缺陷和面积最大，不能满足终端客户的要求。大粒度的靶材毛坯内部组织缺陷面积次之。中等粒度靶材毛坯没有曲线，能够很好地满足平面显示器用钼粉靶材的要求。
    汇报结束，谢谢。

主持人

谢谢胡总。下一位请西安近代化学研究所杨志工程师。

深圳市东丽华科技有限公司胡伟

我们跟彩虹还没有应用，因为彩虹是基板模式，我们现在主要服务的客户就是前三名，所以我们基本上在中试已经完成了，我们的量产已经准备好了，是客户投入的量产问题。

主持人

你刚才说的添加剂和彩虹有合作，你的产品已经应用了还是在研发阶段？

深圳市东丽华科技有限公司胡伟

各位专家、各位老师下面就由我来讲我这次的主题，是关于离子筛的，但是这个报告搞丢了。不过没关系，我先讲讲，没有问题的。
    我讲的这个主要是跟强化玻璃，就是我们大家手里用的手机，电子终端有关系。随着苹果的使用带来智能手机的普及，大量的强化玻璃用在手机上，此外现在又呈现出来一个新的发展趋势，就是柔性显示需要我们玻璃（硬性化），这个带来我们玻璃上对强化的要求。随着无线充电和5G手机通讯信号马上就要变成一个标准配置，下一步手机跟通讯有关的都不能采用金属外壳，基本上都要采用玻璃外壳，所以这样一来对强化玻璃的需求就更高了。
    此外，需求量也变大了，因为本来是有一片玻璃，现在可能要变成两片玻璃，这是目前一个大的情况。目前的问题是什么呢？就是说所有的手机终端都有一个最大的问题，就是这个手机容易破，你做得再好、速度再快怎么样呢？还是容易破。前面有专家说了，贴个膜实际上根本没有用，因为玻璃的硬度本身就很高了，你再贴个膜，这个膜根本就没有用。所以怎么来提升手机，目前来讲，第一大投诉比例就是破裂的问题，怎么来提高手机的强度。
    从我们在这一行从业十多年的角度来说，所有的电子产品它的设计是一样的，也就是说这个结构设计、选用材料、工艺制程所有的工艺都是一样的。只有一个东西，实际上大家在使用的时候大家认为是一样的，实际上不一样的，就是这个强化玻璃，从窑炉上生产出来的时候我们可以认为它是一样的，在进行成型机械加工的时候我们都可以认为它是一样的，只有一个地方是不一样的，就是做这个离子交换。离子交换给这个强化玻璃带来强度，用大的离子交换小的离子，产生压力，使这个玻璃带来一个增强的效果。但是玻璃在一个新的离子交换的时候，第一批放下去的时候，比方说能产生850兆帕，但是你做第二次的时候，它可能就变成了840，依此类推就不停地在降低。所以在我们这个行业控制标准，就是控制下行。所以，各位朋友，你们买手机的时候就像买彩票一样的，你买到好的，强度高可能就不会破。所以怎么来解决这个问题，实际上对于卖手机的人来说，对于各个手机厂的人来说，破了是你们自己的事情，但是从技术和学术的角度上来说这是一个不可回避的问题，是要解决的问题。所以我们公司就开发了一个产品叫离子筛，是一种陶瓷材料，这个东西有什么作用呢？就是你在离子交换盐浴的时候，产生盐浴的破坏，我们这个离子筛加进去就可以把你这个垃圾离子拿走。拿走之后，那你这个盐浴里面的有效浓度没有降低，然后垃圾离子的浓度有效的降低。而且我们是一次性的使用，放进去对垃圾离子进行使用之后，随着离子筛把垃圾离子带走，主要的工作原理是这样的。通过我们大量的实验以后，如果一次性反应的话，我们可以对这个盐浴再生，你这个盐浴就可以反复使用。盐浴主要的成分是（硝甘钾）。
    第二个方面，我们在做强化玻璃、离子交换的时候，我们同时对离子筛同步反应，你释放的垃圾离子同时从这个盐浴里面离除，这样可以维持一个波动性很小，也就是均匀化这么一种特性。我们现在目前这种产品已经进行了产品化，目前在做的是跟各大厂商在协商共同，希望能够把玻璃的强化标准不能够放在750兆帕以上，而是放在800-850兆帕之间，太大的话这个玻璃会集聚很高的内部张力，会产生一种自爆的现象。我们采用离子筛的技术，使这个过滤的强度保持在一个最好的水平，这是我们目前所有做离子筛主要的工作思路。
    
    这是我们公司的一个精准介绍，主要是跟玻璃、陶瓷相关产品的研发。这个是碎屏，实际上这个一直在行业里面在想办法解决。这是离子交换原理，碎屏的根本原因刚才讲过了。
    对应的垃圾离子就是底下写的，就是10000-15000（PBM）。
    这是我们钾宝的简介，数据我给大家看一下，我们这里使用的玻璃是NEG T2×-1，我们加入的比例是4.3%，初始状态是688兆帕。
    我们希望目前可以从现有的工作区间能够压缩，这样能够给消费者和材料带来更多的好处。使用方法有两种：一种是日常使用法，这种方面的使用量比较少，还有一种集中法。
    由于时间关系我就不罗嗦了，有问题的可以再提问。

主持人

下面请深圳市东丽华科技有限公司胡伟总经理。

主持人

谢谢陆老师。

上海交通大学陆建钢

聚合稳定之后它的驱动电压是比较高的，所以要把这个驱动电压降下来还要对材料进行改进，但是改进之后它的速度不会变，它的速度可能会更快。这个工作要实现一个产业化的话，这个最早是2008年三星做的，但是到现在为止，在显示厂商和材料厂商之间要有一个非常好的配合才行，我们希望在不同的材料上，比如说聚合物上都要做出复杂的改进。目前来说，我们希望在控制它电极的情况下，尽可能的通过材料来改进，这个我想第一个是需要基板厂商和材料厂商之间来配合。

现场提问

你好，我提个问题，蓝相它的特点之一是响应快，现在可以达到微秒级，然后它的驱动电压很高、响应慢，所以它未来有多大的情景？

上海交通大学陆建钢

非常感谢组委会对我的邀请，我今天讲的是《蓝相液晶重构特性研究》。
    这个是我们报告的提纲，首先我们介绍一下蓝相液晶，什么是蓝相液晶？它它的温度范围非常窄，但是它有一些非常有趣的特性，它是一个（××）结构，它的相关长度非常短。我们为什么要去研究它？我们现在可以看到，液晶里面很多问题被逐步的解决掉了，但是始终存在一个比较大的问题，就是响应速度问题，这始终是一个很大的问题。因此，可以用在彩色区域里面，可以提高光效。同时，它也是一个在没有电厂状态下，它是一个（四向）投射的特性，它的光彩度、亮度都非常高。在现实当中，实际上在中国来说就是一个硬屏和软屏的概念，我们认为它这个是硬屏。
    它的优点，每一个东西都会有优点和缺点，它最主要的缺陷是热稳定性低。还有一个问题，驱动能力的问题，它的比现有的材料要低10倍的电压。
    后面就是我们研究重构的方面，液晶需要解决的问题就是一个稳定性的问题，蓝相液晶是最早法相液晶像态，但是到2000年开始一直没有使用，为什么？因为它的稳定性很差。后来经过一些研究逐步打开了它的应用，三星也做了蓝相的显示器。这些方式基本上可以拓宽几十倍，2012年的时候剑桥大学做了一个非常有意思的工作，它首先形成了一个聚合物的模板，然后在这个模板上注入液晶，这样就可以实现重构，这是一个非常伟大的工作。但是他的工作也有缺陷，它电压非常高，要达到200伏以上，所以我们很难去使用。
    这是我们对蓝相液晶特性做的研究，我们对它做了一些相对比较小的聚合物浓度下的研究，我们可以实现小聚合度的聚合物模板。像EHA也可以重构，但是根据钢性程度的慢慢减弱聚合度会慢慢提高起来。
    这是我们对于重构的一些材料进行的研究，我们在同一个模板上实现了一些不同材料的（充灌），因为反向材料会逐步抵消一部分聚合物形成的浓度。还有很有趣的一点，即便你用相同的材料浓度它重构也不成立，因为水平材料过大的时候它的聚合度比较小一点，它和模板之间不匹配，不匹配之后它的重构也会出现问题。
    因此，我们对于不同浓度聚合物浓度的模板进行了研究，我们发现随着聚合物浓度的增加它的可重构性  也增加了。我们认为，我们首先要做到的就是从稳定性、驱动性、响应速度等方面去考虑，最终才能得到一个比较优化的聚合物模板。
    我给这个工作做一个简单的总结，我们可以实现不同聚合物材料下不同浓度重构的模板，而且随着聚合物浓度增加的时候，它的重构性也可以提升。
    我们还研究了蓝相液晶像面一些稳定特性，在像面之上实际上是（异度）过程，如果你想聚合稳定，就必须在一个缺陷更下的前提下，而且还要在特殊电压之下进行，我们可以实现优质的聚合物的浓度。我们还研究了聚合物材料的一些特性，如果实现驱动性，聚合物的钢性程度就不需要那么大，它中间有个相互矛盾的关系，所以我们要进行优化的组合。
    刚才我们说到了，聚合物材料会影响它的稳定性和响应特性、驱动特性，这是相互矛盾的事情。我们发现一个材料，这个材料在不影响稳定性的前提下可以实现，因为它的钢性不是很大，它的驱动性会提升。同时，组合之后它会形成一个稳定的材料。
    另外，我们研究了一些纳米搀杂，我们实现了少量搀杂的情况下，我们可以实现非常大的将近55%的提升，而且它不会影响驱动性和响应性。如果我们不考虑它的其他特性恶化的时候，我们可以极的提高它的驱动性。同时我们也研究了蓝相液晶聚合过程中的一些问题，我们往往发现，你真正做出来的时候它的对比不是想象中的那么好，为什么？因为它的整个（晶绸）结构不是那么好。我们发现在少量电场的情况下，当然我们要优化电场的性能，第一张图可以看到能够实现均一化，第二张图可以提高它的驱动性和其他的特性，这是非常有意思的，我觉得将来蓝相一旦工业化就会形成产业化。
    这是我们做的一些器件，在二维方面的调控，同时也做了透板式的器件。
    我们在研究蓝相的过程当中，很偶然的发现了一些其他的像态，我们普通认为（蓝相××）是没有空隙的，一般来说我们反射图上能够看到各种不同的斑点，正常来说都是蓝相斑，但是我们反的透像上，它蓝色的区域消失了，所以说蓝相这一部分是存在于基于蓝相和（××）之间的一个相。这个材料也有一些非常有意思的特性，它的温度也比较窄，我们用了一些聚合稳定的方式得到了一定的效果。我们发现了非常好的效果，它可以实现比（POC）更好的透光度。另外一点，我们发现这个材料和蓝相一样，它的能量也非常低，所以对于蓝相激光也是非常好的一个材料。
    最后，非常感谢我们研究所的成员和我们的合作者，当然也要感谢企业对我们的资助，在这里表示感谢，谢谢大家！

主持人

下面请上海交通大学的陆建钢老师给我们讲座。

肥乐凯科技有限公司高级工程师赵保良

今天给大家分享一下我国光学基膜发展现状以及未来的趋势。
    随着我国光学基膜发展的迅猛发展，我们的光学薄膜和光学基膜得到了很大的发展，在有些产品上已经基本上满足了我们产业发展的需求，这是一张我们产业链的一个初表。基本上能够显示出，我们最终的产品内容得到了，我们在BLU和LCM两个模组方面用到的一些光学基膜和薄膜的基本内容。现在不光有这两个膜，实际上现在的发展趋势，在触屏这个部分也大量运用到了（IPO）膜，它的基层也是BLU这些内容。

    光学薄膜定义：是由分层介质所构成的，通过截面对装束进行传播，对光束的反射、投射、折射等方面得到在某一或者多个波段内呈现特殊形态光束的介质材料。实际上，实现的是它在光强方面的变化，比方说增透、减透、分束方面，包括像面的改变，这个基本是偏光片的原理。
    传统的光学薄膜是光学仪器的重要组成部分，在光线材料的表面涂抹一层多层的薄膜，这个材料是连续的介质，它能够改变光的投射性质跟反射光的性质。在光学材料表面，有几个纳米或者几十个微米的介质从而达到所需要的光线特性。
    光学薄膜需要有它的制备，目前来说风两个方面，一个是干式，一个是湿式的。
    干式制备，是加工过程中没有液体出现，常间的就是气相沉积、蒸发镀膜等等方面。
    湿式制备，把各种光学功能的成分混合成液体涂料，以不同的方式涂抹在柔性的基层上，我们现在业界说，本身我们业界叫基膜，实际上从整个大的产业链方面来看，一般叫（基质），然后再柔性基层上涂抹之后进行干化。
    这是一张对照表，一个是它的设备是不一样的，一个是镀膜机，一个是涂布机。区别在于，典型的支持体上，干式制备法可依制备钢性的器件内容，包括汽车的部件，可以做成这一类的。湿式制备法是以塑料建材这部分作为典型的支持体。介质厚度，一般干式可以达到纳米级，但是湿式可以达到0.56毫米左右，这样涉及到材料不同，所以它的环境友好型也是有所区别的。典型的制品当中，现在眼镜基本上都是镀膜，咱们的收集，手机上现在都有一些保护膜，或者叫硬化膜。实际上刚才王教授也讲了，盖板的玻璃，（大猩猩）盖板玻璃对普通的金属钥匙在上面划一下不会留下痕迹，但是出于自我保护意识大家都要贴膜，这个就是我们的产品内容。
    我们的产品内容基本上都投入在平板显示，只是一个统计图表，现在每年接近3亿平米的内容。这是从大尺寸液晶显示和小/中尺寸液晶显示面板产量的图表，目前都在上升，特别是2016年，我国TFT-LCD8.5代线的集中投产，对我们基膜的需求也大幅度上升。经过前期的发展，在我国已经形成了长三角的集群基地，涵盖了国内外的区域，应该说所有面板的生产方，包括京东方、三星、熊猫以及我们的华星光电。
    目前来说，京东方合肥10.5代线已经有了设备订单，11代线也在有条不紊的进行推进。
    大家看一下TFT-LCD面板的结构，右图涉及到光线薄膜有保光膜，下方有扩散膜，整个这一部分是（BRU）的模组内容，上偏光片、TFT、彩色光片等结构内容。随着技术的发展，单一的光学薄膜在TFT-LCD的应用当中也是有所变化，比如说原来的亮片，现在可以合成一个叫复合片，随着显示技术的进展，所需要的这些光学薄膜有一个发展趋势，对我们下游的光学薄膜以及光学基膜提出了更高的挑战。
    这是大概的一个分内内容，把所有用在显示器上面的光线末以及基膜的材质做了一个基本的分析。重点说偏光片，偏光片在一块面板上至少需要两块偏光片，偏光片的基材是（显微素）。其他的光学薄膜都是比较小众的了，现在有一种反其道而行之的，叫（窄式）膜，还有一个叫镜片膜，打开屏幕可以看到现实内容，关掉屏幕以后可以充当镜子的作用。

    光学基膜的基本性能：一是力学性能，比如拉伸强度、弹性模量等。二是光学性能，如折射率、透射率以及色域都有一定的要求；三是稳定性，包括耐受性、渗透性、尺寸的稳定性等，我们现在的要求是150度的尺寸稳定。此外，对表观要求非常严格，对于点子、条道等缺陷在生产过程当中都要有严格的控制。
    光学BOPET薄膜：
    光学BOPET薄膜，是由BOPET薄膜适应平板显示器件所逐步开发并广泛使用的光学基膜，由于光学BOPET薄膜在聚酯类薄膜中占据绝对的比重，现在成型的工业化有三类：PET、PEN、PLA。
    我国前期经历了高速增长，对光学BOPET薄膜，我的印象当中应该是2010年达到了200万吨，2013年突破200万吨，2016年突破300万吨的产能。随之而来带来一些业内的问题，产能过剩、产品同质化比较严重。
    以光学BOPET薄膜为代表的高性能薄膜，毛利率在光学BOPET薄膜产品中较高，所以吸引了不少众多厂家投入。在目前光学BOPET薄膜整体增长放缓的情况下，仍然有较好的发展。

    光学BOPET薄膜的基本数据内容：
    截至2015年年底，我国光学BOPET薄膜生产线达到10不调，实现23万吨/年。乐凯作为光学显示产业的开拓者，因为我们合肥乐凯是2006年进入开发区的，到现在为止，已经有3条光学薄膜生产线。光学BOPET薄膜的特殊之处，就是它有一定洁净度的要求，因为它要用于显示方面，所以对洁净度有比较苛刻的要求。
    这是光学BOPET薄膜生产工艺的示意图：实际上就是从切片到料仓，然后进入主挤出机，然后到模。现在业内有三台主挤出机做到。作为原材料来说，一个是技术切片，一个卸料斗的材料，这是我们研发应用的主要方面。
    根据上面的流程，我们对于光学技术薄膜性能改进有这么一个方面的认识：
    一、在原材料方面：在切片和光学母料方面有催化剂复配的内容，，还有光学聚酯切片和母料的配比内容以及工艺参数，这也决定了分子量分布的情况，特别是降低切片的低聚物的含量。在线涂抹材料，根据不同的用户进行不同的开发。
    二、产品配方方面：一是光学聚酯基膜新层配方的开发；二是光学聚类基层表层配方的开发；三是不同的特性光学BOPET聚酯切片、聚酯母料的共混配研究。
    三、生产工艺方面：一是对拉伸比、拉伸温度、拉伸速度等关键性工艺指标进行系统性的整体调整，进入深入的工艺条件探讨；二是对生产制造设备的整改，严格的控制聚酯薄膜的表现弊病；三是对切片以及设备的工艺整改，关注、研究清洁度、材料包装等方面要满足下游客户的要求。
    这是我们对新产品开发的一些认识，现有的光学薄膜主要用于扩散模等基膜，对于聚酯薄膜、气/水阻隔增强型光学聚酯薄膜、拉真强度都有保护作用。
   

 光学TAC薄膜：
    TAC主要用于偏光片上，业内专家知道，它中间是一层PVA，外面是两层TAC，偏光的作用，它的指标内容是在PVA上，国内PVA的国产化更多的是咱们国内的一家上市公司，它现在可能有这方面的课题研究。实际上在LCD的制程当中需要上下两个偏光片，它的使用两是4片TAC薄膜，光学TAC薄膜占偏光片成本40%以上。
    这是两个市场需求的图表，目前需求量还是很大，再一个就是产值，目前也是平稳上升。国内TAC的市场价格包括市场内容都高于国际市场一虽然是有一个高涨期，但是过后之后有一个平缓稳定的增长。
    这是TAC厂家的介绍：TAC薄膜现在基本上都是由感光材料厂商所掌握技术，比如日本的富士，中国的乐凯，还有台湾的新光等。
    我国光学TAC薄膜进展：
    中国乐凯已经有50余年的感光材料用TAC的生产历史，2012年国家中电信产品计划，获得了国家科技技术部、商务部、环境保护部颁发的“国家中电信产品”证书。整个TAC薄膜，应该来讲它有一定的技术门槛，技术门槛比较高。
    这是光学TAC生产线的示意图：首先要把三醋酸纤维素和溶剂、添加剂进入棉交液制备，然后进行过滤，之后进入延伸模头，再到带式OR模式流延机，然后到预干燥段等等环节。偏光片有一个宽视角的内容，现在国内攻坚可能就是在这方面。
    光学TAC薄膜的性能：主要包括光学性能、力学机械性能，透光率、雾度、延迟性作为关键指标。总体来讲，在它的透光跟雾度以及延迟性上，TAC作为非常优异的材料。
    光学TAC薄膜关键性能：主要是受到三酸酸纤维素指标、配方以及工艺参数等因素影响较大。我们了解，目前国内已经有温州的侨业、深圳的盛波、深圳三利谱等公司进行偏光片的生产，在2018年将达到3500万平方米的产能，我们也在与基膜的供应商积极的配合、积极的攻坚。
    

光学TAC薄膜面临以下的趋势和未来机遇：
    一是薄行化。为适应平板显示其薄型化，TAC的厚度也在不断的降低。
    二是宽幅化。随着50寸-65寸显示器逐渐成主流。
    三是环境友好化。TAC薄膜的制程中必须使用溶剂，在棉交液制备、流延、干燥等工序都涉及溶剂的使用及其蒸发、回收。
    四是适应涂布（TVA）的生产制程。需要光学TAC薄膜生产厂商针对此类用户专项研究。
    五是TAC的薄膜需要开发附加地的功能。

主持人

谢谢专家。

有请合肥乐凯科技有限公司的赵保良高级工程师。

现场提问

刚才王教授提出的第二个问题我来回答一下，就是你刚才讲的这个玻璃厚度，柔性方面的问题，包含它的曲面问题，我们之前做了一些相关的研究，基本上这个玻璃它每一种玻璃都有各自的特征，但是只要这个玻璃薄，它就可以具有柔性，基本上无一例外。它有个趋势，这个玻璃越薄，它曲面变折的角度就越小，但是它不能死折，它只能说越薄的时候角度越小。它最重要的关键点，就是怎么样把它制备的薄，除了料方以外，怎么能做薄？有两个方面：一个是用溢流法才能做薄，用浮法很难做成。还有一种方法，用化学减薄的方法，但是这也是一个成本的提高，这是我的一个初步回答。

主持人

还有没有其他的问题？

现场提问

谢谢

彩虹高级工程师孙钢智

像玻璃它有一些，像它的黏度达到一定程度的时候这个温度点是不一样的，超过这个温度点会发生内部的变化。再一个，它的热收缩率大的话，再加温、再降温就会产生变化，整个发辫的精度就会收到影响。

现场提问

体现在产品的具体指标方面？

彩虹高级工程师孙钢智

因为他在加工中的话，它对温度，分辨率高了以后，昨天大会上也说了，主要是温度，再一个就是高分辨率之后的精细度，对玻璃的要求都高了很多。

现场提问

有什么样的技术要求？

彩虹高级工程师孙钢智

OLED的话，现在主要是非溢流性的，实际上它和高分辨率一样，对系统的要求一样，这种产品目前还处于开发状态，是这样的一个情况。

至于柔性，目前国内还处于差距行对更大一点的情况。

现场提问

我有两个问题，第一个问题，你刚才谈到基板的问题，在我们国内的基本玻璃基本上都是用国外的，是不是咱们这边的基板玻璃主要用于LCD，第二个，咱们这边生产的基板玻璃在什么方面，有什么样的缺陷？

彩虹高级工程师孙钢智

因为我是搞产业研究的，有的技术达不到那么细致，溢流法它有一块叫（溢流砖）的工装，整个（溢流砖）流下来两面汇成一面，在空气中垂直的成为一章，随着温度降低，不断的变化。它和我们浮法的区别，在（稀液）的表面坦平玻璃。再一个，你说配方，这个肯定是一个思路，但是一个就是国外公司对它的配方是有专利保护的，可能你光去解析它的料方，可能产品也不会发展得太好，但是也要参考借鉴，在参考借鉴的基础上有自己的创新。

机理方面，不在我的技术范围内，我解释不了。

现场提问

我先请教两个问题，溢流法大概是什么方法？第二个问题，柔性的机理是什么？你能不能把，我们一般搞化学的，就是康宁的公司，它的玻璃是达不到的，把玻璃的分析，然后再播放、创新，这个路子有没有难度？

彩虹高级工程师孙钢智

各位同仁，大家上午好。我是来自于彩虹集团下属的彩虹器件股份有限公司。
    今天带来的报告是中国产业玻璃发展的现状和技术的重点，我报告的主要内容包括三部分，第一个是关于平板显示玻璃的一个概况，第二个是全球目前平板显示玻璃的现状，第三个是我们国家平板显示玻璃未来研究的重点。
    首先是平板显示玻璃的概况，它是只用于平板显示器件的玻璃质材料：
    被世纪际初，平板显示技术得到了飞速发展，成为了主流显示技术；
    2015年，全球营业收入约1280亿美元；
    平板显示玻璃占到面板制造成本的13%，2015年总需求达到4.74亿平米，市场同样巨大；
    我国将平板显示列如了战略新兴产业，经过重点发展，目前我们面板产能已经达到了一个全球的24%；
    在关键原材料平板显示玻璃方面，目前还处于几家公司垄断的状态，近几年国内以彩虹集团为代表的几家单位经过努力从一定程度上缓解了这种局面，大是像面板、手机等方面的发展还存在着差距，我们要继续努力。
    平板显示的分类，根据用途：基板和盖办。
    基板玻璃的特点，表面洁净度的要求非常严苛，整版凭证的要求也非常严格，另外在指标方面要求也比较高，要适应显示器件制程的需求，比如说像玻璃的硬件点，系数、密度等指标都要比普通的平板玻璃高很多。
    盖板玻璃，它主要是一种高强度的玻璃片，目前市场上主流的产品尺寸是1.1米×1.3米。它的主要特征是对平整度的要求非常严格，厚度偏差要小于0.03毫米，翘曲度小于0.3毫米。再一个，它必须要适应钢化的要求，需要有一个良好的表面强度，比如说高铝盖板的玻璃，要有一个比较好的抗弯强度，再一个要大于600（兆压）。
    下面是平板显示玻璃行业发展现状：
    （一）市场分析
    一是总规模持续增长，未来5年间全球平板显示器件的出货面积年增长率在5恩%，受此影响，基板玻璃市场的年增长率在6%的水平。
    二是面向高分辨率显示的，LTPS/IGZO的市场持续增大，到2017年预计到占到平板显示的30%，在手机等移动显示中断市场超过50%，这个对我们平板显示玻璃的性能、品种也提出了要求。
    三是OLED的基板玻璃市场处于快速增长的状况，根据OLED协会的预测，2018年产能将达到680万平方米，从2014年到2018年市场复合增长22恩%，非柔性7%，柔性达到52%。
    四是盖板玻璃稳定增长，无论是铝硅还是钠钙玻璃未来的市场始终呈现稳定上升的趋势。特别是高铝盖板的玻璃目前全球范围内只要是由康宁在供应，在我们国家国产化的空间巨大。
    （二）国外发展现状
    国外主要制造商由美国康宁、日本旭硝子、电子硝子等公司。
    美国康宁处于龙头地位，它和三星、康宁一起占据了平板现实玻璃的半壁江山。康宁2000年提出了8Aagle2000低热膨系数玻璃基板；2007年推出Gorilla盖板玻璃。目前康宁加大在中国的投资，在重庆建设8.5代基板线，在合肥建设10.5代的基板线。
    日本旭硝子的市场份额大概占25%，它采用的是（伏法工艺），日本电器销售大概在20%的销售份额。再一个就是日本的安瀚视特也非常好，这些厂家都推出了适应用高分辨率的基板。
    
    这两张表是国外公司的情况，其中只有日本旭硝子组织采用（虚化）工艺，已经占据了优势。
    柔性玻璃研究方面，2009年电子硝子在实验室制备厚度小五100微米柔性玻璃；
    2014年采用了浮法的工艺。
    （三）国内发展现状
    截至目前，我国LCD产量约占世界产量的35%，其中TFT-LCD占12.3%，未来有望得到大幅度提高。整个液晶满板产业在大陆的迅速发展，对上游材料玻璃基板需求加大，市场前景广阔，国内基板的年需求在1.15亿平米，同比增长50%，在全球范围内增速都是属于最快的。预计到2019年，国内的玻璃基板总需求两将超过2亿平忙米。
    盖板玻璃方面，国内市场是以消费型的电子产品为主，主要应用于中小尺寸的移动终端，其中在高端应用方面有巨大的国产化空间。
    目前国内从事玻璃基板研究生产的约10恩家，主要由彩虹、东旭、蚌埠玻璃研究员、成都中光电、福州科立视、北京工业大学、中南大学等几大家。2008年，彩虹和东雪合作，采用溢流法在我国率先生产如5代的玻璃基板。2015年生产出了6代的玻璃基板，目前已经占了一定的市场。
    今年彩虹也发布了溢流法生产的高铝盖板玻璃，还有8.5代的玻璃基板。这是国内的发展现状。
    这个表也是国内的发展现状，从技术路线，彩虹目前还是和国际整个趋势是一样的，我们主要是溢流下拉法，东旭在五代、六代的基板玻璃上走的是溢法的路线，8.5代的基板采用浮法的路线。
    接下来是我国平板显示玻璃未来研究重点：
    （一）发展受市场导向
    一是高世代需求急剧增长，这个表是目前及未来几年我国8.5代以上产能的情况。
    二是用于高分辨率显示需求增大，这个表是IGZO技术类面板馋涎情况，2016年LTPS的产能比2013年增长到900万平米。
    总的来说，液晶玻璃未来几年的要求： 一是大尺寸化；二是轻薄化；三是用于高分辨率显示技术的比率要增大，6代以下面向LTPS，8.5代面向IGZO。
    三是国内OLED产能到2020年的复合增长率将超过45%，以5代以下为主，柔性技术将逐步推向市场，基板玻璃目前由国外企业垄断。
    四是在盖板魄力方面，以康宁为代表的溢流法的盖板玻璃在性能上是有优势的，牢固占据高端应用的领域。而以日本旭硝子代表的浮法工艺成本好一些，他们生产的是中铝玻璃。同时，未来盖板玻璃要在更高的强度、抗油污、柔性、3D等方面有更好的发展趋势。
    我国平板显示玻璃重点悠久内容
    一是高世代基板玻璃的研发必须要实现产业化，这个表是高世代基板玻璃的一个主要技术指标。再一个面向高分辨率的基板玻璃的研发和产业化，重点是在配方上，这个是要有一个研发的。
    这个表是显示面板和分辨率不断提高的话，在精细度的要求上提升有几个重点的要求：一个是对玻璃的制造难度提升比较大，二是热膨胀系数要越来越好，三是热收缩率要向10（微米）以下来发展。
    我国平板显示玻璃重点研究内容：
    一是超薄玻璃配方研发及产业化，二是盖板玻璃研发及产业化；三是OLED基板玻璃研发；四是柔性基板玻璃的研发，我们还要及时跟进国内趋势，进行相关的研究和应用。
    我发表完了，谢谢大家！

主持人

下面有请彩虹显示器件股份有限公司高级工程师孙钢智，我们带来《中国平板显示玻璃发展趋势》，有请。

主持人

它显示屏在上面，我们看到的图像是从前面过来的，所以说屏本身信息没有进入你的眼睛，这样感觉它是三维，实际上不是，很多展览的时候，博物馆都用这种技术，因为它相对比较简单，信息也比较小，就是把屏躺下来，然后用一个膜就可以了，舞台是用投影做很大一个投影。3D离我们真实的空间立体感还是有一定的差距，我现在也想说一下，你刚才说它可以取代手机，我觉得是有差距，可能取代不了手机，现有的手机，LED、投影机还是会存在的，不会被取代，你可以想一下以后不带手机，戴一个东西在头上，我觉得也不方便，我曾经戴了VR在头上，后来我走到哪里都在怀疑这是不是真实的。往往头戴的这个东西还是不好，裸眼3D这个发展它一定会走到非常高的，一定是将来的，人活到心里，我们发明的东西那么多，你真正带在身上有多少呢？显示东西也是一样，包括头上、身上都是不能带的，还是要脱离人的肉体之外，如果做这方面同行们要有信息，同时借助AR、VR来进一步研发。 非常感谢大家坚持到最后，我们两年之后到成都，我在成都欢迎大家，我们两年之后见。今天的会议就到这里，谢谢。

观众

好，谢谢。

姚秋香

你看到的效果是一面一面的，不是从现在自然的转换到下一个，但是可以实现这样子，上面如果LED屏多放几张图片的话会有一个很好效果，就看上面放的图片的数量。

观众

我刚才看到你们也有做四棱锥的。我想问一下，你们两个相邻的，两个能相互交互的，有没有一个融合。

主持人

现在做静态是可以的，关键是做视频。真正做出来才能叫全息。

姚秋香

（相干光）。刚才做的是静态的全息图。

观众

我想问一下，你们做的全息是用的激光还是什么？

主持人

有没有问题要提？首先这个报告里面把我们原来说的所谓的全息技术，包括这次G20说有全息技术在杭州西湖上来演，我觉得这个都不能叫全息，姚同学说的非常好，我现在在想给它起一个什么名字，怎么叫它呢？（悬浮）显示在我们实验室是这么叫的。把屏幕本身的这个东西消失掉，只显示图像，因为以前的全息感觉就是活灵活现，就是应用了这个，实际上它是一个2维图像。现在在很多展览馆里面也有用，刚才姚同学给大家演示的，从不同角度拍，你看到它的视差是没有的。我们对全息的期待，对全息的美好，对3D最好的一个诠释，希望大家一起努力把有些东西调整过来。这个报告本身讲的是虚拟现实，虚拟现实就是我们视觉上分辨不出来，跟我们视觉上看到的是差不多的。所以说虚拟现实和我们显示是非常相关的，又不能说虚拟现实完完全全是显示，虚拟现实里面还含有其他的，你要让它没有差别，其他的视觉、感官都相似。 大家可以踊跃的发言，多讨论一些。

姚秋香

大家好，很高兴参加这次会议，我报告的题目是虚拟现实技术最新研究进展及未来发展趋势。
现实，简称VR技术。采用计算虚拟机技术为核心的现代科技生成的虚拟环境，用户借助特殊的输入/输出设备，与虚拟世界中的物体进行自然的交互，从而通过视觉、听觉和触觉等获得与真实世界相同的感受。
VR/AR原理比较
尽管都涉及虚拟成像，但VR和AR在技术实现方面还是存在着本质上的区别：
VR的视觉呈现方式是阻断人眼与现实世界的的连接，通过设备实时渲染的画面，营造出一个全新的世界。
AR的视觉呈现方式是在人眼与现实世界连接的情况下，叠加全息影像，加强其视觉呈现的方式。
当今VR和AR领域主要的硬件厂商有Oculus、索尼(PlayStation VR)、HTC(Vive)和三星(Gear VR) 、微软(HoloLens)、谷歌(Google Glass)和Magic Leap等。
让大家欣赏一个影片
（影片展示）可以运用到娱乐、医疗、学习中，首先是一个三维采集系统，最后通过各种算法出现了这样一个小人，这个小卡通人物是一个虚拟的，在现实中是正常存在的，这个小卡通到最后是经过严格计算的，它并不是真实的三维显示，后面也是它的一个构想。我们的虚拟现实可以用到自动化办公系统当中，我们的游戏娱乐当中。
现在我们的虚拟现实眼镜已经做的挺不错了，它是基于一个什么原理呢？双目视差原理，左眼可以呈现一幅图象，右眼可以呈现一幅图像，两眼形成一个立体图像，所以你会有一个立体感，这是当今我们市场上有卖的，我们全息3D技术就是三三维显示了，不像前面介绍这种，利用欺骗人脑的方式来实现的三维显示，它可以用于未来虚拟现实博物馆，这是我们实验室拍摄的静态3D全息图，大家看到这个实物就可以看到真实的感觉，左、中、右的分辨率很高。全息技术它作为一个比较专业的名词，也在被我们的媒体在应用。“全息”在2015年在春晚中应用。主持人当时介绍的时候他是说利用了全息技术呈现的，这个说法是正确的，但是在这个里面它没有用到全息技术，大家可以看到李宇春出来的画面，这个舞台中央是有一个屏幕，后面都是黑色背景，有投影投出来的人像，再看这里，如果人原来在这里，投影投在这里，真人就出现在这个地方，这个就是真人，因为在舞台的前面有一个屏幕，半反半透的膜，进入你眼睛就是一个虚假的投降，把灯光投到人像上面就出现3D的影响，最后这个屏幕是升上去了，所以说它是运用了一个半反半透的三维效果。全息在2016年的春晚中也有应用，灯光投多真实人物上面，这个是真实的。而这些小猴子是投出来的，这个就是用前面的原理，呈现给大家的，如果它的影响从上面下来，进入到你眼睛的就是这个影响。先给大家介绍一下这个原理，这个四面是一个LED屏幕，如果贴上这个半反半透膜，这个里面可以形成半反半透了。（影响展示）这个呈现了像三维一样的。
最早的全息技术应用到媒体中，也是2009年美国总统大选的时候，其实他也不是真正的全息技术，我们的3D全息技术有不可比拟优势，如果这种头戴式的虚拟眼睛，它呈现的是在你眼前呈现的，而你的手去触摸是在前端。基于以上，我们实验室做了3D全息实现虚拟现实中真三维显示，上面大家看到的是相机拍摄到的四幅不同的图像，这是棱锥的前侧、右侧、不同的角度。我们3D全息技术可以聚焦到不同的平面上来。
（影片展示）
我觉得虚拟显示设备就会取代手机，应用市场，前景就会非常广阔，用于旅游、游戏等很多方面。
预计到2017年，中国沉浸式VR设备市场规模将超过20亿人民币。将有不同类型的公司加入市场，如手机制造商、互联网视频公司、游戏厂商。
产品便携性、屏幕清晰度提升产品出现两极分化，针对游戏用户的高端产品和针对普通用户的中低端产品。将受到家用投影、高清电视等产品挑战。延迟技术、追踪算法交互技术、计算机图形技术提升，用户沉浸感舒适度增强。与增强现实性、分布式虚拟现实技术融合发展。
我的报告就到这里，谢谢大家。

主持人

我们最后一个报告，由上海大学的研究生姚秋香，给我们带来的是虚拟现实技术最新研究进展及未来发展趋势。

观众

好，谢谢。

黄佳敏

这个数据没有放上来，如果需要的话，会后我可以告诉你。

观众

你测出来的背光的亮度是多少？

黄佳敏

光效会达到60%左右吧，如果没有记错的话。

观众

像我们实验室买回来量子成品，亮度会降，你这边的光效达到多少？

黄佳敏

我们现在还没有考虑到这个方面，只是单纯的从光谱层面上对其进行仿真。

观众

感谢你给我们做的精彩报告，你在导光板蓝点设计中，如果想加入量子激发，有没有其他考虑？

黄佳敏

我也是最后把模组放到这个里面进行测试的。

观众

因为我印象里的计算是过屏后的一个红点、蓝点、绿点的计算。

黄佳敏

我们测试设备中有用到一个荧光（分×剂），然后得到这么一个三角形，然后进行连接。

观众

我有一个疑问，这个色域是？

黄佳敏

大家下午好，很高兴参加这次，我这次给大家带来题目是量子点背光源颜色特性的理论研究及验证。
国内也东南大学、研究了量子点。东南大学的高小钦等基于量子点白光LED器件的电光转换过程，引入量子点的“类”光谱光效率函数，给出了该器件的色坐标、光效和量子点配比等计算公式。上海大学陈赟汉等以实验方式将红绿量子点涂覆于蓝色LED芯片上，实现色坐标为（0.3228, 0.3359）的正白光。
我的研究与上面的三种都有所不同，当蓝光铺设这个导光板时，调光网点会对光进行调制，同时也会将蓝光转换为红色光和绿色光，
我的研究内容有三点：
1、利用光致发光量子点作为背光源材料，研究了CIE1931色度学系统中光致发光量子点背光源的混色理论。2、建立了量子点背光源的光谱函数模型，得到表示量子点背光光谱的普适性数学表达式。
3、提出了量子点光谱与色坐标之间的互转换方法，对实现量子点背光源的白平衡实验提供了必要的技术依据和实验指导。
导光板模型仿真分为两部分,一个是颜色防震和均匀性仿真。设置光源然后将荧光属性定义在具体的事情上最后进行光线的仿真，可以看到仿真结果相对偏蓝色，然后色温大约在7556左右，导光板想要有均匀的出光，一定要有相应的数据匹配。我们的仿真是采用4寸导光板，方针结果如下图，均匀性大概87左右，跟刚刚第二位同学的测算性有所不同，均匀性越大越好，均匀性符合我们实际的计算要求。
最后一部分是计算结果。分为计算结果和印刷结果两部分。根据此光谱的峰值比进行实现，多次实现取其最相应的值之后，得到818K的光伏数据，跟前面的仿真结果相似。印刷结果先通过实验，然后再用仿真结果进行验证，将此数据输入至程序中得到相应的光谱函数，可以看到它略微偏低，在误差允许范围内我们看到这两幅图是符合的比较好的。实验中采用的是丝网印刷工艺，将其印刷在导光板上。这是我们最后量子点背光点亮后示意图。
我做一个结：建立了量子点背光源的光谱函数模型，得到表示量子点背光光谱的普适性数学表达式。采用丝网印刷工艺将红、绿量子点网点印刷至导光板，并形成均匀白光输出。以量子点背光源光谱功率函数模型用于实际导光板的白平衡实验，理论与实验符合较好。 谢谢大家的聆听，恳请大家批评指正。

主持人

这个太专业了，我们下一个报告来自福州大学的研究生佳敏，给我们做量子点背光源颜色特性的理论研究及验证。

焦华杰

我们是通过颜色、布局、规则、色彩来研究的。

主持人

你这个工作有没有很其他同行对比？

焦华杰

大家好。我演讲的题目是基于增强现实技术的可穿戴显示设备截面设计规则。
研究背景及应用分为：内外景融合、视角、透明与不透明。
透明与不透明
EPSON BT-200视角大小约为23度，人眼集中注意力时为25度，EPSON BT-200能够很好地包裹人眼视力范围，沉浸感强。
文字、图案、图标等元素离可显示区域上下边界分别约为50p，既包裹视野，又不显得密集。
界面背景色设计为黑色，眼镜处于透明状态，实现内外景融合。界面背景设计为白色，眼镜处于不透明状态，使用者完全处于虚拟环境中。背景色设为黑色，亮度适中，图标图片设计人性化，与实景相匹配。 四大规则：布局规则、色彩规则、图标规则、图标规则。
透明色比较：实验选取了八种不同的透明色来比较透明效果
图标规则：工具栏/菜单（这类图标不需要考虑内外景融合特性，所以一般设计成不透明的）、指示性/导航类（这类图标要易识别，所以要设计成透明的来融合外景）、图标尺寸程序图标大小57*57（低分辨率）和114*114（高分辨率），设置选项图标大小29*29（低分辨率）和58*58（高分辨率），文档图标大小22*29（低分辨率）和44*58（高分辨率），网页快捷方式图标大小57*57（低分辨率）和114*114（高分辨率）等等。
正文文字以14px跟18px为主，行距应该是字距的1.5倍为宜。子类框架默认采用父类框架字体，有利于统一调整。实际应用在设计文字颜色时，大多数情况下，文字以白色为主，但若是浅色的背景如白色，淡蓝色，则文字选取深色如黑色效果较佳。
本文在总结自己设计的界面以及参考其他增强现实显示类应用，总结出EPSON BT-200上的一般性界面设计规则，在参考普通界面设计规则的基础上又给出了增强现实显示设备上的界面设计一般性规则，为今后的增强现实显示设备界面设计作参考。此外这些规则都是初步的不完整的规则，有待后期补齐补全。

主持人

谢谢同学的报告，接下来我们有请东南大学的焦华杰同学，他演讲的题目是基于增强现实技术的可穿戴显示设备截面设计规则。

观众

谢谢。

李其功

可以。我们会对它的视角进行一个收缩，这时候我们为90度的光线，做出来的话我们会对它进行一个收缩。

观众

您是一个点光源性的一个透镜，可以进行（准射）吗？

李其功

1×1的，方形。最后把它切割出来。

观众

是一个方形吗？

李其功

我们是分成耽搁的，产生不均匀性，第一步是对原有的参数，比如说它的厚度，半径这两个进行改变，参数优化达到一定的时候可能会对最后的阵列进行相应的变化，第二个在接受面上的能量分布，在接受面上能量是怎么分布的，比如说这一点，我们到时候是可以进行调整的。

观众

第二个问题，它是一个什么原理？

李其功

没有一半，你可以计算看一下，从我们最后计算效果看，在游戏的视角内，是提升的一倍。光效的话是可以放出来的，单个的光小是85.33，就是在这个接受器上面总能量。

观众

这样不是损失了一半的光线吗？

李其功

它越往外的话它的能量越小，比如说在60度-120度，光线发生的能量就非常小，你可以去计算看，非常小，LED它的一个上下60度以内，60-120之内角度进行利用，外面的进行抛弃。

观众

我想请问一下，我有两个问题。我想请问一下，比如说它在扩展光源的两端比如说它的发散点，LED的发散角度是150左右，这样扩展的边缘光线聚焦在一个点上，剩下的光线它能仿真到吗？

李其功

首先我们来看一下这幅图片，这是我国自主研发的高空飞行的歼20，它的外部环境光线是非常强烈的，这就导致飞行员难以看清显示屏，还有一个是LED发光角度大，很多光线无法利用，光效需提升，LED阵列下，存在照明不均匀的问题。 我们这个是采用（首层）定律设计的，从光源注射的一个光线，经过第一个曲面到第二个C2再到C3，最后我们会将我们的算法转换为我们的代码，这是我们的计算公式（PPT）。我们进行一个方针，在电光源上面我们是很均匀，然后进行一个处理，在直径8mm的照明区域均匀性（该直径内亮度最小值与最大值的比），能达到95%以上，光效为85.33%。我们将继续扩展光源进行优化设计及方针，这个方法由于它存在很多的，比如说三角函数大量的转换，导致它的算法复杂，而且存在无可求解的方程，对于边沿内部的控制力比较弱。接下来我们采用在原有的设计方法上进行一个计算，这是我们优化的原理图，两边的边缘光线会汇焦于一点。这是我们的亮度图，从这里看它的均匀性比较好，亮度线比较平整，在直径8mm的照明区域内，均匀性达到83.43%，相比优化前提升了38.43%。将单个透镜切割成6.7mm×5.05mm的矩形，配合LED排布拼接成2×2阵列。 均匀性p1 = 90.8%，非均匀性p2 = 4.8%
同样我们采用（××公司）的亮度器进行测试，这个表里给出了传统背光，经过计算，相比传统背光，中心亮度提高了 96.4%，几乎翻了一倍。非均匀性略微降低了0.86%，这个也是符合我们的预期。
下面我进行一个总结：
基于点光源—基于扩展光源—切割拼接—实测
经过计算背光中心亮度提高了 96.4%；非均匀性略微降低了0.86%；该设计方法能应用在有特定尺寸形状限制的背光系统；且对于扩展光源适用性较强。
以上是我的介绍，如果有需要，大家可以联系我邮箱，谢谢大家。

主持人

下面由合肥工业大学的研究生李其功进行演讲，他演讲的题目是基于LED扩展光源的透镜陈列设计与优化。

主持人

我们第一场的的讨论就到这里，大家休息一会儿。（场休）

焦垚

其他也是有效果的，我们已经做过测试了。

主持人

真正号称激光的投影显示，里面不一定用激光。

焦垚

目前没有，只是一个想法。

主持人

单从亮度上来说，你有没有实际调查，有多少应用？

焦垚

对。

主持人

激光做背光源是用在液晶显示是吧？

焦垚

我的汇报比较接地气。我先介绍一下研究背景：
液晶显示器工作电压低、功耗低、辐射小、轻、薄。
背光模组是液晶显示重要研究方向。
导光板用于引导光线方向，控制亮度的均匀性，其性能直接决定了背光模组的性能。
液晶本身不发光，需要依靠背光源来显示图文信息。
CCFL作为背光源，能耗大、寿命短、结构易损、色域小，含汞。
LED作为背光源，发光效率高、节能环保、色彩表现力强、寿命长，但其散热不佳、出光均匀度稍差。
激光作为背光源，寿命长、色域大、可靠性高、功耗低、环保。
背光模组的设计分为四个要素：1、寿命；2、可靠性；3、功能（显示功能、亮度调节、NVIS）；4、性能（类型、亮度、均匀性、色度、NVIS、显示质量、色温、功率）。
下面是我所作的工作，第一个就是设计了两种导光板（半圆形截面凹槽导光板、三角形截面凹槽导光板）
我还提出了两种背光模组设计方案。LED是红光，高强度的红光。蓝光LD打进去的话会有绿光。
这个是我做的一个实例图，这个是第二种，通过LGP三色，跟第一种差不多，大家可以参照右下角的实例图来看一下，一个是红色透绿色的透镜，一个是绿色透蓝色的透镜。
这个表是LD和LED的混合图，第一种是常用的导光板，可以看到是比较均匀的。可以看一下常用的导光板的平均照度是2107.6，后面两者比第一种都要高500多。大家可以看一下这个数据，都不太理想，我们理想的是10%以内。（PPT）普通导光板的亮度大概是350左右，半圆形大概也是350左右，下面的三角形可能高一些，是400多。
下面进行一些总结：
1、提出的两种新型导光板设计相比常用导光板而言，提升了显示质量。
2、新型导光板设计可以使激光背光模组的照度和亮度均有不同程度的提高，对于民用及军用显示产品具有一定的参考价值。
后续的工作：
1、进一步优化网点设计，提升背光模组的均匀性，使目标低于10%。
2、进行工程化验证。

主持人

你要进行对比研究，不能只说对比，看久了视疲劳会增加，你的电子书是不是比纸要好，下一步要多研究，得出的结论要更有利。下面有请安徽师范大学的焦垚同学，他演讲题目是基于凹槽导光板的激光背光模组。

史韫杨

比起像是亮度、光度的影响，是根据使用价值的，就像是各种显示方式，人是用来检测显示功能供销的最好标准，通过检测他们的视疲劳，来检测他们的判断。

主持人

我提一点建议，我们做显示平面，电子书可能是比较好的一种，是否研究一下液晶新式，或者其他的一些，得到结论，我感觉要不然你对比一下书，电子书和书相比，它的的区别有多大？是用原始纸质的还是电子书，我们以后的手机是不是换成电子书？

史韫杨

也有一些技术可以将电子书转换成音频，就是像有声书，手机上也有一些APP。

观众

能不能把阅读型的东西，现在的人对眼睛的使用率是非常高的，经常会引起视疲劳，有没有这方面的研究。减少视觉的使用，增加听力。

主持人

现在大家进行讨论。

史韫杨

现有的研究，我们经过观察也可以，首先尚未提出的讨论，其次使用的研究方法比较单一，缺乏客观指标的测量，因此，我们的实验中采取了主观和客观的方式，不仅测眼部数据的变化，而且对脑部和身体的变化也一并进行测量。 本次实验的设计如下，选用的是本校的在读研究生，选用的设备是iPhone6S，我们把背景亮度控制在61.7CD。实验的过程主要可以分为三个部分，分别是阅读前，阅读和阅读后，我们分别测试参数脑电信号和胜利综合信号，在阅读时为灰底黑字。 首先我们来看眼视光学参数，调节能力降低，闪光频率降低。我们可以大概得出结论是阅读电子书可能引起视疲劳，我们比较了两种颜色，可以发现四项指标的区别都不是很明显，因此视疲劳在眼部方面表现的不是很明显。 通过视频转换，分析不同波段的脑电波，可以发现不同的波段有不断的变化。阅读电子书BCDVA轻微减小、AC/A大幅增大、CFF轻微减小、BUT略有缩短。
我们本次得出的结论：
(1) 阅读时间增加，视疲劳症状逐渐显现：
眼视光学参数：
BCDVA减小，AC/A比值增加，CFF减小，BUT缩短；
脑电信号：
θ波频谱能量轻微减小，α波频谱能量明显增加，β波频谱能量略有减小；
生理综合信号：
体温、皮电、血氧饱和度都有所减少。
(2) 考察灰色和绿色两种背景颜色的区别：
眼视光学参数和生理综合信号：
差异有限；
脑电信号：
α波段频谱能量：灰色底色时增加量远小于绿色底色；
β波段和θ波段上频谱能量：二者区别不明显。
本次的研究有一些不足，被试较少；测量时间较长；阅读时间短。
展望：增加被试；实时、有效测量；长时间实验。

主持人

我们开始下一个报告，由东南大学的研究生史韫杨，给大家带来的题目是电子书阅读的视觉疲劳研究。

许军

大家下午好，我是来自京东方科技研发部的许军，我这个报告大概报告四个部分，一个是触摸的结构，第二个是我们的设计，触摸屏和液晶显示整合的设计，第三是我们在触摸显示器当中出现过的一些光学风险，第四个是具体到现在的一些问题。 大家都知道现在的作为信息输入的方式很广泛在现在的车载、显示器上都有用到。我介绍一下我们的触摸显示器，我们是通过我们的OCA或者OCR贴到我们的模组上面。（PPT），GF是做在单张的膜上面，GFF相当于它把我们的发射信号那一层做到PE上面去。因为我们TF是做在PD上面去的，后面主要是针对PE系统。 除了刚刚说的那个，我们正常的这种A图片，这种没有进行处理，经常看到眩光的效果，我们在模组上弦会增加这样的一个效果，我们把光打散。现在这几张膜主要是用于PD，有些买不到。我们这边设计，我们之前接触的，显示器设计都是单独设计，贴合厂把他们贴在一起，这样的设计就存在一定的隐患，就是两者之间的匹配，我们设计的时候，就会提前针对模组或者触控的设计做一些规避。 我们现在触控显示器经常遇到的一些问题，第一个就是色度，我们的模组上面额外增加一个PE，对原来的色光会有一些影响，我们为了支持工艺的提高，一般用周期性结果。还有一种是感应层的可兼性，爬坡的部分跟其他的部分会产生一个明显的对比，Pattere也是有一个明显的加重，反射率会跟他们之间折射率有关系，对我们亮度有影响。 这也页主要是介绍我们两个产品中出现的问题，它的贴合方式是有一个空气层，第二个的模组是TFT的一个模组。这里面所提到的彩虹纹跟我们的彩虹纹还是有区别的，这种彩虹纹它主要的还是干涉，大家都知道彩虹是色相的效益。我们在触摸显示器产品经常会用到这两个：Particle-Model和Wave-model。 我们这个模组有一个特殊的光，叫（线平光）。自然光的干涉，我们经常会做一些其他的功能层，因为工艺的原因，所以它还是有限的，如果供应链做的不是很好的话就有可能出现这种现象，这里面罗列的两个现象，就是会造成干涉。改善的方式，根据前面所提到的两个，改善我们颗粒层，改善我们的厚度。增加这一层可能会有影响，匹配折射率的话可能会降低这个（PPT）。 我们看了一个简单的实验，我们液晶显示器当中会用到一个材料，它中间有一个PVA偏光层，上下会有颗粒层，这种多功能层，上下会增加保护膜，我们从上面看也是有的，下面看也是有的，经过反射以后会有这个现象，经过偏光，自然光经过偏光会出现线偏光，PET是一种特殊的材料，我们认为他是产生光射的一个因素。自然光通过我们的偏光片以后会产生（折射光），如果角度合适就会产生一个这样的干涉。（PPT）这是我们的一个公式，这张图就是根据刚刚的公式画出来的，我们看到的看见光区是400-700，如果我们把RE做的非常大，波谷就会慢慢贴在一起。我们把我们的RE值做的非常大，这样看到它的周期会越来越小，在400-700之间我们也是看不到的。 谢谢大家。

主持人

第三个报告，由来自京东方科技集团股份有限公司的许军，他报告的题目是触摸显示器产品中的彩虹纹问题分析。

张汉乐

肯定是希望均匀化。

观众

我看到这个点，它实际上类似于光强的分布，对于光强分布来说是你们希望他平均化还是怎么？

主持人

我补充一下，它本身是透明的，后面换一个物体的话，我透过这个可以看到实际的东西。

张汉乐

实现了增强现实的作用，实现了虚实融合的功能。

观众

你说原来的透镜，它的优点在什么地方？

张汉乐

本身就存在。

观众

你的视差是需要它形成这样的吗？

张汉乐

3D的视差是看上下左右的视差。

观众

视差这部分怎么区别？

张汉乐

有。

观众

全息单元比透镜有优势吗？

张汉乐

不是。

观众

谢谢。就相当于替代了原来的裸眼柱状透镜吗？

张汉乐

我们实验室一直做的一个集成投降裸眼3D显示，它是由2D显示呈现的。之前是一个显示器，现在改成了投影方式。

观众

我刚刚看到您在介绍您结构时候，原件上面有一个微透镜，起到什么作用，显示材质又是什么情况。

张汉乐

天津公司他们是6型的光敏聚合物财来，最大效率可以达到80%，我们的效率具体是多少还没有具体估测过。

观众

衍射效率是多少？

主持人

我们进行讨论一下。

四川大学的研究生张汉乐

我们提出一个大胆的想法，就是把裸眼3D显示技术呈现一个结合，早在2006年的时候，（××大学）就提出了3D视角，从2013年做了大量的演讲，例如增大分辨率、实现兼容等大方面的研究，我们也做了相应的研究。
    第二部分是分辨显示，首先我们看一下制作原点（PPT）。
    我们实验室也搭建了全息光电的实验装备，这个是我们的装备口。
    第三部分是桌面3D显示，基于角度的特性，平均光束一和平均光束二。Record spherical wave array I and II simultaneously；Reconstruction principle of HOE。
    左边是我们的实验装置图，下面我们看一下实验结果，左观看视区和右观看视区存在一定的差别，
    以上是我的报告，谢谢大家。

主持人

谢谢。接下来是由四川大学的研究生张汉乐，他演讲的主题是基于全息光学元件的双视桌面3D显示系统。

武汉华星光电技术有限公司 程艳

我之前也有关注过香港科技大学的姜教授，他们在这块很早，我们科研是在高校的研究成果，他们现在追求的是更高的标准，我们现在会把他们在实验室里小的，看能不能小的批量，量产化的进行完成，我们希望在前期这个工作能不能批量做。

主持人

是不是主要工艺上面的问题，没有学术上的，我看报告上都是来自企业。

现场提问

我以前也做过，发现没有特别好的。

武汉华星光电技术有限公司 程艳

LED本身就是有一个类似高分布的过程，其实这个就需要封闭封的特别细，纳米分，这个就能确定到不同波段的，会小一些，反正会降低色偏的几率。

现场提问

把大量的LED堆在一起，强度可能有一些不一样，你有没有考虑过校正？

武汉华星光电技术有限公司 程艳

有报告说可以达到90多。

现场提问

精度呢？

武汉华星光电技术有限公司 程艳

现在市面上已经可以做到30-40。

现场提问

现在从单个晶体实现的尺度是多少？

现场提问

谢谢。

武汉华星光电技术有限公司 程艳

现在散热比较多的话是LED的背光，在散热上面会加一些熊猫片，但是这种新的技术在主板上面目前还没有查到相关资料，不好意思。

现场提问

在散热上面有没有一些研究？

武汉华星光电技术有限公司 程艳

如果你看他作为LED主动发光，然后把它放到我们的基板上面，这个就要看你对亮度的要求，如果小尺寸，我这边是有小尺寸，如果按照高PPI，每个功率不一样，如果亮度要求达到，而且功率比较的话，应该散热比较好，亮度要求比较高的话散热可能比较难。

现场提问

现在的Micro LED越来越高的话，它的散热有没有问题？

主持人

Micro LED现在是比较热的，上午也有，下午接着讨论，因为时间还有一点，我们可以再做一些讨论，在座的可能也是有一些问题，大家可以拒收提问。

武汉华星光电技术有限公司 程艳

各位高校的专家，以及各位同仁大家好，上午我们的熊猫平板显示崔老师已经做了一个详细的介绍，我这边做一个补充。Micro LED技术：LED微缩化和矩阵化技术，在一个晶片上集成的高密度微小尺寸的LED阵列。我们主要讲第三种的形势，我们比较一下Micro LED有快的速度和对比对，当然它也在一些OLED上有一些很好的优势，我这里面没有列出来的是寿命，OLED在亮度上面已经努力的突破，想要达到液晶OLED的状态，是Micro LED确实超越了OLED。Micro LED都可以作为主动式的发放来进行，上页PPT里的第三项技术，主要有两大类，第一类其实是在LED在微缩的过程当中，直接有一个隔绝层，直接完成TFT的工艺，这个目前仅仅处于一个（POP）阶段。Micro LED的优点，它的的响应速度快，主要是跟它表面这样一个效率有关，我们看一下右边的图片，它是来自于APL的集团，这个集团里有报道过，LED的尺寸越小用的时间越小。和大尺寸LED相比，越小越接近于系统的时间，还有B和C的两个优势，都是在是它的一个光效，这两个方面都是它的一个优势，我们来看一下第二项，这样的一个结果主要是它的光的路径导致的。最后主要是它集中在更稳定的集中性，一方面是它的温度，这样一个小尺寸，它的一个（结温）就更小。最后一项数据可以看出，300和40相比，300是有一个迁移，40主要是10纳米的迁移。唯一的一个缺点就是目前来看它的光电转化效率比较小，光的辐射比电功率×电子注入，跟电阻有关。
    Micro LED 的核心技术是nm级LED的转运与full color实现，而不是制作LED这个技术本身。
    晶格匹配：LED 元件---蓝宝石类的基板上通过MBE生长；显示器---必须要把LED发光元件转移到玻璃基板上；
    尺寸等级：蓝宝石基板尺寸---硅晶元的尺寸，制作显示器---尺寸大得多的玻璃基板；
    多次转运：微元件的多次转运技术难度高，在追求高精度显示器的产品上难度更大。
    通过此前苹果收购Luxvue 后公布的获取专利名单看出，大多采用电学方式完成转运过程，这是Luxvue 的关键核心技术。
    Micro LED技术比较：
    制程方式：均属于微转印制程（micro-Transfer），差别主要在于转印部件设计方式的不同，进而所运用的制程原理亦略微有些差异；
    制程难点：目前Wafer工艺与TFT工艺已属成熟，该制程的难点集中在转移过程，尺寸越小，pixel就越小，需转移LED越小，技术难点越大；
    我们这种三色除了LED，还有其他的两种，也是有一定难度的，荧光粉技术属于无机盐类的晶体，传统就是LED所用到的，这种它的颗粒相较于传统的荧光粉会更小。这种纳米级的荧光粉，其中和尺寸上面还有一个相对比的，光电转化效率是比较高的，在这里主要用的广质发光。最后一项是有机的发光体，主要是跟上面相比较，也是存在一些发光效率和优势，这几种相比较，目前市面上做比较多工作是有在量子点上面做一些工作。
    Micro LED的成功发展归根结底在于以下方面：
    1、苹果、三星等品牌厂的意愿；
    2、在制程上，要克服晶片转运技术门槛，一次搬运数百万颗超小LED晶片；
    3、全彩化、良率、发光波长一致性问题?
    单色Micro LED 阵列通过倒装结构封装和驱动IC 贴合就可以实现，而RGB 阵列需要分次转贴红、蓝、绿三色的chip，需要嵌入几百万颗LED chip,对于LED chip光效、波长的一致性、良率要求更高。
    4、分bin和成百上千万的u-LED的成本支出也是阻碍量产的技术瓶颈。
    以上是我的一个浅显的分析。

主持人

我们下午的第一位是来自武汉华星光电技术有限公司的程艳，她演讲的题目是微晶粒发光二级体技术现状与未来展望。

主持人

谢谢东南大学王飞霞的精彩报道。今天上午在大家的共同努力下，11个报告都做完了。

东南大学王飞霞

我演讲题目是家用激光投影显示光辐射安全的研究与探讨。
    与光有关的两大系列标准就是60825系列和62471系列，60825主要是针对窄波长的激光产品进行能量测试计算，62471主要针对非相干光进行能量测试计算。中国使用GB7247.1-2012，不适用与非激光产品，82471适用于图投像机。激光投影类别：有激光聚焦、电光源、线扩散、面扩散。（PPT）这是激光投影显示的光路径，主要分为投影出射光和屏幕反射光。这边的光强是非常高的，需要人们在短时间进入这个区域的时候，这边亮度不能太高，不会对人的眼睛、皮肤造成伤害。投影机越远他的危害等级越低，需要保证这边亮度不能高于三类，屏幕的反射脱讯对屏幕的影响也是非常大的，如果屏幕是一个完全慢反射，屏幕的反射光的伤害是非常非常低，目前人们追求高增益的屏幕，避免对人眼的危害。
    家用激光投影显示的光安全性探讨主要有红绿蓝激光器。几种激光情况，国内3C认证直接可以参照（GB327）这种标准。
    最新60725-1的本版版本当中既包括LED，后来拿到了CIE S 009这一块，60825-1添加了非纯激光辐射应该根据此类标准进行分类。对混合光源来说，对于激光部分就是采用激光这一面，采用激光等级分类，在这两个标准出来之后，首先按照60825-1来分类。这边是一些60825的几个分类，其中1C和2M是关于医学观看的投影，然后产生的危害眼睛，在家里面是会考虑到这两个方面，所以按照这五个分类即可。（PPT）这边的表格就不一一介绍了。
    类别的确定需要知道它是连续辐射还是脉冲辐射。
    62471-5提出了5个方面的危害：1、眼睛和皮肤的光化学紫外危害；2、眼睛近紫外等等。
    总结：
    1、家用激光投影显示在屏幕上的瞬态激光功率密度较小；
    2、对于超短焦、前投影的家用激光投影显示系统，投影出射光在屏幕位置处的光复射危害可能较大，屏幕的特性对反射到人眼的光辐射影响较大。
    3、IEC60825-1：2014与IEC82471-5：2015，既有差别也有一定的相关性。
    4、需要根据激光投影显示光源的工作原理、色轮结构、光谱成分等决定不同类别的AEL或者EL。
    展望：
    1、对于超短焦、前投影的家用激光投影新式系统，可以结合屏幕的反射特性，人眼长时间有意观看屏幕反射光等特性，研究屏幕反射的辐射安全；
    2、非正常观看：投影出射光-安全防护；
       正常观看：屏幕反射光-在安全范围之内，舒适度。
    本项目由质检公益性行业科研专项（201510203-011）和十三五国家重点研发计划（2016YFB0401201）支持。
    我的介绍就到这里，谢谢。

主持人

上午的最后一个报告是由东南大学王飞霞带来的家用激光投影显示光辐射安全的研究与探讨。

合肥京东方光电科技有限公司的中级研究生魏广超

大家好，我演讲的题目是全新的OGS强化玻璃全自动研磨方案及技术优势。这个是传统研磨机以及新型研磨设备示意图对比。一个产品从这个进去，然后进去抓取，之后再进行一个（MK）的抓取，下面是一个研磨刀轮，之后会进行研磨动作。研磨之后通过抓取进行下面工序的生产。从右边这个图来看是针对耽搁的截面示意图，之后产品通过在H轴上进行运动，实现加工。新型研磨设备主要有四个技术优势，一个是全自动研磨方案，人为因素比较多一些，采用全自动会减少人为的因素。二是采用了150毫米的研磨轮进行研磨。三是设备可自动检测产品尺寸，取决于人为取放的动作。四是小磨轮自动换刀。
    新型Inline研磨设备的优势在于机台的上下料采用自动的方式进行，未加工产品从input conveyor传送到定点位置（通过单独的PLC控制，确保传送的精准性），再由CNC Grinder机台的机械手臂上的吸盘抓取产品通过手臂的导轨放入CNC Grinder的机台内进行全自动的对位以及研磨动作，完成研磨之后再通过相同的机械手臂，将加工之后的产品传送到output conveyor，所有的研磨机构均同时工作，通过调整流水线的长度和机台的数量来满足各种产品的节拍。
    更高的线速度：从下图可以看出，大磨轮150转速达到4000RPM就相当于小磨轮840000RPM时的线速度的两倍。线速度越高，崩边越小，加工效率越高。
    大磨轮会有更好的冷却效果：以大磨轮[4000RPM,φ150]和小磨轮[40000RPM,φ8]做对比，大磨轮的切削能力（线速度）是小磨轮的两倍, 大磨轮转速低，单颗金刚砂每分钟执行4000次的切削，而小磨轮上的单颗金刚砂每分钟则需要执行40000次的切削，故大磨轮上每颗金刚砂的冷却时间多余小磨轮。另外大磨轮的研磨部位相对非常小，有很多的部分是在非加工状态，可以使磨轮上的金刚砂迅速降温，具体见下图。
    传统的研磨机中的CCD作用仅限于对位功能（小部分公司仅可以检测上表面的精度），新型Inline设备的优势在于每个研磨机台上均装有上下两只CCD，既可以用于对位功能，同时增加了产品上下表面尺寸的检测功能，具体的检测项目如下：研磨量，上下倒角量，孔的精度。此装置不仅可以及时在机台不停机的状况上就可以抽检产品的品质状况，可以及时的发现产品的异常，避免批量不良的发生，同时还大大减少了量测人员的成本。
    传统的研磨机在研磨寿命结束时，需要人为的去对磨轮进行更换，新型Inline研磨设备的优势在于针对于小磨轮采用自动换刀的方式，设置机台的程序，当磨轮的使用寿命达到设定值时，机台自动停止并移栽刀库位置到主轴下方进行自动更换，刀库中有12个磨轮，在全部使用完毕之后，作业员一次性更换。此种方式大大节省了人员的换刀时间，提升了作业的效率。
    更好的研磨品质：对应SDL,DT以及Concore玻璃，研磨chipping的中心值在30um以下（业内50微米）对应各种玻璃，研磨chipping最大值可控制在50um以下（业内100微米）。
    对比业内磨边机研磨后chipping size中心值50um左右，TM1研磨设备经过工艺参数实验优化之后，研磨之后确认不同玻璃的最大chipping size 分布的中心值基本在25um左右，最大值约在40um，领先于业内。
    业内手动作业的方式，需要人员进行手动上下料，且需要人员进行手动取片到显微镜下确认产品的精度，不仅需要耗费大量的人员同时效率低下，且不易于及时发现不良。新型Inline设备采用全自动的检测方式，大大节省了人员的投入，且减少了人员作业带来的品质风险，对比业内OGS的状况，新型的研磨工艺具有较高的竞争优势。相同产量下机台数量对比：新型研磨设备采用全自动的研磨方式，具有更高的效率，生产相同的产品采用的机台相对较少。

主持人

谢谢上海大学的郑志强同学。接下来我们请合肥京东方光电科技有限公司的中级研究生魏广超做发言，大家欢迎。

上海大学研究生郑志强同学

大家好，我们电影中的3D电影还有裸眼3D都是机遇此原理形成的一个形成的一个3D显示，大家可以看到这幅图，如果透视度不高的话，会影响它的3D显示，中间这两幅图和右边这个旋转的图，原理是相似，在动态是一个显示屏，显示的是一个人的头像，在高处中能够让你体验3D的效果，体现三维的一个效果。
    还有一种显示是全息3D显示，这些一开始大家看到的是静态全息，下面是彩色的，下面是单色的，下面就由我的同学为大家展示一下，我的同学会在下面走一圈。
    深度信息我们叫做（像维）信息，两束光把我们的强度信息和深度信息记录在我们的光板上，大家看到为什么要有一个手电筒去照射它，也就是这个原理。
    全息3D显示分为两种，一个是静态3D显示，另外一种是动态3D显示。静态3D显示分为空间光调制器的光电全息显示，另外一种是基于材料的光学全息显示，这种材料分辨率可以达到2微米之间，完成可以达到视频刷新。
    全息3D显示分为实时动态显示、全视差3D显示、大尺寸高分辨率显示，市场上实时动态显示还没有实现，这几年一直在攻破这个难点。为此因为实时动态这个领域在国际上的进展给大家做一个汇报，文章上面说，他每刷新一幅图片是在2秒钟左右，上面这三幅图是他演示出来的图片，日本推出的信息说他们每刷新一个视频是0.2秒，国际上还有难达到实时动态刷新。我们的导师高老师研究处这个结果，刷新一张图片在2毫秒，一秒钟时间可以达到500张图片，完成可以达到视频刷新。
    
    给大家看一个视频。（视频演示）。
    
    这样的一个实时动态的结果作为工业报道，最后麻省理工对我们的材料认为是自然的材料，进行进一步的研究发展。
    大家知道一个物体是由三色形成的，三幅不同的全息图在形成的时候，在叠加中就形成了彩色图。用红色拍、蓝色拍、黄色拍就会形成不同的全息图。
    
    （演示视频展示）
    
    全息3D电视的原理样机，最后能看得到衍射出来的三维像，我用相机进行取样，这是我从视频截图中取出的像，我给大家看一个视频。
    
    （视频展示）如果我们的材料能做的动态实时刷新的话，不是不可能，用全息完成可以实现，这是我们全息3D显示未来的一个目标发展。
    
    我今天的报告相对比较仓促，如果大家对我们的东西有感兴趣的话我们的高老师在北京论坛做了报告，下面是我们老师的具体内容，会在下面的报告中有详细的讲解。我们现在研究的东西可以采集出实物的3D信息，成为一个3D模型，这样的一个全息图，我们已经做出了全息静态数字3D图，彩色全息显示，3D全息相机等等，整体就这些，谢谢大家。

主持人

谢谢沈忠文同学，接下来有请上海大学研究生郑志强同学，他演讲的题目是全息真3D显示最新研究进展及未来真3D电视。

东南大学研究生沈忠文同学

大家早上好，我是来自东南大学研究生的沈忠文。我将把以下内容给大家介绍一下。
    视频穿透头盔显示器：一种沉浸式头盔新时期+一个或多个头盔式设想系统。另一种是现实场景视频与计算机虚拟图象结合。
    光学穿透头盔显示器：需要光学耦合系统，显示场景与计算机虚礼图象由光学方式耦合。
    我们研究一种波导光学穿透显示系统，从如耦合光学元件—全反射传播—出耦合光学元件。右边一张图就是二维扩展出瞳，可以说明出瞳对效果是有关键的作用。
    全息波导显示系统的优点：1、轻薄；2、出瞳尺寸大；3、自然光头过率高。是一种典型的基于体全息光栅波导式AR头盔显示系统。它的市场特别的窄。
    增强显示头盔显示的视场，如果你的视场角小的话，你接受的信息量就非常少。
    体全息光栅武力特性：高度的波长选择性托名度高，高度角度选择性：高衍涉效率。厚度小，属于微米级别。（PPT）这个是布拉格的分布情况，大家可以看一下，他的波长变化也100（纳）左右。右边这张图是在不同的角度看到的一个不同的情况。
    扩大视场的方法：1、多重曝光工艺拓宽视场角；2、体全息光栅结构。
    多重曝光可拓宽光栅的衍射波长带宽，三种不同光栅周期但倾角一致的光栅将记录带一块全息干板之中。
    新结构：利用上下两个全息光栅，通过两次反射，提高FOV。左边这张图在10度的时候是FOV是增大，结构的有点就是结构简单，效果明显。
    相比于其他方式，波导系统可以实现大出瞳效果，体广西光栅作为耦合光学元件与OR头盔显示技术。

主持人

接下来有请东南大学研究生沈忠文同学，他带来的演示是大视场全息波导显示系统的设计。

成都电子科技大学的研究生李光勇

大家好，接下来，我从下面的五个方面给大家进行介绍。
    三维显示技术主要有立体视疲劳的3D显示技术、无立体视疲劳3D显示技术，助视3D显示技术、视差3D显示技术、体3维显示技术、全息3D显示技术，集成成像3D显示技术、光场3D显示技术。光场3维显示技术不会产生眩晕，头疼，视疲劳等症状；而且光场3维显示技术相对于体3维显示技术，全息显示技术等易实现。为了获得真3D的视觉效果，通过一个显示器内布置多个显示屏幕,在不同的显示屏中显示有差异的视频图像（有深度信息），通过多个显示屏幕的合成效果，就可以达到立体显示效果。（PPT）投影图，就是相机在不同视角捕捉得到的物体的图像。通过摆放相机阵列同焦平面的捕捉物体画面或利用单个相机在不同位置处获取同焦平面的物体的图像阵列，再通过数据处理后得到投影图。
    由于时间关系，我把算法简单的介绍一下。投影图中任意一幅上的任意一个像素点值都代表着某一束光线对应的强度，而这个光线对应的强度我们用其贯穿三个平面交点像素值线性和来表示。其中P=PA+PB+PC,B为原真实光场信息，即5×5投影视图中视角为的图的(m,n)坐标的像素点值。求解的方法采用最小二乘法[14]，通过调用MATLAB中的函数lsqlin进行求解。多层3D显示模块、多屏显示驱动模块、高亮度背光模、电源模块。
    这个是我们实验中采用的多屏显卡的实验图，下面的是我们搭起的平台。
    实际3D物体的获取：平台的架设：将两个支架组合起来，便可以在x,y方向进行移动，获得5×5投影图。（PPT）这个是员工厂3D图，第二个是方针的3D图。
    假设模拟相机，两辆车子为在3dsmax中建立的模型，从前视图可以较为直观地看见假设得5×5相机阵列。衰减图由衰减图重构出了物体5×5范围视角的信息。从衰减图本身就可以看出物体的大致信息，离镜头较近的物体的主要信息显示在了第一层屏上，而离镜头较远的物体的主要信息显示在了第三层屏上，根据这些衰减图重构出物体5×5范围视角的信息。
    下面我们从原光场和重构光场的对比来看一下。我们是通过采集的方式来获取数据，我们用（3D）显示品来显示原光场的显示。
    下面是我们将衰减图搭建到我们的平台中，从小范围内拍摄的一个视图（PPT视频效果展示）。

主持人

接下来我们有请成都电子科技大学的研究生李光勇，他带来的题目是机遇液晶多层屏的3D显示系统和算法设计研究。

康得新符合材料集团股份有限公司3D显示事业群副总裁张飚

大家好，我今天演讲题目是打造智能显示新生态，我们公司的地址是在江苏张家港总部，5大产业基地，美国、韩国、台湾办事处。
    其实3D是很老的概念，到了2009年再拿出来的时候，我数了数，大约在过去的20天时间里，市场上大约有6款，大家都想看3D的东西，但是设备挺贵。3D即三维立体图形。在现实生活中，人的左、右眼在观察物体的角度略有差异，才能辨别物体的远近、层次，产生立体感。3D技术的原理: 就是让左右眼同时接收不同角度的影像，模拟真实双眼的3D效果。眼睛3D其实已经做的很好了，但是今天大家戴的眼镜还是很不方便，不可能在今天这样的一个场所大家戴一个头盔，我个人更看好的还是裸眼3D。（PPT），这个是一个柱镜式3D技术方案的对比，我们叫转向液晶，还有一种是以前做的比较多的。KDX对做膜比较擅长，我们用棱镜的方法去做裸眼3D，目前我们正开发的主要就是把它做成可切换的。它的优点有这么几个：1、2D分辨率没有损失，亮度也没有损失；2、可实现2D/3D自由切换；3、3D显示效果好，串扰小，无摩尔纹问题；4、搭配人眼跟踪，减少裸眼3D的死区。
    这是我们做的产线的一个工艺流程，大家看一下基本上的步骤就是这几个，这跟我们做薄片的做法是类似的。第一个就是成型，这个是在玻璃题材上，发生了很大的变化，这应该是3D上比较特别的地方。lens 位置精度以及Baking时 Lens 的完整性。目前我们在博士的带领下，大部分都得到了解决，我们的高度差别比较大，对均匀性要求也是比较高，而且这个高度是10-20，有意思的是说，我们在打破这条产线的时候，一大部分是来自3D，LCD确实有它的优势，我们跟市场的兼容性没有那么高，很多地方都不一样，我们觉得还是有发展前途的，我们这边最大的好处还是有棱镜在里面做决定的，所以它的光线效果比较好。棱镜的厚度比较高，这是一个比较大的挑战，第一是怎么样控制我的均匀性，怎么样变好，怎么样能够准确的把这个事做好，液晶灌多了还是比较严重的问题。我们可以上是工业4.0的现代化产线。
    全球唯一的完整的产业链解决方案：1、强大的技术研发实力；2、先进的生产制造能力；3、完整的产业链条；4、3D内容集成平台；5、超过800项专利。
    优秀的团队：研发，设计，制造，生产，一站式服务体系；国内顶尖的3D研发设计生产制造团队；丰富的行业解决方案经验。
    我们从内容制作，KDX本身还打造的一个内容公司，我们可以做比较完美的内容制作，今天的中国好声音做了一个整个3D版的拍摄，大家如果有3D版的，大家可以看一下3D版的中国好声音，老师从那个台上飞下来的时候，效果还是蛮不错的。我们把这些都做好了，大家才会有一个好的体验。3D本身对电影的要求还是蛮高的。KDX采用的解决方式形成一个完整的解决方案。（PPT）这是我们看到的3D应用场景，我们做的很多终端也是跟很多厂家一起来合作，给用户一个很好的体验，我把VR放在上面，我也不知道它是移动的还是流动的。
    KDX裸眼3D产品，主流产品全覆盖：全高清产品；超高清产品；屏幕尺寸从5.5到10.1。
    未来的技术路线：裸眼3D普及—光场显示—未来显示新生活。QPI未来可做为全息技术的核心组件-空间调制器,产生3D立体全息。我们KDX也是希望未来给大家带来美好的生活。

主持人

接下来有请康得新符合材料集团股份有限公司3D显示事业群副总裁张飚，他演讲的题目是打造智能显示新生态。

合肥鑫晟光电科技有限公司的中级研究员王庆浦

大家上午好，我是来自京东方的一个工程师，给大家带来的题目是OGS触控屏预防静电设计与工艺研究。
    首先是我们在做触摸屏的时候，它出现的静电机制，会形成一种耦对电子层，会积累在设备上或者产品上，如果积累产品上，就会导致产品静电的不良，通过我们对这个静电的不良我们分成两类，如果是这个图片上显示的。
    我首先给大家介绍的是BM击穿现象和BOE。在电极触控的区域有明显鼓起的区域，中间的位置是有一个孔洞，我们做一个电极，发现在中间的位置形成了一个通道，类似于弧形的一个通道，正好这个通道使得两个电极之间发生微级的状况。我们的绝缘层是树脂层包裹着碳颗粒结构，我们碳材料本身是导电的。
    BM的击穿机理：
    1、BM材料微粒是由树脂包裹碳材料颗粒组成，碳材料颗粒导电；
    2、这种包裹结构微观上形成了不均匀介质，使得其抗ESD能力低于OC材料；
    3、两ITO电极制作在BM层之上，静电释放在其中一块ITO电极上，两电极之间形成电势差；
    4、两电极块经由碳材料颗粒进行放电，击穿树脂与碳材料颗粒形成导电通道；
    5、两电极块之间阻抗10~100kΩ，导致微短路，切断BM击穿位置后电极块之间阻抗恢复正常。
    我们根据以上原理进行一个改善方案我们对以上的原理总结出两点，BM被击穿形成导电通道，跟ITO相连。ITO电极块之间存在点势差，形成电场。
    BM与ITO之间增加隔层，在BM与ITO之间增加SiO2作为绝缘层和隔离层。
    BM与ITO间增加一层SiO2作为绝缘层和隔离层，阻断BM击穿后形成的导电通道与ITO电极之间的导通。
    SiO2改善BM击穿原理
    SiO2层实现了将二者绝缘隔离，BM材料基本组成粒子直径较大，导致BM表面较为粗糙，在SiO2厚度较低时，绝缘效果较差；实际改善效果，增大厚度值40nm以上时，绝缘效果较佳，产品抗ESD能力可以达到生产需求，随着SiO2厚度增大，工艺难度增大，建议使用40-60nm厚度SiO2较佳。
    不同ITO夹角BM击穿形态
    左图a-c为ITO块夹角120-180°设计击伤形态，b为ITO块夹角45-90°设计击伤形态不通ITO夹角均存在BM击穿，形态各异不通ITO夹角下BM击穿电压
在ITO电极与BM搭接区域，电极夹角180°时较120°夹角击穿电压大大提高，ITO电极夹角增大后，BM击穿电压大大提高。
    ITO夹角影响机理：电极尖端位置电荷面密度较大，电场强度较高，容易使附近的BM击穿，随ITO电极块夹角增大，电极块之间电场更加均匀尖端最高电场强度减弱，从而增大了BM击穿电压，降低了BM击伤的风险150°以上夹角为较佳选择。
    ITO Space影响机理：上图中a-d分别为ITO Space在30、60、90、120um时的电场分布；在30-90um时，电极块尖端位置电场强度明显偏大，ITO  pace达到120um时，电极块尖端位置电场变得更加均匀；随着ITO Space增大，两电极距离变大，在相同电压大小静电释放时，虽然电势差相同，但电场强度显著降低。
    谢谢。

主持人

接下来有请合肥鑫晟光电科技有限公司的中级研究员王庆浦，大家欢迎。

上海天马微电子有限公司的资深技术专家杨康

目前国内自容式集成触控技术还是比较多的，自容触控的一些方式首先是光学，第二是触控性能，第三是结构，第四是工艺，综合这些比较，天马目前在研发这种完全内控的触控方案。
    在结构上主要是把显示的，正常来说是显示的公共区域，会把它分成每个小块，每个小块会也独立的连线，这些小块在显示的时候会有一个公共信号，在驱动的时候每个会作为一个独立的连接，进行触控的探测，从这个结构来说，它的结构相对来说是比较简单，整体的性能，目前基本的自容式触控产品，无论是像On-cell还是Hybrid in-cell，都有大量的量产，整个产品是比较成熟的。今天我介绍的是在此技术上主要性能的研究，主要是在4毫米左右，正常来说是5毫米左右的铜铸来做测试，整个触控精准度的探测，指标上、规格上都能够做的比较好，如果进一步做一些要求，做一些尺寸的功能，可能需要做到2毫米，甚至1毫米。比如说一个2毫米探测的铜铸，它周边的一些感测信号相对来说就比较小，最后的误差就会比较大。对于2毫米还会发现断线的问题，触控还是会差一些。针对这个方案，正常的会想把这个做小，这样它的测试结果会比较小。我们这边研究主要是从电极图形上做了一些变化。（PPT），这边是一个思路，我们做了一些感控，图形相互PK的是一个互线型的图形，整个触控这边的位置判定会更准确一些。从这个思路出发，整个方案我们做了一些模拟，从两个角度进行了一些对比，第一个我把这个枝杈作为一个核心区域，一个叫枝杈区，核心区和枝杈区宽度的比例，第二是它的之间的数量，枝杈的形状，包括数量都有差异，这个时候我们去模拟，中心点整个比例一定的时候，它整个的信号是比较接近的，在一个边界的地方，可能会比较差，但是相对幅度也比较小，在宽度和枝杈比例一定的情况下，枝杈的电极图形的变化对于整个信号的影响不大。在实际设计的时候就要考虑中间和边缘，我们当时选择的是1：2的比例，觉得它是相对平衡结果，中间和边缘整个特性都会相对比较好。1：2这样的一个比例，在触控来说是比较优化的一个结果，如果直接去做触控产品，还是会有一些问题，会有一些耦合干扰，在枝杈地方和中间，对于一些信号切换的影响会不一致，所以显示上就会出现枝杈和中间出现一些差异性，我们再次基础上进一步改良，对整个图形进行优化，在图形走线上也做了一些均匀分布，受到整个干扰是一致的，有效的把一些问题解决。
    这个是我们的一个分针结果和实际测试的结果，我们拿1毫米的铜铸来测试，中间大部分区域都是能做到0.5毫米以下，整个去做的话还是没问题的，我们在此技术上做了一个PD的产品，主要是我们能实现（0.5）毫米的。
    谢谢大家。

主持人

接下来我们有请上海天马微电子有限公司的资深技术专家杨康，他演讲的题目是自容式集成触控技术电 极图形设计方案研究与开发。大家欢迎。

深圳市华星光光电技术有限公司 主任工程师的刘林峰

大家好，我今天演讲的题目是基于液晶透镜的大尺寸可切换裸眼3D显示器。
    3D显示技术以眼镜式的快门式3D及偏光FPR为基础，进阶至裸眼3D，以固态柱状透镜光栅的开发为主，未来更著重开发高解析度液晶透镜式裸眼3D显示技术。
    这是我们的制作过程（PPT）：多电极驱动的LC LENS结构简单，上基板由BM组成，下基板由METEL/过孔/LTO五组成，上下基本均可由LCD黄光制成制备，上下基板和LCD cell工艺相同。

    这个是2014年做的，产出LC lens首先测，最后间profile与理想镜头的偏离程度，模拟结果CELL由于6微米，实际测量profile基本吻合。
    左下角的图是我们今天制作的，它主要是光线相对集中，聚焦点更加集中。
    这是我们测试的一个，和之前做的进行比较，看它们之间的差别，相比之前是有明显的改善。（PPT）右边这张图片是在走动的时候，看到它的不同的侧面，有32寸大，直观看起来它没有影响。

    机遇多碱基驱动液晶透镜技术，并搭配2D分辨率8K4K的LCD屏，我们制备了一款32寸可切换裸眼3D显示器，验证了涉及和制成的可行性。实际裸眼3D画面整体有良好立体感，透镜均匀性良好。

主持人

下面有请来自深圳市华星光光电技术有限公司 主任工程师的刘林峰，他研究的题目是基于液晶透镜的大尺寸可切换裸眼3D显示器，大家欢迎。

中国电子科技集团公司第五十五所研究所 工程师 王健波

大家好，我今天演讲的题目是高亮单色硅基LED微显示器件的制作。

    硅基LED微显示器件是利用倒装互联技术，实现硅基有源驱动背板与三族氮化物微小尺寸发光二极管阵列的互联。利用此技术，在微显示芯片上实现了微小尺寸二极管阵列的高密度集成，有效的提高了微显示器件的分辨率。
    目前微显示技术众多，硅基LED微显示因其响应速度快、亮度高、温度范围宽等优点，受到了较多的关注。本文基于团队前期设计的硅基有源驱动芯片和单色LED显示芯片，利用光刻及沉膜工艺，在芯片上完成了640×480铟柱阵列的制备，之后采用回流焊、倒装焊工艺，实现了驱动芯片和显示芯片的互联。
    硅基LED微显示技术与目前半导体工艺兼容，适宜于大批量生产，相比于LCOS、DLP微显示技术，它不需要背光源，整体较轻薄、光学系统设计简单、响应速度快；相比于OLED微显示技术，它全部采用半导体及金属材料，亮度高、耐高温、寿命长。

    2011年，美国Texas Tech University的研究小组在GaN基材料上制作出640×480个像素单元的微显示集成LED阵列。该研究小组采用倒装的方法，通过金属In将单元与Si基COMS集成电路进行键合，实现了单个像素的独立驱动，且像素大小仅为12μm×12μm，像素间距仅为3μm。2014年5月苹果公司收购LuxVue，取得多项 Micro LED 专利技术，此后也持续布局有关技术专利。苹果可望藉由整合 LuxVue 技术，为旗下穿戴式设备、手机等产品提高屏幕亮度，并降低电池能耗、延长续航力，为硬件设备拓展创新可能。2015法国CEA-LETI的Grenoble Alpes团队利用microtube technology在4英寸的蓝宝石衬底上，制备出了多个微显示芯片，每个芯片的阵列为300×252，单个像素周期（像素单元与间距之和）为10微米。该研究成果是目前研究报道中像素尺寸最小、集成度最高的微型LED阵列器件。国内目前是工研院和香港科技大学，对微显示器有一个研究。
    今天讲一下我们的制作方案（PPT），UBM层制作流程如下：1、匀胶光刻；2、电子束蒸发衬底Ti/Au；3、剥离去胶，注意保护好图形；4、镜检，合格后进入下一道工艺。

    制作流程 铟柱制备：1、光刻：选择适合的厚胶，匀胶、前烘、曝光、后烘、显影之后镜检合格即可。2、沉积铟：采用热蒸发设备进行铟蒸发，控制好厚度。3、剥离：NMP浸泡、IPA冲洗、DIW冲洗、N2吹干。
    制作流程 回流焊：回流焊工艺目的：一是为了铟柱成球高度更均匀，二是为了将位置稍有偏移的铟柱回球后恢复到中心位置。回流焊工艺流程：1、升温至所需温度（200℃左右），期间持续通甲酸。2、停止通甲酸并保持所需温度一定时间。3、降温，取出样品。回流焊之后需要随机抽取样品，用SEM对样品进行观察，以确保铟柱成球形状满足要求，如下图所示。
    制作流程倒装焊：1、设置实验参数，温度、压力、持续时间等；2、放置好LED芯片和驱动背板；3、对位，完成之后进行压焊。
    制作流程 底部填充胶：底部填充胶：、将倒装完成后的芯片按如图所示放置在夹具上；2、用点胶机进行点胶；3、静置一段时间；4、烘箱进行烘干。
    这是我们的一个研究结果（PPT）：点亮后利用亮度测试仪对亮度进行测试。通过左图可以看到，随着电流的增大，亮度在不断提高，且成曲线增长。测试中，通过增大电流，记录到在172.7mA时，测得硅基LED微显示器件亮度达到298200cd/m2。不过在如此高电流情况下，器件发热情况明显，不宜长期工作在此条件下。

    研究总结：1、完成了硅基LED微显示器件样品的制作；2、器件显示时仍有缺陷亮点，需改进制作工艺；3、高出光亮度下电流较大，电路设计以及LED芯片结构需改进。
    未来工作：优化工艺以及器件结构设计，着手其他单色LED器件的制作研究，探索彩色化实现路径。
    我今天的演讲就到这里，谢谢大家。

主持人

下面由中国电子科技集团公司第五十五所研究所 工程师 王健波主任为大家演讲高亮单色硅基LED微显示器件的制作。

南京中电熊猫平板显示技术有限公司工程师崔晓晨

大家上午好，我今天报告的是Micro LED Display，我把了解到的一些跟大家分享一下，主要就是Micro LED 的一些技术。
    LCD显示器是目前发展较为成熟的微显示技术，但其需要背光源，Open cell穿透率约在7%，光电效率低，且亮度较低，应用场景受到很大限制。OLED型微显示器是一种有机电致发光的全固体显示器件，虽然有许多优点，但由于核心部分为有机材料，目前仍存在着不易实现全彩显示、有机发光层制作困难以及有机物老化导致寿命较短等缺陷。因此，另一种直接利用三原色LED做为自发光显示点画素的Micro LED Display的技术也正在发展中。
    随着LED的成熟与演进，Micro LED Display自2010年起开始呈现不一样的面貌。
　  自2010年后各厂商积极于Micro LED Display的技术整合与开发，然因Micro LED Display尚未有标准的μLED结构、量产制程与驱动电路设计，各厂商其专利布局更是兵家必争之地。到2016年被Apple并购的LuxVue、Mikro Mesa、Sony、Leti等公司皆已具数量规模的专利申请案，更有为数众多的公司与研究机构投入相关的技术开发。

    Micro LED Display综合TFT-LCD和LED两大技术特点，在材料、制程、设备的发展较为成熟，产品规格远高于目前的TFT-LCD或OLED，应用领域更为广泛包含有柔性、透明显示器。
    Micro LED Display，是由微小LED组成的高分辨率显示面板，有别于目前市场将LED置于液晶显示器背光源的做法，Micro LED Display的显示原理是将LED结构设计进行薄膜化、微小化、阵列化，其尺寸仅在1-10微米等级左右；然后将Micro LED批量转移至电路基板上，其基板可为硬性、软性的透明、不透明TFT背板，TFT技术等级为IGZO、LTPS、Oxide；再利用物理沉积制程完成保护层与上电极，进行上基板的封装，完成Micro LED显示。Micro LED阵列的每一个像素可定址、单独驱动点亮，通过电极线的依序通电点亮Micro LED以显示影像。
    Micro LED典型结构是一PN结面二极管，由直接能隙半导体材料构成，采用成熟的多量子阱（MQWs）LED芯片技术，最大限度地体现LED器件作为显示器的优势。通过对Micro LED上下电极施加一正向偏压，致使电流通过时，电子、空穴在主动区复合，发射出单一色光。目前做LED是分为三种结构，有正装LED、倒装LED、垂直LED。 

    高光提取效率的合适形状包括球形、半球形、去掉顶的椭圆形等，然而这些结构很难实现，并且成本很高。（PPT）
    Krames科研小组提出了去掉顶的倒金字塔结构LED，管芯的侧面为斜面，LED的这种几何外形可以使内部反射的光从侧壁的内表面再次传播到上表面，而以小于临界角的角度出射。同时传播到上表面大于临界角的光重新从侧面出射。这两种过程能同时减小光在内部传播的路程，外量子效率提高。
   下面讲一下Micro LED的转运技术：
    由于晶格匹配的原因，LED微器件必须先在蓝宝石、SiC、Si等衬底上通过分子束外延生长出来。而做成显示器，必须要把LED发光微器件转移到玻璃基板上，对于微器件的多次转运技术难度都特别高，而用在追求高精度显示的产品上难度就更大。通过此前苹果收购LuxVue后公布的获取专利名单也可以看出，大多都是采用电学方式完成转运过程，所以说纳米级LED的转运技术是LuxVue的关键核心技术。四个主要的转运设备、转移头、转运方式、稳定装置。转运方式目前采用热或者是压力的作用把Micro LED的生长转移到基板上，然后通过间隔层间隔到承载基板，这个间隔层可以通过温度的改变来改变。
    Micro LED转运方式目前主要分为三类：芯片级焊接、晶圆外延级焊接、薄膜转移。
    芯片级焊接：将LED切割成一颗颗微米等级的Micro LED chip（含磊晶薄膜和基板），利用表面贴装技术键接于驱动背板上。
    晶圆外延级焊接：在LED的磊晶薄膜层上刻蚀形成微米等级的Micro LED磊晶薄膜结构，此结构的间距为显示像素所需的间距，再将LED晶圆（含磊晶薄膜和基板）直接键接于驱动背板上，最后使用物理或化学机制剥离基板，仅剩4~5μm的Micro LED磊晶薄膜结构于驱动背板上形成显示像素。
    薄膜转移：使用物理或化学机制剥离LED基板，以一暂时基板承载LED磊晶薄膜层，再刻蚀形成微米等级的Micro LED磊晶薄膜结构，最后根据驱动背板所需显示像素点间距，利用具有选择性的转移治具，将Micro LED磊晶薄膜结构进行批量转移，键接于驱动背板上形成显示像素。
    下面是对三个转运方式的一个对比（PPT），第一个方式就是没有尺寸限制，但是批量转移的能力会比较小，成本也比较高，相对来说比较适合小尺寸，我们了解到Sony比较适合。薄膜转移技术相对外延转移是比较好的，也是没有尺寸限制，间距也是可以调的。下面的这个公司也是采用的这个公司。
    这些是我们了解到的开发的企业，从这个表格中我们可以看到，对Micro LED的显示技术主要还是欧美的比较多，从这些数据上也可以看到，大多数研究机构也是把它放在了小尺寸上面，只有日本的Sony做的尺寸大一些。

    早在2000年Cree就申请了名为“Micro-led array with enhanced light extraction”的专利，随后相关论文发表也很多。学界对Micro LED的投入一直持续，University of  IIIinois的John A. Rogers就是这个领域的大师；LED厂、面板厂也秘密研发多年，但商业化的关键角色，还是非两位消费电子霸主“Sony”和“Apple”莫属。
    通过前面的对比，Sony 优先把显示屏幕尺寸做大，将目标设定在远距离观赏，由于需用的 LED 颗数多，导致制作费工费时，只能期望用低 PPI（LED 尺寸较大） 换取高良率。
    Apple优先把 LED 缩小，做高画质显示，但只做用于穿戴式设备的小尺寸显示器，避免因累计良率过低，价格无法达商业化水平，日前苹果的台湾龙潭厂已实验性点亮了 6 寸的 Micro LED 显示器。

    下面是Micro LED的全彩显示：一个是三色LED陈列混合，通过三种颜色芯片和合色棱镜的作用显示彩色图像。蓝光+三色荧光粉，采用蓝光或者紫外光加荧光粉的方式，在特定区域沉积特定的含有量子点的荧光粉，白光+滤光片，通过蓝光混合黄光荧光粉产生白光，再通过滤光片取色。
    LED的驱动方式：Micro LED阵列经由垂直交错的正、负条状电极连接每一颗Micro LED的正、负极。受驱动方式的限制，此方式无法较好的实现高分辨率显示。所有Micro LED负极通过共用层形成连接，正极与驱动背板进行金属键合，通过互补式金属氧化物半导体（CMOS）电路驱动。不受扫描电极数的限制，可以对各像素独立进行选择性调节。驱动电路藏于显示屏内，更易于实现集成度和小型化，适合多数应用场合。
    Micro LED存在的问题，主要的困难点有三点：以目前已成熟的LED灯条制程为例，在制作一LED灯条尚有坏点等失败问题发生，而一片显示器上要嵌入数百万颗微型LED，良率表现相对较差。倒装（Flip Chip）LED适合于Micro LED显示，因其体积小、易制作成微型化，不需金属导线、可缩减LED彼此间的间隙等，但倒装LED目前的良率还有一定问题。嵌入LED制程不易采用大批量的作业方式，尤其是RGB的3色LED较单色难度更高。单色Micro LED阵列通过倒装结构封装和驱动IC贴合就可以实现，但RGB阵列需要分次转贴红、绿、蓝三色晶粒，需要嵌入几十/百万颗LED晶粒，对于LED晶粒光效、波长的一致性、良率要求更高。
    Micro LED的优势和劣势：比较突出的三个方面优势：具备无机LED高效率、高亮度、高可靠度、反应时间快的特点。自光无需背光源，更具节能、机构简易、体积小、薄型等优势。解析度超高，因为超微小，表现的解析度特别高。相比OLED，色彩更容易准确的调试，有更长的发光寿命和更高的亮度以及具有较佳的材料稳定性。昨天几个院士也讲Micro LED还是比较适合在小尺寸上应用，因为它的成本上也比较高，大面积应用的话。

    Micro LED的应用前景：虽然目前还没有发展起来，但是高照度、低能耗和超高解析度等优异的特性，使其成为平视显示器（HUD）、微投影、头戴显示器（HMD）的理想选择。还有一点是Micro LED间距则足以整合多个甚至多样感测器，同为自发光的OLED 为提升效率必须将R、G、B 子像素排列紧密，在间距变窄下所能置入的感测器有限，所以在穿戴式设备、智能手机等应用上也将扮演关键角色，目前来看它的发展前景还是很不错的。
    上面就是我的报告，谢谢大家。

主持人

各位代表大家上午好，今天的第一个报告是由南京中电熊猫平板显示技术有限公司的工程师崔晓晨，她演讲的题目是基于Micro LED的显示技术的研究，大家欢迎。