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【科普】六大OLED屏性能检测方法汇总
基础知识

【科普】六大OLED屏性能检测方法汇总

摘要:标准项目组根据响应速度快,温度特性好, 功耗低,高亮度及对比度、宽视角及可实现柔软显示等特点, 制定出了一些能更好地评价OLED显示性能的测试方法。 OLED显示屏检测方法与LCD显示屏的检测方法存在一些异同。 亮度测试方法 由于OLED是自发光显示器件, 在

阅读:69392017年10月23日 10:25:36
看了这篇最全介绍TP(触摸屏)的PPT,有人做成了一家上市企业
技术中心

看了这篇最全介绍TP(触摸屏)的PPT,有人做成了一家上市企业

摘要:随着柔性OLED显示技术的突破,全面屏显示触控技术也成为了可量产的现实。全面屏技术这个新的市场需求也再次给显示与触摸行业出了个新的技术路线选择难题。不过,三星在固定曲率柔性OLED显示屏上,仍然选择了传统ITO材料时,行业对于ITO FILM触摸屏的生产技术

阅读:51602017年10月20日 09:40:08
全面屏很火,下面的触摸屏工艺及设备也不容忽视
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全面屏很火,下面的触摸屏工艺及设备也不容忽视

摘要:工艺流程 单面黄光制程 生产设备 检测 电容式触摸屏工艺流程 电容式触摸屏生产原理 互电容屏是在玻璃表面用ITO制作横向电极与纵向电极,两组电极交叉的地方将会形成电容即是在这两组电极分别构成了电容的两极。 当手指触摸到电容屏时,影响了触摸点附近两个

阅读:50592017年10月18日 08:51:37
层层结构中,影响OLED器件寿命的失效问题怎么解决?
基础知识

层层结构中,影响OLED器件寿命的失效问题怎么解决?

摘要:根据驱动方式,OLED可以分为五原驱动(PMOLED)和有源驱动(AMOLED)两种。 PMOLED: 结构简单、成本低,响应速度快,在简单显示的微型设备方面具有极大发展潜力。 AMOLED: 每个像素配备带有开关的TFT,其驱动方式更易于实现高亮度、高分辨率、高色彩表现、

阅读:38482017年10月17日 08:57:19
OLED用的是圆偏光!关于偏光片技术你需要这样来补习
技术中心

OLED用的是圆偏光!关于偏光片技术你需要这样来补习

摘要:日前,香港科技大学郭海成教授以OLED用薄膜偏光片为主题,分享一种偏光片涂布式的技术路径与方法。 郭海成教授介绍,目前市场上绝大部分偏光片都是基于PVA拉伸来取得偏振方向,还是基于H-sheet这样的老技术。 柔性显示把传统的偏光片贴上去非常费时,而且也

阅读:122072017年10月16日 10:05:22
ITO玻璃生产工艺相关参数及分类汇总
技术中心

ITO玻璃生产工艺相关参数及分类汇总

摘要:在普通玻璃的一个表面镀上一层氧化铟锡的导电膜,就形成了LCD常用的氧化铟锡玻璃,通常简称为ITO玻璃。 基本结构 基板: 常用的基板厚度有1.1mm;0.7mm;0.5mm;0.5mm,0.4mm 根据材料的不同,通常分为钠钙玻璃和硼硅玻璃两种。 钠钙型玻璃 优点:成本低 缺点:

阅读:65982017年10月12日 09:07:15
OLED显示主流趋势下的OCA全贴合材料工艺技术解析
技术中心

OLED显示主流趋势下的OCA全贴合材料工艺技术解析

摘要:什么是OCA? OCA(Optical Clear Adhesive),是一层无基材光学透明的特种双面胶,属于压敏胶的一类。 无色透明、光透过率在90%以上、胶结强度良好,可在室温或中温下固话,且有固化收缩小等特点。 什么是OCA全贴合技术? 全贴合技术是目前高端智能手机与平

阅读:63032017年10月10日 10:58:17
OLED屏幕“残影”之手机与TV技术及原理解析
技术中心

OLED屏幕“残影”之手机与TV技术及原理解析

摘要:所谓烧屏,我们一般称为残像或者残影。这种现象存在于自发光类显示器上,包括显像管(CRT)、等离子(PDP),也包括你所说的OLED显示器。这种现象是由于图像长时间静止,而且画面中明暗对比强烈,在画面切换后,原先明亮的部分仍然会有部分影子残留在画面里

阅读:85572017年09月29日 09:06:40
AOI设备在OLED及LCD制程中的应用分析及分类
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AOI设备在OLED及LCD制程中的应用分析及分类

摘要:在整个平板显示器件的生产过程中,检测工序十分重要,遍布在各个环节。平板显示检测是平板显示器件生产各制程中的必备环节,主要在LCD、OLED以及TouchPanel产品等平板显示器件的生产过程中进行光学、信号、电气性能等各种功能检测。 其主要用途为:1、确认生

阅读:59372017年09月28日 08:48:55
提升面板精度?这个很贵很贵的相移掩模你也要了解一下
技术中心

提升面板精度?这个很贵很贵的相移掩模你也要了解一下

摘要:什么是相移掩模? 先进相移掩模(PSM)制造是极大规模集成电路生产中的关键工艺之一。 当设计尺寸(CD)为0.18m时,就必须在掩模关键层采用OPC (光学邻近校正)和PSM (相移技术)。 一般二元掩模由于图形边缘散射会降低整体的对比度, 无法得到所需要的图形。 通过

阅读:68352017年09月27日 08:52:02

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