Advantech U.S. 董事长潘仲光

　　OLED被认为是下一代显示技术，近年来发展迅猛，但在OLED蒸镀过程中仍然存在很多问题。Advantech U.S. 董事长潘仲光先生出席2016中国国际OLED产业会并发表主题演讲，围绕OLED蒸镀问题分享了Advantech U.S.的解决方案。

　　据介绍，2005年潘仲光在美国匹兹堡同有源平板发明人Brody博士一起成立Advantech U.S.公司，主要研发OLED显示屏TFT、加法电路印刷技术。经过十一年的研发，Advantech U.S.公司在荫罩制作、对准科技、张网技术、蒸镀工艺技术及蒸镀设备等方面都取得了较大的突破以及成绩。Advantech U.S.公司的加法电路印刷技术也成功成为美国下一代超级计算机或俗称量子电脑中超导电路的重要技术。2015年潘仲光先生将相关的技术引进国内，开始涉足并协助中国OLED同业解决荫罩技术问题。

　　“目前OLED存在很多蒸镀问题，如沉积越界阴影效应、无法超越600ppi、孔洞尺寸误差太大、孔洞矩阵扭曲不齐、荫罩大等问题。”潘仲光介绍：“而Advantech U.S.公司的荫罩反光非常好，CCD对准速度快。2014年我们公司荫罩厚度为20um，ppi达到635；2015研发出15 um、ppi达到847的荫罩，2016上半年已经做出10um、1270ppi的荫罩。”

　　在张网技术上，Advantech U.S.公司拥有相关专利，其张网设备主要针对荫罩张网平整设计，可以自动调整且可进行精准张网，可实现不超过3微米的精度。潘仲光预计，2018年第三代技术将3分钟内实现1微米的精度的工艺流程，也将大大降低OLED生产成本。同时，潘仲光介绍，Advantech U.S.公司的荫罩以及张网技术提供模块化调整之后也可以解决大尺寸OLED的制程。