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田口法探讨OLED设备ITO表面诱发变异

编辑:admin 2011-12-23 10:38:04 浏览:1502  来源:中华液晶网

  1.前言

  当OLED渐渐在电子产品上大量生产,OLED的制造已吸引许多科学家去制定最适宜的处理条件,ITO已广泛在OLED上当作正极使用,而且不同表面诱发变异以被报导出来为了要改进设备性能,这些表面处理包括氧离子、紫外线-臭氧、氧炙热发电、化学药品、酸和基层吸附如同那些处理结合。

  在本文中我们以田口法报告ITO表面诱发变异,我们使用4种不同方法在ITO样本的表面处理:机械、化学、紫外线-臭氧和氧离子处理,结果对OLED制造有较佳发光效率。

  2.实验

  田口法广泛地被使用于工业研究和性质控制,它是方便接近达最佳处理条件从限制实验数据和获得某些交互作用信息在这些因子之间,我们使用L9(34)直交表去评估每个机械过程和化学处理,从那些结果随同S/N比,我们可以对表面处理建立最佳化条件,最后我们使用L18(2 1 × 37)直交表调合结合因子和获得OLED设备最佳化条件。

  在化学处理,我们选择HCl/HNO3、酸/H2O、温度、时间当作因子。在机械过程,我们选择压力、Al2O3/酒精、磨光速度比当作因子。

  2-1.化学处理

  化学处理在这报告主要在能烫平ITO-涂料玻璃表面的过程,下层在HCL和HNO3的超音波浴中最先被洗,处理温度分别为100、200、300 ℃,反应时间分别为10、20、30秒,HCl和HNO3的比率分别为3:1、4:1、5:1,酸和H2O的比率分别为1:3、1:4、1:5,ITO-玻璃下层由蒸馏水清洗而最后用氮气来干燥。

  2-2.机械过程

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