ASML回应荷兰半导体出口管制新规：涉及最先进的DUV光刻机
摘要：3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”
阅读：7402023年03月09日 16:10:24
摘要：3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”
阅读：7402023年03月09日 16:10:24
关注我们
公众号：china_tp
微信名称：亚威资讯
显示行业顶级新媒体
扫一扫即可关注我们
