OLED的发光层是一层薄薄的膜，需要选择基板来作为沉积的基底。最常用的是玻璃，由于发光层产生的光透过基板发射，这要求基板具有较高的透明性，这种玻璃基板上需要先搭配电极，一般搭配阳极。

　　先来看看被动式的OLED的工艺流程

　　电极部分这样图案化

　　首先，对购买的ITO基板进行电极的图案化，ITO作为阳极吗，与之后沉积的阴极形成“围棋盘”的形状，电压施加在它们的交叉部分，这通过将ITO薄膜不需要的部分去除来实现，这样的过程称为图案化。看下图：

　　形成ITO电极图案，为了在图案化ITO的表面露出发光的部分，需要制备绝缘层，一般采用光刻胶的高分子材料作为绝缘薄膜，最后，由于基板上可能会有残留的光刻胶或者空气中的灰尘、水汽因此需要对基板进行清洗处理。

　　首先，通过湿法清洗，最后通过干洗清洗。

　　干洗清洗是指对ITO表面进行UV臭氧处理，或者氧离子处理，表面清理结束后，接着在ITO薄膜上沉积各种有机功能薄膜。

　　什么是表面清洗？

　　表面清洗，字面上的意思就是简单的清洗。清洗处理相当花费时间，灰尘、湿气是对器件最不利的影响因素。无论是半导体工艺还是OLED、LCD，清洗工艺都是非常重要的。

　　小分子材料的真空蒸镀

　　在薄膜制备阶段，采用小分子或者高分子的有机材料的过程是不一样的，小分子材料器件采用多层构造，通过真空蒸镀的方法形成注入层/发光层等薄膜。而高分子材料采用的则是单层构造。

　　首先，在真空腔体的基板座上把已经团花的ITO基板放好，然后，把准备好的小分子材料放入坩埚内开始抽真空，通过对坩埚高温加热，使材料开始汽化，并附着在放置好的ITO基板表面。

　　各层薄膜的形成顺序：

　　高分子材料的旋涂法成膜

　　利用高分子材料来制备OLED器件时，往往不是多层结构，一般采用单层结构或者是两层结构，高分子的发光层沉积与小分子的多层膜的成膜过程不同，由于只要制作一层高分子膜，所以工艺上会便利不少，高分子材料成膜的时候，在ITO上面迅速滴落发光层，不需要真空和高温，这样形成的液膜干燥后通过掩膜板在必要的部分真空蒸镀形成电极。

　　电极怎么形成？

　　各种有机层成膜以后最后镀上阴极，材料一般使用AI等金属，制备工艺多种多样。