一直以来，大尺寸OLED因成本过高，使应用普及受到很大的影响。作为大尺寸OLED制备路线之一，喷墨印刷工艺已经成为各大科研院校与机构、行业企业重点研究的方向。在本届大会上，华南理工大学教授、材料工程学院院长彭俊彪教授以“印刷显示技术的机遇与挑战”为主题，分享了印刷显示工艺技术的研究与应用情况。

从显示技术发展历程来看，彭俊彪教授认为，当前显示技术的更迭时间越来越短、变化越来越快，除了显示屏尺寸越来越大之外，超高分辨率成为业内重点发展方向。他表示，虽然OLED真空蒸镀工艺已经很成熟，但大尺寸OLED真空技术制备的风险和技术难度非常大，比较认可的工艺技术则是印刷显示。然而，尽管日本JOLED已经在印刷显示方面取得了很大的突破，但仍面临诸多的问题，比如分辨率。

显示屏硬件的基本结构分为功能层和TFT驱动两部分，其中TFT是核心关键技术。彭俊彪教授介绍，目前TFT仍以硅基为主，即非晶硅和低温多晶硅，但在大尺寸显示领域，非晶硅与低温多晶硅都不是理想的TFT材料，氧化物TFT成为一种选项。他指出，氧化物TFT可行性已经得到验证，如LG利用a-IGZO作为TFT背板，最大生产出77英寸的OLED显示屏；夏普采用CAAC-IGZO技术在手机与电脑等中小尺寸领域得到应用。

尽管氧化物TFT具有很大的应用潜力，但是彭俊彪教授认为OLED驱动需要的氧化物材料，对电子迁移率要求比较高，在技术应用上还有一定的瓶颈。为了解决这一技术瓶颈，彭俊彪教授团队研究了很多类的氧化物半导体材料，其中通过稀土元素微量掺杂IZO，可大范围调控Ln-IZO材料及TFT的特性，具有很高的迁移率、高光电稳定性。

目前彭俊彪教授重点研究的是印刷OLED工艺，其主要通过喷墨打印，采用这种方式制备像素薄膜，进行衬底处理。他介绍，印刷显示主要有五个步骤：喷出、液滴形状、液滴飞行、铺展、干燥，对材料要求非常高。以蓝光材料为例，蓝光材料需分子量可控，可溶性好，流变性也要有所控制。从墨水的配置上看，整个墨水体系要控制流变性，其中包括控制两个参数：一是沸点；二是溶剂。例如，二氯苯的稳定性好，通过调整浓度可以得到厚度很好的膜，可直接在基板打印。

彭俊彪教授介绍，薄膜可以做成点型像素薄膜，也可以做成线型薄膜，通过控制薄膜的宽度，就控制了分辨率。通过在衬底加上电子、电极就可以构造出像素点或者像素线的薄膜结构。目前彭俊彪教授团队已经可以通过喷墨技术把线宽做到2微米，实现800ppi的高分辨率。因此，通过印刷工艺实现高分辨率的OLED显示屏将是一个可行的探索方向。

彭俊彪教授也介绍，他们正研发全印刷工艺，包括印刷阴极、量子点材料、TFT等，虽然面临诸多的技术挑战，比如应用效率、高稳定性等方面，但全印刷的方式是可行的。他认为，印刷工艺将是未来显示技术之一，但材料体系和墨水是重中之重的问题。同时，他也希望，通过不断努力，利用全印刷工艺，能够看到印刷OLED应用的曙光。