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清溢光电:2025年营收、利润双增;佛山基地计划今年第一季度实现高精度平板显示掩膜版良率提升

编辑: 2026-02-28 15:29:43 浏览:5673  来源:

深圳清溢光电股份有限公司发布2025年度业绩快报公告。2025年度,公司实现营业总收入123,967.01万元,同比增长11.46%;营业利润21,342.30万元,同比增长10.79%;利润总额21,322.55万元,同比增长10.67%;实现归属于母公司所有者的净利润18,715.48万元,同比增长8.80%。

清溢光电是国内成立最早、规模最大的掩膜版生产企业之一,在技术水平上处于国内领先地位。在平板显示领域,清溢光电已形成深圳研发中心、合肥生产基地、佛山高精度显示产线的协同布局。佛山基地聚焦高精度显示掩膜版,计划2026年第一季度实现高精度平板显示掩膜版良率提升,并向核心客户送样认证,下半年实现满负荷运营。在其最新的投资者关系活动上,清溢光电表示,在未来五年,公司将努力实现在国内保持平板显示用掩膜版市场份额第一,全球平板显示用掩膜版市场份额力争保三争一。

项目及研发进展方面,去年11月,清溢光电“平板显示及半导体用掩膜版”佛山生产基地项目投产,该基地项目包括高精度掩膜版生产基地、高端半导体掩膜版生产基地。高精度掩膜版生产基地投资20亿元,主要生产8.6代及以下高精度FPD掩膜版,应用于a-Si、LTPS、AMOLED、LTPO、MicroLED等平板显示掩膜版产品,特别是应对AMOLED用高精度掩膜版的需求(含建设中的8.6代AMOLED),填补国内空白,实现高端掩膜版的国产化替代。高端半导体掩膜版生产基地项目投资15亿元,建设28—180nm的高端半导体掩模板。目前公司已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产,以及150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的小规模量产;计划2026年实现90nm技术节点的量产;正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发;28nm半导体掩膜版正在开发规划中,争取2027年至2028年实现量产。

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