TAOS 2010即将于日本东京工业大学召开

编辑：hattie 2010-01-06 10:59:25 浏览：1155 来源：日经BP社

　　透明非结晶氧化物半导体及其显示器应用国际会议“International Workshop on Transparent Amorphous Oxide Semiconductors（TAOS 2010）”将于1月25日~26日在日本东京工业大学的SUZUKAKEDAI校区举行。夏普、佳能、日立制作所、NEC、大日本印刷、凸版印刷、美国惠普（HP）、韩国三星电子（Samsung Electronics）、韩国LG显示器（LG Display）以及台湾友达光电（AUO）等代表日本、美国、韩国和台湾的企业一线研究人员将发表特邀演讲。

　　透明非结晶氧化物半导体作为驱动“新一代FPD”的TFT材料备受期待。这是因为透明非结晶氧化物半导体蕴含着使基于Si TFT的现行面板实现高精细和高速化，并且能够开拓类似柔性显示器等新应用的可能性。但对于必须以高成品率来大量制造产品的FPD厂商来说，代替此前用惯了的材料转而采用新材料存在风险。面向实用化需要探讨的课题还很多。克服这些课题需要材料厂商和装置厂商之间的配合，面向实用化建立伙伴关系也不可或缺。

　　在这种情况下，此次的国际会议上第一线的研究人员将齐聚一堂。2004年使透明非结晶氧化物半导体的性能提高了一位数、给该领域带来光明的东京工业大学教授细野秀雄表示：“如此之多的企业和研究人员齐聚一堂还是首次。这是一次了解透明非结晶氧化物半导体现状的绝好机会。”

　　目前已经决定由全球最大的FPD厂商韩国三星电子的高级顾问（前任副总裁）昔俊亨（Jun H.Souk）发表主题演讲。除了演讲外，第8代溅射靶材（Sputtering Target）以及通过透明非结晶氧化物半导体IGZO（In、Ga、Zn、O）TFT驱动的液晶面板也将展出。