在2011国际平板显示产业高峰论坛（FPD International CHINA 2011/Beijing Summit）第一天下午的技术演讲中，V-Technology的执行董事、技术开发负责人兼技术开发部长植木俊博以“面向高精细化时代的最新曝光技术”为题，介绍了可满足中小尺寸液晶面板高精细化需求的最新曝光装置。

　　V-Technology是一家成立于1997年的新兴FPD制造装置厂商，其主要产品是检查装置、修复装置以及曝光装置。目前已向约80家客户提供了约1500台产品。

　　在曝光装置方面，V-Technology已在日本、韩国、中国大陆以及台湾地区面向采用光配向技术的VA式液晶面板供应了13台曝光装置。2011年还供应了1台用于生产3D液晶面板用部材的卷对卷曝光装置。V-Technology在中国大陆、韩国和台湾地区的销售额高于日本国内。

　　进化无止境的中小尺寸面板高精细化

　　植木介绍了智能手机和平板PC的发展趋势。按照数量计算，智能手机和平板PC的供货量合计已经超过了个人电脑。随着智能手机和平板PC市场的不断扩大，显示器的高精细化也在加速推进。尤其是苹果公司“iPhone 4”中采用的分辨率为326ppi的“Retina Display”加快了手机面板的高精细化进程。植木表示，“估计今后高精细化将会达到400ppi和500ppi”。在平板PC领域，业内正流传着“iPad3”将采用基于氧化物半导体TFT和FFS的QXGA（2048×1536像素）液晶面板（264ppi）的传言，估计2012年以后300ppi产品将得到普及。

　　40英寸级电视的分辨率只有50～60ppi，1像素的尺寸高达460μｍ。而iPhone 4的Retina Display已将其微细化至77μｍ。植木介绍说，“如果微细化进一步推进，那么设计、工艺和制造装置等各个方面都需要进行技术改造”。在TFT的制造工艺中，必须将原来3μm的分辨率提高至2μm，重叠精度也必须由原来的±1μm提高至0.8μm和0.6μm。

　　兼顾低成本化和高精细化的MLA

　　V-Technology开发的曝光设备的特点是采用了成本竞争力更高的简单构造，同时还可以实现高精度的曝光工艺。V-Technology的产品采用了在掩模和曝光对象之间以平面状大量排列名为“MLA（Micro Lens Array，微透镜阵列）”的微透镜，然后将其进一步层叠以获得高分辨率的光学系统。其原理是将作为曝光对象的玻璃基板固定住，利用MLA进行扫描后进一步曝光。MLA由6英寸的石英基板制成，光线通过的开口部为石英制成，遮光的掩模部为Cr制成。透镜的间距为150μm，开口部的直径为130μm。在产品中，1m厚的MLA至少层叠4张形成了光学系统。

　　由于MLA的像差较小，因此无需此前光学系统中不可缺少的像差补偿机构。所以，曝光装置的构造较为简单。另外，由于MLA的重量较轻，因此可以利用光学系统进行扫描。所以，无需同时移动掩模和曝光对象进行曝光的传统装置中的复杂机构。

　　另外，采用MLA的曝光设备，无需对装置进行改良，只更换MLA便可提高分辨率。V-Technology为了应对液晶面板的进一步高精细化，“预定在2012年12月供货2μm精度的MLA”（植木）。

　　将供应面向IPS和FFS的光配向技术用曝光设备

　　植木还提到了光配向工艺用曝光装置，这种光配向工艺可以代替原来为使液晶分子配向而一直使用的研磨工艺。通过研磨工艺使液晶分子配向的液晶面板，在高精细化程度提高后，就会无法避免地在画面上出现不均和亮点等。使用光配向技术可以消除这种不均，实现清晰的黑色显示。开口率还可以进一步提高，显示明亮的影像。

　　V-Technology已经向采用“AEGIS”定位技术的VA式液晶面板提供了光配向用曝光装置。AEGIS是一项读取下层图案，并将其反馈到曝光头位置进行补偿，由此实现高精度定位的技术。V-Technology今后还预定提供IPS和FFS用装置。