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韩国显示设备厂商Olum Material已着手开发用于硅基OLED的FMM

编辑:chinafpd 2024-01-23 14:39:45 浏览:569  来源:

  韩国显示设备厂商Olum Material(前身为Teziotech)正在挑战XR设备用OLEDoS Shadow Mask市场。Olum Material已着手开发用于OLEDoS的FMM(精细金属掩模版),该FMM采用在硅基板上涂覆Invar(殷钢合金)的电铸合金的方式。去年三星显示收购了美国OLEDoS公司eMagine后,基于硅基板的方式已成为OLEDoS用Shadow Mask技术的主要技术。Olum Material于去年4月启动的5000PPI OLEDoS FMM政府开发课题将持续到明年12月。

  韩国显示设备厂商Olum Materials的员工正在检查用于G8 IT OLED的FMM(来源:Olum Material)

  根据韩媒thelec报道,据业界1月19日消息,Olum Material目前正在执行一项韩国产业通商资源部的“AR(增强现实)·VR(虚拟现实)用5000PPI(Pixels Per Inch)级高分辨率的量产用OLEDoS FMM开发”课题。该课题的研究期间为去年4月至明年12月。去年的研究费预算为8.54亿韩元(约460万人民币)。

  Olum Material计划通过在硅基板上以电镀合计的方式涂布FMM材料Invar(一种特殊的镍铁合金)的EST(Electroforming on Silicon Template)方式制作硅基板集成式FMM。

  该项目第一年的开发内容为支持3000PPI以上的OLEDoS用8吋FMM开发。为此,有必要开发4微米(μm)以下的电镀合计技术和硅基板与电镀合计殷钢之间的结合技术。从第二年开始,预计将支持5000PPI像素密度,并开发12吋的FMM。

  Olum Material所指的EST方式FMM估计类似于APS计划开发的基于硅基板的FMM。在过去的一年里,业界已有消息称,APS正在考虑开发一种“FDM”(Fine Dry etching Mask),该掩模版采用电镀合计方式将Invar涂布在硅基板上,通过曝光工艺和干法蚀刻工艺形成FMM图案,然后用背面蚀刻(Back Etch)方式切除形成图案的Invar背面的硅基板,仅将硅留在FMM边框上。

  通过将硅留在FMM边框中,可以最大限度地减少FMM边框是金属时可能发生的“由硅片和FMM边框之间的热膨胀系数差异引起的变形”。将OLED蒸镀在硅晶圆时由于产生的热量会造成硅晶圆变形,如果FMM框架材料是硅,则可以减小由于与硅晶圆的热膨胀系数差异而产生的变形幅度。

  除了正在通过激光图案化方式开展4000PPI FMM国家课题的APS之外,Olum Material也投入到硅基板的FMM的开发中。据评估,整体上看,基于硅基板的方式和通过电铸合计方式形成Invar将成为整个OLEDoS Shadow Mask的主要技术。

  一位业内人士表示,“在传统的通过压延方式使Invar变薄的自上而下(Top Down)方式的FMM中,Invar厚度为10μm,像素密度仅可达到1000PPI。而如果最近正在开发的OLEDoS用FMM技术,采用通过电分解方式涂布Invar的自下而上(Bottom Up)方式,Invar厚度可以达到几μm,像素密度可以达到数千PPI”。并称,“基于硅基板方式的掩模版技术的崛起,很大程度上受到了三星显示收购eMagine的影响。

  去年 5 月被三星显示收购的美国 OLEDoS公司 eMagine 目前使用的不是Olum Materials 和 APS 正在开发的框架上留下硅的硅基板金属Mask,而是使用材料为硅的Mask。在eMagine方式中,将氮化硅蒸镀在硅基板上,通过半导体光刻工艺制作图案,然后切除硅基板。在这种方式中,掩模材料不是金属,而是氮化硅。由于它是一种硅材料,因此具有难以清洁和反复使用的缺点,但它主要用于为美国国防部制造OLEDoS,与经济性相比可靠性更为重要。

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