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摘要:1、G工程 成膜工程G层Sputter (AL-Nb, Mo-Nd) PR曝光工程G-Mask PR曝光 刻蚀工程G层湿刻 剥离 2、D/I工程 成膜工程PCVD (SiNx) 成膜工程PCVD (3层CVD) 成膜工程D层 Sputter (Cr) PR曝光工程D-Mask PR曝光 刻蚀工程D层湿刻1 Island干刻 D层湿刻2 Channel
阅读:72812018年05月07日 08:53:46摘要:1、G工程 成膜工程G层Sputter (AL-Nb, Mo-Nd) PR曝光工程G-Mask PR曝光 刻蚀工程G层湿刻 剥离 2、D/I工程 成膜工程PCVD (SiNx) 成膜工程PCVD (3层CVD) 成膜工程D层 Sputter (Cr) PR曝光工程D-Mask PR曝光 刻蚀工程D层湿刻1 Island干刻 D层湿刻2 Channel
阅读:72812018年05月07日 08:53:46摘要:为力抗韩国面板厂于OLED技术与市场影响力,台湾LED厂正积极发展Micro LED技术。然而,Micro LED之制程仍有待突破,因此,台厂将先以Mini LED为过渡解决方案,迎战OLED;例如群创光电便发表全新AM miniLED,瞄准车用面板市场,预计于今年就可量产出货。 OLED
阅读:36302018年05月04日 14:02:22摘要:穿透式与上发光型OLED结构 一般OLED器件的光都是经由基板射出,也就是下发光型。而所谓的上发光型就是光不是经过底下基板而是从其反面射出。如果基板之上为高反射的阳极,而阴极是透光的,则光是经由表面的阴电极放光。阳极材料若还是使用传统的透明ITO阳极
阅读:86052018年05月04日 14:03:31摘要:利用光线透过光罩照射在感光材料上,再以溶剂浸泡将感光材料受光照射到的部份加以溶解或保留,如此所形成的光阻图案会和光罩完全相同或呈互补。由于微影制程的环境是采用黄光照明而非一般摄影暗房的红光,所以这一部份的制程常被简称为黄光。微影制程很好地
阅读:134822018年04月02日 10:38:18摘要:近日曝光的一项新专利来看,微软正在探索一种支持背部触控的移动设备,这款手机的代号为仙女座(Andromeda),而它很可能就是神秘的 Surface Phone 。这项专利名全称为Gesture Language for a Device with Multiple Touch Surfaces(面向多点触控设备的手势语
阅读:31852018年03月14日 17:27:30摘要:AMOLED显示器所面临的挑战之一,是如何有效抵抗环境光、减少显示方面的干扰,搭载圆偏光片便是其中一个解决方法。 目前圆偏光片是以1/4波长相位膜与传统偏光片结合成的抗反射片。为有效提升对比,1/4波长相位膜是关键材料,原因在于环境光的波长范围,能涵盖
阅读:153572018年02月01日 09:12:56摘要:OLED拥有卓越的颜色和画质的原因是其自发光性。显示屏幕的自发射意味着光和颜色都由像素自身发射。这个概念与使用像LCD这种接收来自外部光源(背光源)的光并通过滤光片控制光颜色的类型形成对比。 在显示器中,像素形成的方式称为色彩图案化。 基于红,绿和
阅读:44492018年01月30日 09:23:04摘要:柔性On-Cell AMOLED自2017年以来一直是三星旗舰智能手机的一项关键性差别优势。在韩国Tangjeong的A3 Gen 6工厂,三星显示器开始基于薄膜封装生产柔性AMOLED面板,使用聚酰亚胺取代玻璃基板。 在2017年,刚性(玻璃)和柔性技术被分别用于Galaxy S7和S7 Edge
阅读:89262018年01月26日 09:32:36摘要:OLED利用自身发光实现智能手机的最佳显示画质。这种OLED制造技术的关键在于如何有效地利用自身发光的有机材料。 这篇文章主要学习OLED(有机发光二极管)的核心生产流程中蒸镀之后的封装过程。所谓的封装,即通过这个流程制造的OLED面板,不受外界环境的影响
阅读:55442018年01月24日 09:23:31摘要:偏光片贴附LCD/OLED上下面,起偏光作用,偏光片使自然光变成线偏振光。 贴片工序原理 贴片工序主要是将偏光片表面的离心膜剥离之后,承载单元移动过程中, 贴附Roller将偏光片贴在panel上下表面。(贴附动作如图) 贴片动作图示 偏贴设备构成和性能指标 偏光
阅读:59592018年01月05日 10:24:30关注我们
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