OLED主要设备/材料详细规格及厂房规划合辑
摘要：主要设备 部分设备规格（仅供参考） 设备名称：自动曝光显影生产线 加工产品： 玻璃基板 加工产品尺寸： 370470 mm，370400 mm，厚度：0.5~1.1mm 操作时间： 60 秒/每片 操作人员： 每班 3 人（3 班） 工程师： 每班 1 人（3 班） 设备尺寸见下图： 设备名称
阅读：43192017年12月27日 09:22:25
摘要：主要设备 部分设备规格（仅供参考） 设备名称：自动曝光显影生产线 加工产品： 玻璃基板 加工产品尺寸： 370470 mm，370400 mm，厚度：0.5~1.1mm 操作时间： 60 秒/每片 操作人员： 每班 3 人（3 班） 工程师： 每班 1 人（3 班） 设备尺寸见下图： 设备名称
阅读：43192017年12月27日 09:22:25摘要：AMOLED发光原理 发光器件设计原则 AMOLED成像要素 显示面板的功能就是图像显示，所以谈到面板的技术参数，成像是绕不过去的一关。 视觉世界里最重要的属性是亮度和色彩。显示器可以发出红色、绿色、蓝色三种波长的光，并控制这三种光的比例，屏幕上的所有颜
阅读：58412017年12月26日 09:02:02摘要：最近，热活化延迟荧光（TADF）材料以其独特性能获得广泛关注，被认为是继传统荧光材料和重金属配合物磷光材料之后最具有发展潜力的第三代发光材料。在过去几年中，TADF材料的电致发光性能获得了长足进步。在天蓝光区域，其外量子效率（EQE）已接近37%；在绿
阅读：38002017年12月22日 14:12:51摘要：随着指纹识别的广泛应用，尤其是在移动支付领域的应用，指纹识别的安全性问题开始受到关注。 目前智能手机使用的电容式指纹传感器捕捉的是手指表面的二维图像，损失了指纹纹理深度的特征。 用黏土制造假指纹用于解锁： 超声波指纹技术原理 超声波指纹技术的
阅读：50562017年12月18日 10:07:10摘要：器件基本结构 OLED器件基本结构为多层型，多层型可以是具有异质界面的迭层型结构和模糊界面层型结构。有机电致发光器件实际上又可以分为多种器件结构，这些结构是为了适应材料性能和器件性能要求而设计的。 某些结构在提高发光效率和性能稳定性方面是相当重
阅读：53352017年12月15日 10:52:38摘要：前段时间，半导体巨头博通提出收购要约，拟斥资1000 亿元收购高通，该交易一旦成功将是半导体行业最大的一笔并购案。 而生物识别公司FPC 也在瑞典发布了屏内指纹识别方案，该技术可以在智能手机显示面板的任意位臵补货与识别应用者的指纹。这种屏内指纹识别
阅读：51612017年11月20日 09:56:39摘要：Color Filter(彩色滤光片)是组成面板中最重要的关键零组件，占面板制造总成本约四分之一，制造生产方式是在素玻璃基板上用红、绿、蓝色的光阻液原料,用黄光蚀刻方式或是其它技术(如颜料分散或转印方法)形成与红、绿、蓝三原色的长条形数组的基板。 当背面的
阅读：98522017年11月14日 08:51:43摘要：Dry Etch工序的目的 广义而言，所谓的刻蚀技术，是将显影后所产生的光阻图案真实地转印到光阻下的材质上，形成由光刻技术定义的图形。 它包含了将材质整面均匀移除及图案选择性部分去除，可分为湿式刻蚀(wet etching)和干式刻蚀(dry etching)两种技术。 湿式
阅读：335392017年11月12日 14:24:00摘要：在Array段的制程通常会分为镀膜，曝光和蚀刻三道大的工序。而蚀刻工序根据工艺和设备的不同又可以分为 干蚀刻 和 湿蚀刻 ，即Dry工序和WET工序。 WET工序 作为蚀刻工序的一种实现方式，WET工序详细来讲可以包括清洗，湿蚀刻和脱膜。 1、清洗 包括初清洗和成
阅读：62902017年11月01日 15:14:15摘要：光刻胶由光引发剂、树脂、溶剂等基础组分组成，又被称为光致抗蚀剂，这是一种对光非常敏感的化合物。此外，光刻胶中还会添加光增感剂、光致产酸剂等成分来达到提高光引发效率、优化线路图形精密度的目的。在受到紫外光曝光后，它在显影液中的溶解度会发生变
阅读：109862017年10月31日 08:28:50
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